エネルギーシステム講座 (詳細)

期間: 2016.4〜2025.3

2004年度(平成16年度)

2004年度(平成16年度) / 特許

2,004

特許

小島啓嗣, 荒木禎史, 篠田真希, 浮田浩行 : 画像補正装置，画像読取装置，プログラム及び記憶媒体, 特願2004-165559 (2004年6月), 特開2005-348103 (2005年12月), 特許第4271085号 (2009年3月). [EdbClient | EDB]

2004年度(平成16年度) / 実用新案

(なし)

2004年度(平成16年度) / 意匠

(なし)

2005年度(平成17年度)

2005年度(平成17年度) / 特許

1)	2,005	特許	小島啓嗣, 荒木禎史, 篠田真希, 浮田浩行 : 走査画像の修正背景色, 特願143730 (2005年6月), 特開US2005280849AA (2005年12月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,005	特許	小島啓嗣, 荒木禎史, 浮田浩行 : 画像処理装置，画像処理方法，プログラム及びプログラムを格納した記憶媒体, 特願2005-362377 (2005年12月), 特開2007-166429 (2007年6月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,005	特許	小島啓嗣, 浮田浩行 : 画像処理装置，画像処理方法，プログラム及びプログラムを格納した記憶媒体, 特願2005-362378 (2005年12月), 特開2007-166430 (2007年6月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,005	特許	小島啓嗣, 浮田浩行 : 画像処理装置，画像処理方法，プログラム及びプログラムを格納した記憶媒体, 特願2005-362379 (2005年12月), 特開2007-166431 (2007年6月), . [EdbClient \| EDB]

2005年度(平成17年度) / 実用新案

(なし)

2005年度(平成17年度) / 意匠

(なし)

2006年度(平成18年度)

2006年度(平成18年度) / 特許

(なし)

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

2007年度(平成19年度) / 特許

(なし)

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

2008年度(平成20年度) / 特許

(なし)

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

2009年度(平成21年度) / 特許

(なし)

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

2010年度(平成22年度) / 特許

(なし)

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

2011年度(平成23年度) / 特許

1)	2,011	特許	浅海慎一郎, 青木直志, 高桑義直, 出口祥啓 : 濃度計測装置, 特願2011-107617 (2011年5月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,011	特許	出口祥啓, 北内洋介, 稲田満 : 流体成分分析機構及び発熱量計測装置並びに発電プラント, 特願2011-190702 (2011年9月), . [EdbClient \| EDB]

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

2012年度(平成24年度) / 特許

2,012

特許

長町拓夫, 仲子武文, 中村大輔 : 切り口変形の少ない多角形断面を持つ管のロール成形方法, 特願2012-145316 (2012年6月), 特開2014-008514 (2014年1月), 特許第B21C-037/15号 (2014年1月). [EdbClient | EDB]

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

2013年度(平成25年度) / 特許

1)	2,013	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師寺忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願2013-099081 (2013年5月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,013	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願2013-159836 (2013年7月), 特開2015-31544 (2015年2月), 特許第5973969号 (2016年7月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,013	特許	出口祥啓, 神本崇博 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願2013-171366 (2013年8月), 特開2015-040747 (2015年3月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,013	特許	出口祥啓, 神本崇博 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願2013-171366 (2013年8月), 特開2015-040747, 特許第6057430号 (2016年6月). [EdbClient \| EDB]

