Excel(xlsx) for Microsoft Excel, CSV(UTF-8) for Apple Numbers, TEXT for Text Editor, DOCX for Microsoft Word
期間: 2022.42026.3

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{391810}}

2022年度(令和4年度) / 特許

1) 2,022 特許 出口 祥啓, 永瀬 正明, 西野 巧二, 池田 信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願10-2022-7016364 (KOREA) (2022年5月), 特許第10-2733863(KOREA)号 (2024年11月). [EdbClient | EDB]
2) 2,022 特許 出口 祥啓, 永瀬 正明, 西野 巧二, 池田 信一 : 濃度測定方法および濃度測定装置, 特願PCT/JP2021/008377 (2022年7月), 特許第12,078,590(USA)号 (2024年9月). [EdbClient | EDB]
3) 2,022 特許 福井 涼, 石川 真志, 西野 秀郎 : 超音波励起サーモグラフィ非破壊検査における定在波起因の発熱低減方法,そのシステム及びそのプログラム, 特願2022-112835 (2022年7月), 特開2024-11106 (2024年1月), 特許第7623642号 (2025年1月). [EdbClient | EDB]

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

patent.{@.apply.date="20230400 20240399" @.organization=\E{391810}}

2023年度(令和5年度) / 特許

1) 2,023 特許 白瀬 左京, 髙岩 昌弘 : 制御入力生成装置,制御装置,制御入力生成方法,アクチュエータおよび演算回路, 特願2023-98254 (2023年6月), . [EdbClient | EDB]

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{391810}}

2024年度(令和6年度) / 特許

1) 2,024 特許 牧本 宜大, 奈良 悠矢, 溝渕 啓 : 切削加工時の異常検出方法および装置, 特願2024-076209 (2024年5月), . [EdbClient | EDB]
2) 2,024 特許 大石 昌嗣, 安井 武史, 江本 顕雄 : 撮像装置, 特願2025-026846 (2025年2月), . [EdbClient | EDB]

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)

2025年度(令和7年度)

patent.{@.apply.date="20250400 20260399" @.organization=\E{391810}}

2025年度(令和7年度) / 特許

1) 2,025 特許 石川 真志, 西野 秀郎 : サーモグラフィ非破壊検査装置,非破壊検査方法,コンピュータプログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器, 特願2025-104468 (2025年6月), . [EdbClient | EDB]

2025年度(令和7年度) / 実用新案

(なし)

2025年度(令和7年度) / 意匠

(なし)