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期間: 2006.4〜2012.3

2006年度(平成18年度)

patent.{@.apply.date="20060400 20070399" @.organization=\E{124880}}

2006年度(平成18年度) / 特許

1) 2,006 特許 森 健, 南川 慶二, 別府 卓 : アミド基含有高分子化合物およびその製造方法, 特願PCT/JP2006/308986 (2006年4月), . [EdbClient | EDB]
2) 2,006 特許 中井 史郎, 森 康子, 安澤 幹人 : アミノ酸修飾ー(γーポリグルタミン酸)またはその塩，およびこれらの用途, 特願2006-128657 (2006年5月), 特開2007-297559 (2007年11月), . [EdbClient | EDB]
3) 2,006 特許 安澤 幹人, 今井 信治 : 線状デバイス, 特願10/544, 243 (2006年6月), 特開20070088208 (2007年4月), . [EdbClient | EDB]
4) 2,006 特許 佐藤 恒之, 平野 朋広 : 分岐状重合体の製造方法および分岐状重合体含有分散液, 特願2006-218231 (2006年8月), 特開2008-038110 (2008年2月), . [EdbClient | EDB]
5) 2,006 特許 安澤 幹人 : マスキング方法, 特願2006-247936 (2006年9月), 特開2008-68188 (2008年3月), . [EdbClient | EDB]
6) 2,006 特許 安澤 幹人, 古川 晋也 : 生体用デバイス，生体用デバイスの接触部構造および生体センサ, 特願2007 557887 (2007年2月), 特開WO2007/091633 (2007年8月), 特許第5162757号 (2012年12月). [EdbClient | EDB]
7) 2,006 特許 河村 保彦, 津嘉山 正夫, 市川 亮一, 山本 幹二, 佐々木 貴啓 : スダチチンおよびノビレチンの製造方法, 特願2007-045931 (2007年2月), (2012年11月), 特許第5119397号 (2012年11月). [EdbClient | EDB]
8) 2,006 特許 安澤 幹人, 市橋 誠 : 磁性体結合ポリマー製凝集剤及びこれを用いた水の浄化方法, 特願2007-049127 (2007年2月), . [EdbClient | EDB]
9) 2,006 特許 加藤 雅裕, 米倉 大介, 大西 賢治 : 粉体取扱装置用鋼製部材及び粉体取扱装置, 特願2007-073841 (2007年3月), 特開2008-230665 (2008年10月), 特許第4064438号 (2008年1月). [EdbClient | EDB]
10) 2,006 特許 安澤 幹人, 野本 信一 : 撥水処理方法および撥水性シリカ層を有する基材, 特願2007- 78039 (2007年3月), 特開2008-237957 (2008年10月), . [EdbClient | EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

patent.{@.apply.date="20070400 20080399" @.organization=\E{124880}}

2007年度(平成19年度) / 特許

1) 2,007 特許 杉山 茂, 二宮 航, 姫野 嘉之, 前原 桂子 : 触媒およびその製造方法，ならびにアルケンの製造方法, 特願2007-209176 (2007年8月), 特開2009-39679 (2009年2月), . [EdbClient | EDB]
2) 2,007 特許 市橋 誠, 安澤 幹人 : 磁性体凝集剤及び磁性体凝集剤の製造方法, 特願2007-279748 (2007年10月), . [EdbClient | EDB]
3) 2,007 特許 市橋 誠, 安澤 幹人 : 磁性体凝集剤，その製造方法，及び磁性体凝集剤を用いた水の浄化方法, 特願PCT/JP2008/53580 (2008年2月), 特開WO 2008105521 (2008年9月), . [EdbClient | EDB]
4) 2,007 特許 木戸口 善行, 森賀 俊広, 村井 啓一郎, 三輪 惠, 長峰 考志 : ディーゼル機関の排気ガス浄化フィルタ, 特願2008-055552 (2008年3月), 特開2009-208025 (2009年9月), . [EdbClient | EDB]