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

2014年度(平成26年度) / 特許

1)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願PCT/JP2014/002376 (2014年4月), 特開WO2014/181527 (2015年11月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願201480008102.6(China) (2014年4月), 特開US2016/0061704A1(China) (2016年1月), 特許第ZL201480008102.6号 (2018年11月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願103116237(Taiwan) (2014年5月), 特開201510501(Taiwan) (2015年3月), 特許第515421(Taiwan)号 (2016年1月). [EdbClient \| EDB]
4)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師寺忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願2014-096920 (2014年5月), 特開2014-238391 (2014年12月), 特許第6326284号 (2018年4月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師寺忠幸 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願2014-96920 (2014年5月), 特開2014-238391 (2014年12月), . [EdbClient \| EDB]
6)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願PCT/JP2014/003830 (2014年7月), 特開WO2015/015750 (2015年2月), . [EdbClient \| EDB]
7)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願201480022888.7(China) (2014年7月), 特開CN105556283B(China) (2016年5月), 特許第ZL 201480022888.7号 (2019年1月). [EdbClient \| EDB]
8)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願103125860(Taiwan) (2014年7月), 特開201520532(Taiwan) (2015年6月), 特許第I586955(Taiwan)号 (2017年6月). [EdbClient \| EDB]
9)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願103125860(Taiwan) (2014年7月), 特開201520532(Taiwan) (2015年6月), . [EdbClient \| EDB]
10)	2,014	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願2014-154307 (2014年7月), . [EdbClient \| EDB]
11)	2,014	特許	出口祥啓, 神本崇博 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願PCT/JP2014/071877 (2014年8月), 特開WO2015/025919 (2015年2月), . [EdbClient \| EDB]
12)	2,014	特許	出口祥啓, 神本崇博 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願14/913,296(USA) (2014年8月), 特開US2016/0178517A1 (2016年6月), 特許第10302563号 (2019年5月). [EdbClient \| EDB]
13)	2,014	特許	出口祥啓, 神本崇博 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願201540747 (2015年3月), 特開2013171366 (2013年8月), . [EdbClient \| EDB]

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

2015年度(平成27年度) / 特許

1)	2,015	特許	出口祥啓 : 流体組成分析装置，熱量計，これを備えているガスタービンプラント，及びその運転方法, 特願201572179 (2015年4月), 特開2013207706 (2013年10月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願2015-7018464(Korea) (2015年7月), 特開2015-0093232(Korea) (2015年8月), 特許第1722013号 (2017年3月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願PCT/JP2015/003692 (2015年7月), 特開WO2016/017122 (2016年2月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願15/321,398(USA) (2015年7月), 特開US2017/0199117A1(Taiwan) (2017年5月), 特許第10222323号 (2019年3月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願104124254(Taiwan) (2015年7月), 特開201610414(Taiwan) (2016年3月), 特許第I681181号 (2020年1月). [EdbClient \| EDB]
6)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願201580024410.2(China) (2015年7月), 特開CN106662524A(China) (2016年3月), . [EdbClient \| EDB]
7)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願201480008102.6(China) (2015年8月), 特開CN105247344A(China) (2016年1月), . [EdbClient \| EDB]
8)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2015-161234 (2015年8月), . [EdbClient \| EDB]
9)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2015-161233 (2015年8月), . [EdbClient \| EDB]
10)	2,015	特許	賀谷龍, 小林慎一, 中野秀亮, 木戸口善行, 名田譲 : 内燃機関, 特願2015-197900 (2015年10月), 特開2017-72031 (2017年4月), . [EdbClient \| EDB]
11)	2,015	特許	賀谷龍, 小林慎一, 中野秀亮, 木戸口善行, 名田譲 : 内燃機関, 特願2015-197902 (2015年10月), 特開2017-72032 (2017年4月), . [EdbClient \| EDB]
12)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願2015-7027686(Korea) (2015年10月), 特開2015-0133745 (Korea) (2015年11月), 特許第1737377号 (2017年5月). [EdbClient \| EDB]
13)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願201480022888.7(China) (2015年10月), 特開CN105556283A(China) (2016年5月), . [EdbClient \| EDB]
14)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願11201509120V(Singapore) (2015年11月), 特開11201509120V(Singapore) (2015年12月), 特許第11201509120V号 (2017年1月). [EdbClient \| EDB]
15)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 土肥亮介, 池田信一, 西野功二, 山路道雄, 薬師神忠幸 : 原料流体濃度検出器, 特願14/888,841(USA) (2015年11月), 特開US2016/0061704A1(USA) (2016年3月), 特許第9651467号 (2017年5月). [EdbClient \| EDB]
16)	2,015	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願2016-000897 (2016年1月), . [EdbClient \| EDB]
17)	2,015	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願2016-000896 (2016年1月), . [EdbClient \| EDB]
18)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願11201600596Y(Singapore) (2016年1月), 特開11201600596Y(Singapore) (2016年2月), 特許第11201600596Y号 (2017年7月). [EdbClient \| EDB]
19)	2,015	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願14/909,424(USA) (2016年2月), 特開US2016/0169800A1 (USA) (2016年6月), 特許第10371630号 (2019年8月). [EdbClient \| EDB]
20)	2,015	特許	出口祥啓, 神本崇博 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願14/913,296(USA) (2016年2月), 特開US2016/0178517A1 (USA) (2016年6月), . [EdbClient \| EDB]

