物質合成化学講座 (詳細)

期間: 2004.4〜2023.3

2004年度(平成16年度)

patent.{@.apply.date="20040400 20050399" @.organization=\E{11105}}

2004年度(平成16年度) / 特許

1)	2,004	特許	堀田絵理, 中原淳裕, 尾下竜也, 佐藤恒之, 妹尾真紀子, 平野朋広 : 複合体およびその製造方法, 特願2004-135794 (2004年4月), 特開2005-314608 (2005年11月), 特許第4451204号 (2010年2月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,004	特許	佐藤恒之, 妹尾真紀子, 平野朋広, 堀田絵理, 中原淳裕, 尾下竜也 : ケイ素含有重合体の製造方法およびケイ素含有重合体, 特願2004-135762 (2004年4月), 特開2005-314606 (2005年11月), 特許第4568017号 (2010年8月). [EdbClient \| EDB]

2004年度(平成16年度) / 実用新案

(なし)

2004年度(平成16年度) / 意匠

(なし)

2005年度(平成17年度)

patent.{@.apply.date="20050400 20060399" @.organization=\E{11105}}

2005年度(平成17年度) / 特許

2,005

特許

森健, 南川慶二, 森裕紀 : アミド基含有高分子化合物およびその製造方法, 特願2005-317829 (2005年11月), . [EdbClient | EDB]

2005年度(平成17年度) / 実用新案

(なし)

2005年度(平成17年度) / 意匠

(なし)

2006年度(平成18年度)

patent.{@.apply.date="20060400 20070399" @.organization=\E{11105}}

2006年度(平成18年度) / 特許

1)	2,006	特許	森健, 南川慶二, 別府卓 : アミド基含有高分子化合物およびその製造方法, 特願PCT/JP2006/308986 (2006年4月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,006	特許	河村保彦, 津嘉山正夫, 市川亮一, 山本幹二, 佐々木貴啓 : スダチチンおよびノビレチンの製造方法, 特願2007-045931 (2007年2月), (2012年11月), 特許第5119397号 (2012年11月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,006	特許	加藤雅裕, 米倉大介, 大西賢治 : 粉体取扱装置用鋼製部材及び粉体取扱装置, 特願2007-073841 (2007年3月), 特開2008-230665 (2008年10月), 特許第4064438号 (2008年1月). [EdbClient \| EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

patent.{@.apply.date="20070400 20080399" @.organization=\E{11105}}

2007年度(平成19年度) / 特許

(なし)

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

patent.{@.apply.date="20080400 20090399" @.organization=\E{11105}}

2008年度(平成20年度) / 特許

2,008

特許

平野朋広, 右手浩一, 佐藤恒之, 原口将幸, 大土井啓祐 : 高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物, 特願2008-186586 (2008年7月), 特開2010-24330 (2010年2月), 特許第5473270号 (2014年2月). [EdbClient | EDB]

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

patent.{@.apply.date="20090400 20100399" @.organization=\E{11105}}

2009年度(平成21年度) / 特許

2,009

特許

百瀬陽, 右手浩一, 平野朋広 : 共重合体の定量方法, 特願2009-252192 (2009年11月), 特開2011-085564 (2011年4月), 特許第5531563号 (2014年5月). [EdbClient | EDB]

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

patent.{@.apply.date="20100400 20110399" @.organization=\E{11105}}

2010年度(平成22年度) / 特許

1)	2,010	特許	百瀬陽, 右手浩一, 平野朋広 : 光学活性芳香族ヒドロキシカルボン酸縮合体の製造方法及び光学活性化合物, 特願2010-107438 (2010年5月), 特開2010-285420 (2010年12月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,010	特許	原口将幸, 大土井啓祐, 平野朋広, 右手浩一, 佐藤恒之 : 高分岐ポリマー及びそれを含む組成物, 特願PCT/JP2010/061623 (2010年7月), 特開WO2011/004865 (2011年1月), 特許第5651111号 (2014年11月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,010	特許	平野朋広, 右手浩一, 佐藤恒之, 原口将幸, 畑中辰也, 大土井啓祐 : イオン性高分岐ポリマー及び炭素ナノ材料分散剤, 特願2010-161021 (2010年7月), 特開2012-21100 (2012年2月), 特許第5676170号 (2015年1月). [EdbClient \| EDB]
4)	2,010	特許	加藤雅裕, 堀田雅敏 : 低温脱着材料・その製造方法及び低温脱着方法, 特願2010-169835 (2010年7月), 特開2012-30152 (2012年2月), 特許第5751464号 (2016年8月). [EdbClient \| EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

patent.{@.apply.date="20110400 20120399" @.organization=\E{11105}}

2011年度(平成23年度) / 特許

(なし)

