エネルギーシステム分野 (詳細)

期間: 2017.4〜2025.3

2016年度(平成28年度)

2016年度(平成28年度) / 特許

1)	2,016	特許	Fang-Jung Shiou, 出口祥啓, Chien-Yuan Chen : OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, 特願105204685 (2016年4月), 特許第明526688号 (2016年8月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,016	特許	Fang-Jung Shiou, 出口祥啓, Chien-Yuan Chen : OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, 特願105204685(Taiwan) (2016年4月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,016	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2016-099035 (2016年5月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願2016-537745 (2016年7月), 特開WO2016/017122 (2016年2月), 特許第6653881号 (2020年1月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,016	特許	出口祥啓, 府川隆, 服部大輝, 永瀬正明, 田中一輝, 西野功二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願2016-149189 (2016年7月), . [EdbClient \| EDB]
6)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願PCT/JP2016/003668 (2016年8月), 特開WO2017/029791 (2017年2月), . [EdbClient \| EDB]
7)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-7032580(Korea) (2016年8月), 特開2017-0134741 (2017年12月), 特許第10-2027264号 (2019年9月). [EdbClient \| EDB]
8)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-7032581(Korea) (2016年8月), 特開2017-0134742 (2017年12月), 特許第10-2082172号 (2020年2月). [EdbClient \| EDB]
9)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願201680025146.9(China) (2016年8月), 特開CN107850533 (2018年3月), 特許第ZL201680025146.9号 (2020年6月). [EdbClient \| EDB]
10)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願201680025238.7(China) (2016年8月), 特開CN107923841 (2018年4月), 特許第ZL201680025238.7号 (202年7月). [EdbClient \| EDB]
11)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願15/748,264 (2016年8月), 特開US2018/0217054A1 (2018年8月), 特許第10976240号 (2021年4月). [EdbClient \| EDB]
12)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-535234 (2016年8月), 特許第6811966号 (2020年12月). [EdbClient \| EDB]
13)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-535233 (2016年8月), . [EdbClient \| EDB]
14)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願105126104(Taiwan) (2016年8月), 特開201716768 (2017年5月), 特許第I644094号 (2018年8月). [EdbClient \| EDB]
15)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願105126104 (2016年8月), 特開201716768 (2017年5月), . [EdbClient \| EDB]
16)	2,016	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願105126105(Taiwan) (2016年8月), 特開201719148 (2017年6月), 特許第I644092号 (2018年12月). [EdbClient \| EDB]
17)	2,016	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願2017-560088 (2016年12月), 特開WO2017/119282 (2017年7月), 特許第6710839号 (2020年6月). [EdbClient \| EDB]
18)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願PCT/JP2016/087949 (2016年12月), 特開WO2017/119283 (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
19)	2,016	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願PCT/JP2016/087948 (2016年12月), 特開WO2017/119282 (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
20)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願201680077813.8(China) (2016年12月), 特開108463710 (2018年8月), 特許第201780030052.5号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
21)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願16/068,087(USA) (2016年12月), 特開2019-0049368 (2019年2月), 特許第10732099号 (2020年8月). [EdbClient \| EDB]
22)	2,016	特許	出口祥啓 : レーザ光を用いたガス分析装置及びガス分析方法, 特願2017-560089 (2016年12月), 特許第6761431号 (2020年9月). [EdbClient \| EDB]
23)	2,016	特許	出口祥啓, 神本崇博, 高木琢 : レーザ光を用いたガス分析装置及びそれに用いる計測セル, 特願108463710 (2016年12月), . [EdbClient \| EDB]
24)	2,016	特許	賀谷龍, 中野秀亮, 小林慎一, 木戸口善行, 名田譲 : ガスエンジン, 特願2016-254690 (2016年12月), 特開2018-66369 (2018年4月), 特許第6714198号 (2020年6月). [EdbClient \| EDB]

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

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2017年度(平成29年度) / 特許

1)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願PCT/JP2017/018180 (2017年5月), 特開WO2017/199904 (2017年5月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願201780030052.5 (2017年5月), 特開109154567 (2019年1月), 特許第201780030052.5号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願PCT/JP2017/018180 (2017年5月), 特許第6901145号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
4)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2018-518282 (2017年5月), 特許第6901145号 (2021年6月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,017	特許	出口祥啓, シュウファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2018-7032982 (2017年5月), . [EdbClient \| EDB]
6)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願PCT/JP2017/026868 (2017年7月), 特許第6912766号 (2021年7月). [EdbClient \| EDB]
7)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願106125228(Taiwan) (2017年7月), 特開201816389 (2018年5月), 特許第I651529号 (2019年2月). [EdbClient \| EDB]
8)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願16/320,002(USA) (2017年7月), 特開2019-0271636 (2019年9月), 特許第10928303号 (2021年2月). [EdbClient \| EDB]
9)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願2018-7024156(Kore) (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
10)	2,017	特許	出口祥啓, 明府川隆, 服部大輝, 永瀬正, 田中一輝, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定装置, 特願201780018319.9(China) (2017年7月), . [EdbClient \| EDB]
11)	2,017	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願15/748,261(USA) (2018年1月), 特開US2018/0217053A1 (2018年8月), 特許第10324029号 (2019年6月). [EdbClient \| EDB]
12)	2,017	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 山路道雄, 池田信一, 西野巧二, 川嶋将慈, 田中一輝 : 濃度測定装置, 特願15/748,264(USA) (2018年1月), 特開US2018/0217054A1 (2018年8月), 特許第10976240号 (2021年4月). [EdbClient \| EDB]

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

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2018年度(平成30年度) / 特許

2,018

特許

出口祥啓, 永瀬正明, 池田信一, 山路道雄, 薬師神忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願2018-7023285(Korea) (2018年8月), 特開WO2016/017122 (2016年2月), 特許第10-2128293号 (2020年6月). [EdbClient | EDB]

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

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2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

1)	2,019	特許	出口祥啓, 佐藤直希, 谷脇亘, 田中勲 : 元素組成分析方法, 特願2019-164646 (2019年9月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,019	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願2020-044828 (2020年3月), . [EdbClient \| EDB]

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

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2020年度(令和2年度) / 特許

1)	2,020	特許	出口祥啓, 神本崇博 : ガス分析装置及びガス分析方法, 特願2020-070788 (2020年4月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,020	特許	出口祥啓, 神本崇博, Wang Zhenzhen, Yan Junjie : 工業プロセスインテリジェント制御方法及びシステム, 特願PCT/CN2020/132679 (2020年11月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,020	特許	出口祥啓, 神本崇博, Wang Zhenzhen, Yan Junjie : 工業プロセスインテリジェント制御方法及びシステム, 特願202080003105.6 (2020年11月), . [EdbClient \| EDB]
4)	2,020	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願PCT/JP2021/008377 (2021年3月), . [EdbClient \| EDB]
5)	2,020	特許	出口祥啓, 永瀬正明, 西野巧二, 池田信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願110108657() (2021年3月), . [EdbClient \| EDB]

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

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2021年度(令和3年度) / 特許

2,021

特許

出口祥啓, 神本崇博 : ガス分析装置及びガス分析方法, 特願PCT/JP2021/014196 (2021年4月), . [EdbClient | EDB]

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

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2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

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2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

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2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)