四国産学官連携イノベーション共同推進機構 (詳細)

期間: 2013.9〜2025.3

2013年度(平成25年度)

patent.{@.apply.date="20130900 20140399" @.organization=\E{68727}}

2013年度(平成25年度) / 特許

1)	2,013	特許	野地澄晴, 川那辺純一, 宮脇克行, 木田琢郎, 佐々木啓幸, 佐藤靖夫, 平田和弘, 金慶日 : 3次元イムノクロマトグラフィー方式を用いた検査診断用シート，検査診断用デバイス，および標識物の検出方法, 特願2013-239149 (2013年11月), 特開2015-099095 (2015年5月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,013	特許	野地澄晴, 川那辺純一, 宮脇克行, 木田琢郎, 佐々木啓幸, 佐藤靖夫, 平田和弘, 金慶日 : 3次元イムノクロマトグラフィー方式を用いた糖尿病検査診断用シート，糖尿病検査診断用デバイス，およびミオイノシトールの検出方法, 特願2013-239148 (2013年11月), 特開2015-099094 (2015年5月), . [EdbClient \| EDB]

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

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2014年度(平成26年度) / 特許

1)	2,014	特許	Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, TW103127761 (Aug. 2014), TW201530630 A (Aug. 2015), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,014	特許	Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, KR2014-0106977 (Aug. 2014), KR20150021462 A (Mar. 2015), 10-1697401 (Jan. 2017). [EdbClient \| EDB]
3)	2,014	特許	Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, US14/463,673 (Aug. 2014), US2015052702 A1 (Feb. 2015), 10,049,899 (Aug. 2018). [EdbClient \| EDB]

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

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2015年度(平成27年度) / 特許

2,015

特許

野地澄晴, 石丸善康 : 害虫駆除成分のスクリーニング方法, 特願2015-207010 (2015年10月), 特開2017-77212 (2017年4月), . [EdbClient | EDB]

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

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2016年度(平成28年度) / 特許

(なし)

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

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2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

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2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

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2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{68727}}

2020年度(令和2年度) / 特許

(なし)

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

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2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

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2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

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2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

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2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)