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

patent.{@.apply.date="20120400 20130399" @.organization=\E{11105}}

2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

patent.{@.apply.date="20130400 20140399" @.organization=\E{11105}}

2013年度(平成25年度) / 特許

(なし)

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

patent.{@.apply.date="20140400 20150399" @.organization=\E{11105}}

2014年度(平成26年度) / 特許

1)	2,014	特許	右手浩一, 平野朋広, 押村美幸, 加地栄一 : 新規エステル交換反応用触媒およびそれを用いたエステル化合物の製造方法, 特願2014-172501 (2014年8月), 特開2016-47799 (2016年4月), 特許第6317212号 (2018年4月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,014	特許	加藤雅裕, 真田雅和, 中川敬三 : 触媒構造体および水素製造装置, 特願2014-258550 (2014年12月), 特開2016-117028 (2016年6月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,014	特許	加藤雅裕, 米倉大介, 大西賢治 : 熱交換器, 特願2014-266900 (2014年12月), 特開2016-125762 (2016年7月), 特許第6390053号 (2018年8月). [EdbClient \| EDB]

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

patent.{@.apply.date="20150400 20160399" @.organization=\E{11105}}

2015年度(平成27年度) / 特許

2,015

特許

北尾久平, 今田泰嗣, 荒川幸弘 : ジエポキシ化合物の製造方法, 特願2015-079601 (2015年4月), . [EdbClient | EDB]

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

patent.{@.apply.date="20160400 20170399" @.organization=\E{11105}}

2016年度(平成28年度) / 特許

(なし)

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

patent.{@.apply.date="20170400 20180399" @.organization=\E{11105}}

2017年度(平成29年度) / 特許

1)	2,017	特許	右手浩一, 平野朋広, 押村美幸, 日下康成 : ビニルアルコールー酢酸ビニル共重合体の製造方法, 特願PCT/JP2017/017409 (2017年5月), 特開WO2017/195735 (2017年11月), 特許第6447896号 (2018年12月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,017	特許	加藤雅裕, 米倉大介, 大西賢治, 益田美子, 高井靖拡, 宮村和憲 : ボウル及びボウルミキサー, 特願2017-136166 (2017年7月), 特開2019-17265 (2019年2月), 特許第6935865号 (2021年8月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,017	特許	加藤雅裕, 米倉大介, 大西賢治 : 飲用容器, 特願2017-154238 (2017年8月), 特開2018-29959 (2018年3月), 特許第6880361号 (2021年5月). [EdbClient \| EDB]

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

patent.{@.apply.date="20180400 20190399" @.organization=\E{11105}}

2018年度(平成30年度) / 特許

2,018

特許

右手浩一, 平野朋広, 押村美幸, 日下康成, 西村洋平, 妹尾美咲 : ビニルアルコールー酢酸ビニル共重合体, 特願PCT/JP2018/042183 (2018年11月), 特開WO2019/098247 (2019年5月), 特許第7226734号 (2023年2月). [EdbClient | EDB]

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

patent.{@.apply.date="20190400 20200399" @.organization=\E{11105}}

2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{11105}}

2020年度(令和2年度) / 特許

1)	2,020	特許	西村洋平, 山崎莉紗, 右手浩一, 押村美幸, 平野朋広, 鍵谷遼 : ビニルアルコールーアミノ酸エステル共重合体, 特願PCT/JP2020/018635 (2020年5月), 特開WO2020/230711 (2020年11月), 特許第7384361号 (2023年11月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,020	特許	安部秀斉, 右手浩一 : 粒子を分級するための高吸水性ポリマー，及びそれを用いた分級方法, 特願JP2020-102227 (2020年6月), 特開WO2021-JP22105 (2021年6月), 特許第WO2021251462号 (2021年12月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,020	特許	太田浩二, 安部秀斉, 右手浩一 : 架橋ポリマー，物質を分離する方法，物質を分離するためのキット，疾患を検査するためのキット及び物質を分離するための装置, 特願JP2021-60546 (2021年3月), 特開WO2022-JP16441 (2022年3月), 特許第WO2022211006号 (2022年10月). [EdbClient \| EDB]

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{11105}}

2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{11105}}

2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)