機能分子合成薬学 (詳細)

期間: 2015.4〜2025.3

2004年度(平成16年度)

2004年度(平成16年度) / 特許

(なし)

2004年度(平成16年度) / 実用新案

(なし)

2004年度(平成16年度) / 意匠

(なし)

2005年度(平成17年度)

2005年度(平成17年度) / 特許

(なし)

2005年度(平成17年度) / 実用新案

(なし)

2005年度(平成17年度) / 意匠

(なし)

2006年度(平成18年度)

2006年度(平成18年度) / 特許

2,006

特許

根本尚夫, 神谷昌樹, 土屋浩一郎 : ポリアルコール化合物, 特願2007-020062 (2007年1月), . [EdbClient | EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

2007年度(平成19年度) / 特許

(なし)

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

2008年度(平成20年度) / 特許

(なし)

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

2009年度(平成21年度) / 特許

1)	2,009	特許	根本尚夫, 河村知志, 八塚研治, 神谷昌樹 : ジエチレントリアミン五酢酸誘導体の製造方法およびジエチレントリアミン五酢酸誘導体, 特願2009-238696 (2009年10月), 特開2012-999999 (2011年4月), 特許第WO2011046007号 (2011年). [EdbClient \| EDB]
2)	2,009	特許	福井裕行, 高石喜久, 水口博之, 柏田良樹, 根本尚夫 : アレルギー疾患感受性遺伝子発現抑制物質, 特願2009-284069 (2009年12月), 特許第PCT/KR2010/008995号 (2009年12月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,009	特許	根本尚夫, 服部初彦 : 5-ヒドロキシ-1，3-ジオキサンの製造方法および該方法により得られた5-ヒドロキシ-1，3-ジオキサンを原料とした分岐型グリセロール3量体の製造方法, 特願2010-043164 (2010年2月), 特開2012-999999 (2012年6月), 特許第9999999999号 (2015年). [EdbClient \| EDB]

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

2010年度(平成22年度) / 特許

2,010

特許

根本尚夫, 土屋浩一郎, 片桐彩人 : パクリタキセル誘導体, 特願2010-270797 (2010年10月), 特開2012-999999 (2012年4月), 特許第9999999999号 (2010年). [EdbClient | EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

2011年度(平成23年度) / 特許

2,011

特許

寺尾純二, 向井理恵, 根本尚夫, 河村知志, 福本修一 : 筋萎縮抑制剤，およびその使用方法, (2011年8月), (2013年2月), 特許第2013-035811号. [EdbClient | EDB]

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

2013年度(平成25年度) / 特許

(なし)

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

2014年度(平成26年度) / 特許

(なし)

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

patent.{@.apply.date="20150400 20160399" @.organization=\E{293323}}

2015年度(平成27年度) / 特許

(なし)

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

patent.{@.apply.date="20160400 20170399" @.organization=\E{293323}}

2016年度(平成28年度) / 特許

(なし)

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

patent.{@.apply.date="20170400 20180399" @.organization=\E{293323}}

2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

patent.{@.apply.date="20180400 20190399" @.organization=\E{293323}}

2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

patent.{@.apply.date="20190400 20200399" @.organization=\E{293323}}

2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{293323}}

2020年度(令和2年度) / 特許

(なし)

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{293323}}

2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{293323}}

2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

patent.{@.apply.date="20230400 20240399" @.organization=\E{293323}}

2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{293323}}

2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)