薬学専攻 (詳細)

期間: 2012.4〜2025.3

2012年度(平成24年度)

patent.{@.apply.date="20120400 20130399" @.organization=\E{262728}}

2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

patent.{@.apply.date="20130400 20140399" @.organization=\E{262728}}

2013年度(平成25年度) / 特許

(なし)

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

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2014年度(平成26年度) / 特許

2,014

特許

竹内敏己, 土屋浩一郎, 阿部武由, 福岡憲泰 : 薬物動態パラメータの推定方法及び薬物動態パラメータの推定プログラム, 特願2014-63011 (2014年6月), 特開2015-181853 (2015年10月), . [EdbClient | EDB]

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

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2015年度(平成27年度) / 特許

2,015

特許

土屋浩一郎 : 光応答性消臭抗菌剤, (2016年2月), (2017年9月), 特許第2017-154985(P2017-154985A)号 (2017年9月). [EdbClient | EDB]

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

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2016年度(平成28年度) / 特許

1)	2,016	特許	丸山徹, 池田真由美, 異島優, 水田夕稀 : 美白化粧料，及びそれに含まれるアルブミン系化合物の製造方法, 特願2016-164615 (2016年8月), 特開2017-42617 (2017年3月), 特許第2017-42617号 (2017年3月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,016	特許	土屋浩一郎, 木下良治 : 前処理装置, (2016年10月), (2017年4月), 特許第2017-78716(P2017-78716A)号 (2017年4月). [EdbClient \| EDB]

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

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2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

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2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

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2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{262728}}

2020年度(令和2年度) / 特許

(なし)

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{262728}}

2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{262728}}

2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

patent.{@.apply.date="20230400 20240399" @.organization=\E{262728}}

2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{262728}}

2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)