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期間: 2006.42012.3

2006年度(平成18年度)

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2006年度(平成18年度) / 特許

1) 2,006 特許 根本 尚夫, 神谷 昌樹, 土屋 浩一郎 : ポリアルコール化合物, 特願2007-020062 (2007年1月), . [EdbClient | EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

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2007年度(平成19年度) / 特許

1) 2,007 特許 高石 喜久, 土屋 浩一郎 : 新規NAD依存性脱アセチル化酵素活性化剤, 特願2007-301398 (2007年11月), 特開2009-126799 (2009年6月), . [EdbClient | EDB]

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

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2008年度(平成20年度) / 特許

(なし)

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

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2009年度(平成21年度) / 特許

1) 2,009 特許 根本 尚夫, 河村 知志, 八塚 研治, 神谷 昌樹 : ジエチレントリアミン五酢酸誘導体の製造方法およびジエチレントリアミン五酢酸誘導体, 特願2009-238696 (2009年10月), 特開2012-999999 (2011年4月), 特許第WO2011046007号 (2011年). [EdbClient | EDB]
2) 2,009 特許 福井 裕行, 高石 喜久, 水口 博之, 柏田 良樹, 根本 尚夫 : アレルギー疾患感受性遺伝子発現抑制物質, 特願2009-284069 (2009年12月), 特許第PCT/KR2010/008995号 (2009年12月). [EdbClient | EDB]
3) 2,009 特許 根本 尚夫, 服部 初彦 : 5-ヒドロキシ-1,3-ジオキサンの製造方法および該方法により得られた5-ヒドロキシ-1,3-ジオキサンを原料とした分岐型グリセロール3量体の製造方法, 特願2010-043164 (2010年2月), 特開2012-999999 (2012年6月), 特許第9999999999号 (2015年). [EdbClient | EDB]

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

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2010年度(平成22年度) / 特許

1) 2,010 特許 根本 尚夫, 土屋 浩一郎, 片桐 彩人 : パクリタキセル誘導体, 特願2010-270797 (2010年10月), 特開2012-999999 (2012年4月), 特許第9999999999号 (2010年). [EdbClient | EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

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2011年度(平成23年度) / 特許

1) 2,011 特許 寺尾 純二, 向井 理恵, 根本 尚夫, 河村 知志, 福本 修一 : 筋萎縮抑制剤,およびその使用方法, (2011年8月), (2013年2月), 特許第2013-035811号. [EdbClient | EDB]

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)