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

patent.{@.apply.date="20160400 20170399" @.organization=\E{309264}}

2016年度(平成28年度) / 特許

1)	2,016	特許	Fang-Jung Shiou, 出口祥啓, Chien-Yuan Chen : OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, 特願105204685 (2016年4月), 特許第明526688号 (2016年8月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,016	特許	Fang-Jung Shiou, 出口祥啓, Chien-Yuan Chen : OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, 特願105204685(Taiwan) (2016年4月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,016	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2016-099035 (2016年5月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願2016-537745 (2016年7月), 特開WO2016/017122 (2016年2月), 特許第6653881号 (2020年1月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,016	特許	出口祥啓, 府川隆, 服部大輝, 永瀬正明, 田中一輝, 西野功二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願2016-149189 (2016年7月), . [EdbClient \| EDB]
6)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願PCT/JP2016/003668 (2016年8月), 特開WO2017/029791 (2017年2月), . [EdbClient \| EDB]
7)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-7032580(Korea) (2016年8月), 特開2017-0134741 (2017年12月), 特許第10-2027264号 (2019年9月). [EdbClient \| EDB]
8)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-7032581(Korea) (2016年8月), 特開2017-0134742 (2017年12月), 特許第10-2082172号 (2020年2月). [EdbClient \| EDB]
9)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願201680025146.9(China) (2016年8月), 特開CN107850533 (2018年3月), 特許第ZL201680025146.9号 (2020年6月). [EdbClient \| EDB]
10)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願201680025238.7(China) (2016年8月), 特開CN107923841 (2018年4月), 特許第ZL201680025238.7号 (202年7月). [EdbClient \| EDB]
11)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願15/748,264 (2016年8月), 特開US2018/0217054A1 (2018年8月), 特許第10976240号 (2021年4月). [EdbClient \| EDB]
12)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-535234 (2016年8月), 特許第6811966号 (2020年12月). [EdbClient \| EDB]
13)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-535233 (2016年8月), . [EdbClient \| EDB]
14)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願105126104(Taiwan) (2016年8月), 特開201716768 (2017年5月), 特許第I644094号 (2018年8月). [EdbClient \| EDB]
15)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願105126104 (2016年8月), 特開201716768 (2017年5月), . [EdbClient \| EDB]
16)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願105126105(Taiwan) (2016年8月), 特開201719148 (2017年6月), 特許第I644092号 (2018年12月). [EdbClient \| EDB]
17)	2,016	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願2017-560088 (2016年12月), 特開WO2017/119282 (2017年7月), 特許第6710839号 (2020年6月). [EdbClient \| EDB]
18)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願PCT/JP2016/087949 (2016年12月), 特開WO2017/119283 (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
19)	2,016	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願PCT/JP2016/087948 (2016年12月), 特開WO2017/119282 (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
20)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願201680077813.8(China) (2016年12月), 特開108463710 (2018年8月), 特許第201780030052.5号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
21)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願16/068,087(USA) (2016年12月), 特開2019-0049368 (2019年2月), 特許第10732099号 (2020年8月). [EdbClient \| EDB]
22)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願2017-560089 (2016年12月), 特許第6761431号 (2020年9月). [EdbClient \| EDB]
23)	2,016	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願108463710 (2016年12月), . [EdbClient \| EDB]
24)	2,016	特許	賀谷龍, 中野秀亮, 小林慎一, 木戸口善行, 名田譲 : ガスエンジン, 特願2016-254690 (2016年12月), 特開2018-66369 (2018年4月), 特許第6714198号 (2020年6月). [EdbClient \| EDB]
25)	2,016	特許	島文男, 松本卓也, 岡田正弘, 三輪昌史, 浮田浩行, 柳下勇, 遠宮史一 : 有床人工歯製造装置，有床人工歯製造システム及び有床人工歯の製造方法, 特願2017-5753 (2017年1月), . [EdbClient \| EDB]