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

patent.{@.apply.date="20080400 20090399" @.organization=\E{124880}}

2008年度(平成20年度) / 特許

1) 2,008 特許 杉山 茂, 二宮 航, 姫野 嘉之, 安川 隼也, 前原 桂子 : 乳酸塩からピルビン酸塩の製造法, 特願2008-176805 (2008年7月), 特開2010-13415 (2010年1月), . [EdbClient | EDB]
2) 2,008 特許 平野 朋広, 右手 浩一, 佐藤 恒之, 原口 将幸, 大土井 啓祐 : 高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物, 特願2008-186586 (2008年7月), 特開2010-24330 (2010年2月), 特許第5473270号 (2014年2月). [EdbClient | EDB]
3) 2,008 特許 安澤 幹人, 古川 晋也 : 生体用デバイス，生体用デバイスの接触部構造および生体センサ, 特願12/278,829 (2008年8月), 特開US2009/0069654 (2009年3月), . [EdbClient | EDB]
4) 2,008 特許 森賀 俊広, 村井 啓一郎 : 青色材料及び材料の製造方法, 特願2009-032072 (2009年2月), 特開2010-189456 (2010年9月), . [EdbClient | EDB]

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

patent.{@.apply.date="20090400 20100399" @.organization=\E{124880}}

2009年度(平成21年度) / 特許

1) 2,009 特許 百瀬 陽, 右手 浩一, 平野 朋広 : 共重合体の定量方法, 特願2009-252192 (2009年11月), 特開2011-085564 (2011年4月), 特許第5531563号 (2014年5月). [EdbClient | EDB]
2) 2,009 特許 薮谷 智規 : 目視蛍光分析用具及びそれを用いる微量重金属の分析方法, 特願2010-022067 (2010年2月), . [EdbClient | EDB]

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

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2010年度(平成22年度) / 特許

1) 2,010 特許 百瀬 陽, 右手 浩一, 平野 朋広 : 光学活性芳香族ヒドロキシカルボン酸縮合体の製造方法及び光学活性化合物, 特願2010-107438 (2010年5月), 特開2010-285420 (2010年12月), . [EdbClient | EDB]
2) 2,010 特許 原口 将幸, 大土井 啓祐, 平野 朋広, 右手 浩一, 佐藤 恒之 : 高分岐ポリマー及びそれを含む組成物, 特願PCT/JP2010/061623 (2010年7月), 特開WO2011/004865 (2011年1月), 特許第5651111号 (2014年11月). [EdbClient | EDB]
3) 2,010 特許 平野 朋広, 右手 浩一, 佐藤 恒之, 原口 将幸, 畑中 辰也, 大土井 啓祐 : イオン性高分岐ポリマー及び炭素ナノ材料分散剤, 特願2010-161021 (2010年7月), 特開2012-21100 (2012年2月), 特許第5676170号 (2015年1月). [EdbClient | EDB]
4) 2,010 特許 薮谷 智規 : レアメタルの選択的回収方法, 特願2010-164850 (2010年7月), . [EdbClient | EDB]
5) 2,010 特許 加藤 雅裕, 堀田 雅敏 : 低温脱着材料・その製造方法及び低温脱着方法, 特願2010-169835 (2010年7月), 特開2012-30152 (2012年2月), 特許第5751464号 (2016年8月). [EdbClient | EDB]
6) 2,010 特許 杉山 茂, 小西 征則, 津村 勇多, 大久保 彰 : エチレンオキサイド製造用触媒及びエチレンオキサイドの製造方法, 特願2010-176812 (2010年8月), 特開2012-035187 (2012年2月), 特許第5643931号 (2014年11月). [EdbClient | EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

patent.{@.apply.date="20110400 20120399" @.organization=\E{124880}}

2011年度(平成23年度) / 特許

(なし)

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)