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期間: 2015.42025.3

2004年度(平成16年度)

2004年度(平成16年度) / 特許

(なし)

2004年度(平成16年度) / 実用新案

(なし)

2004年度(平成16年度) / 意匠

(なし)

2005年度(平成17年度)

2005年度(平成17年度) / 特許

(なし)

2005年度(平成17年度) / 実用新案

(なし)

2005年度(平成17年度) / 意匠

(なし)

2006年度(平成18年度)

2006年度(平成18年度) / 特許

1) 2,006 特許 根本 尚夫, 神谷 昌樹, 土屋 浩一郎 : ポリアルコール化合物, 特願2007-020062 (2007年1月), . [EdbClient | EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

2007年度(平成19年度) / 特許

(なし)

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

2008年度(平成20年度) / 特許

(なし)

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

2009年度(平成21年度) / 特許

1) 2,009 特許 根本 尚夫, 河村 知志, 八塚 研治, 神谷 昌樹 : ジエチレントリアミン五酢酸誘導体の製造方法およびジエチレントリアミン五酢酸誘導体, 特願2009-238696 (2009年10月), 特開2012-999999 (2011年4月), 特許第WO2011046007号 (2011年). [EdbClient | EDB]
2) 2,009 特許 福井 裕行, 高石 喜久, 水口 博之, 柏田 良樹, 根本 尚夫 : アレルギー疾患感受性遺伝子発現抑制物質, 特願2009-284069 (2009年12月), 特許第PCT/KR2010/008995号 (2009年12月). [EdbClient | EDB]
3) 2,009 特許 根本 尚夫, 服部 初彦 : 5-ヒドロキシ-1,3-ジオキサンの製造方法および該方法により得られた5-ヒドロキシ-1,3-ジオキサンを原料とした分岐型グリセロール3量体の製造方法, 特願2010-043164 (2010年2月), 特開2012-999999 (2012年6月), 特許第9999999999号 (2015年). [EdbClient | EDB]

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

2010年度(平成22年度) / 特許

1) 2,010 特許 根本 尚夫, 土屋 浩一郎, 片桐 彩人 : パクリタキセル誘導体, 特願2010-270797 (2010年10月), 特開2012-999999 (2012年4月), 特許第9999999999号 (2010年). [EdbClient | EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

2011年度(平成23年度) / 特許

1) 2,011 特許 寺尾 純二, 向井 理恵, 根本 尚夫, 河村 知志, 福本 修一 : 筋萎縮抑制剤,およびその使用方法, (2011年8月), (2013年2月), 特許第2013-035811号. [EdbClient | EDB]

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

2013年度(平成25年度) / 特許

(なし)

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

2014年度(平成26年度) / 特許

(なし)

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

patent.{@.apply.date="20150400 20160399" @.organization=\E{293201}}

2015年度(平成27年度) / 特許

(なし)

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

patent.{@.apply.date="20160400 20170399" @.organization=\E{293201}}

2016年度(平成28年度) / 特許

(なし)

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

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2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

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2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

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2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{293201}}

2020年度(令和2年度) / 特許

1) 2,020 特許 寺町 順平, 中尾 允泰, 佐野 茂樹, 安倍 正博, 原田 武志 : PIM2阻害剤, 特願2021- 14411 (2021年2月), 特許第110000796号 (2021年2月). [EdbClient | EDB]

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

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2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

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2022年度(令和4年度) / 特許

1) 2,022 特許 小暮 健太朗 : 皮膚通電用組成物及びその利用, 特願2023-002384 (2023年1月), . [EdbClient | EDB]

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

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2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{293201}}

2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)