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

patent.{@.apply.date="20170400 20180399" @.organization=\E{309264}}

2017年度(平成29年度) / 特許

1)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願PCT/JP2017/018180 (2017年5月), 特開WO2017/199904 (2017年5月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願201780030052.5 (2017年5月), 特開109154567 (2019年1月), 特許第201780030052.5号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願PCT/JP2017/018180 (2017年5月), 特許第6901145号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
4)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2018-518282 (2017年5月), 特許第6901145号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2018-7032982 (2017年5月), . [EdbClient \| EDB]
6)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願PCT/JP2017/026868 (2017年7月), 特許第6912766号 (2021年7月). [EdbClient \| EDB]
7)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願106125228(Taiwan) (2017年7月), 特開201816389 (2018年5月), 特許第I651529号 (2019年2月). [EdbClient \| EDB]
8)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願16/320,002(USA) (2017年7月), 特開2019-0271636 (2019年9月), 特許第10928303号 (2021年2月). [EdbClient \| EDB]
9)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願2018-7024156(Kore) (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
10)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願201780018319.9(China) (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
11)	2,017	特許	仁木守一, 喜来祐太朗, 浮田浩行 : 自動車のフロントガラス内の割れ検出方法, 特願2017-184199 (2017年9月), 特開2019-60664 (2019年4月), 特許第6989843号 (2021年12月). [EdbClient \| EDB]
12)	2,017	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願15/748,261(USA) (2018年1月), 特開US2018/0217053A1 (2018年8月), 特許第10324029号 (2019年6月). [EdbClient \| EDB]
13)	2,017	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願15/748,264(USA) (2018年1月), 特開US2018/0217054A1 (2018年8月), 特許第10976240号 (2021年4月). [EdbClient \| EDB]

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

patent.{@.apply.date="20180400 20190399" @.organization=\E{309264}}

2018年度(平成30年度) / 特許

2,018

特許

出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願2018-7023285(Korea) (2018年8月), 特開WO2016/017122 (2016年2月), 特許第10-2128293号 (2020年6月). [EdbClient | EDB]

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

patent.{@.apply.date="20190400 20200399" @.organization=\E{309264}}

2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

1)	2,019	特許	出口祥啓, 佐藤直希, 谷脇亘, 田中勲 : 元素組成分析方法, 特願2019-164646 (2019年9月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,019	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願2020-044828 (2020年3月), . [EdbClient \| EDB]

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{309264}}

2020年度(令和2年度) / 特許

1)	2,020	特許	出口祥啓, 神本崇博 : ガス分析装置及びガス分析方法, 特願2020-070788 (2020年4月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,020	特許	出口祥啓, 神本崇博, Wang Zhenzhen, Yan Junjie : 工業プロセスインテリジェント制御方法及びシステム, 特願PCT/CN2020/132679 (2020年11月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,020	特許	出口祥啓, 神本崇博, Wang Zhenzhen, Yan Junjie : 工業プロセスインテリジェント制御方法及びシステム, 特願202080003105.6 (2020年11月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,020	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願PCT/JP2021/008377 (2021年3月), . [EdbClient \| EDB]
5)	2,020	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願110108657() (2021年3月), . [EdbClient \| EDB]

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{309264}}

2021年度(令和3年度) / 特許

2,021

特許

出口祥啓, 神本崇博 : ガス分析装置及びガス分析方法, 特願PCT/JP2021/014196 (2021年4月), . [EdbClient | EDB]

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{309264}}

2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

patent.{@.apply.date="20230400 20240399" @.organization=\E{309264}}

2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{309264}}

2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)