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期間: 2006.42025.3

2006年度(平成18年度)

patent.{@.apply.date="20060400 20070399" @.organization=\E{148394}}

2006年度(平成18年度) / 特許

1) 2,006 特許 根本 尚夫, 神谷 昌樹, 土屋 浩一郎 : ポリアルコール化合物, 特願2007-020062 (2007年1月), . [EdbClient | EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

patent.{@.apply.date="20070400 20080399" @.organization=\E{148394}}

2007年度(平成19年度) / 特許

1) 2,007 特許 高石 喜久, 土屋 浩一郎 : 新規NAD依存性脱アセチル化酵素活性化剤, 特願2007-301398 (2007年11月), 特開2009-126799 (2009年6月), . [EdbClient | EDB]

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

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2008年度(平成20年度) / 特許

(なし)

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

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2009年度(平成21年度) / 特許

(なし)

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

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2010年度(平成22年度) / 特許

1) 2,010 特許 根本 尚夫, 土屋 浩一郎, 片桐 彩人 : パクリタキセル誘導体, 特願2010-270797 (2010年10月), 特開2012-999999 (2012年4月), 特許第9999999999号 (2010年). [EdbClient | EDB]
2) 2,010 特許 玉置 俊晃, 池田 康将, 土屋 浩一郎 : マクロファージの浸潤抑制によるインスリン抵抗性改善剤, (2011年), 特許第2011-174001号 (2011年). [EdbClient | EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

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2011年度(平成23年度) / 特許

(なし)

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

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2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

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2013年度(平成25年度) / 特許

(なし)

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

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2014年度(平成26年度) / 特許

1) 2,014 特許 竹内 敏己, 土屋 浩一郎, 阿部 武由, 福岡 憲泰 : 薬物動態パラメータの推定方法及び薬物動態パラメータの推定プログラム, 特願2014-63011 (2014年6月), 特開2015-181853 (2015年10月), . [EdbClient | EDB]

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

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2015年度(平成27年度) / 特許

1) 2,015 特許 土屋 浩一郎 : 光応答性消臭抗菌剤, (2016年2月), (2017年9月), 特許第2017-154985(P2017-154985A)号 (2017年9月). [EdbClient | EDB]

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

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2016年度(平成28年度) / 特許

1) 2,016 特許 土屋 浩一郎, 木下 良治 : 前処理装置, (2016年10月), (2017年4月), 特許第2017-78716(P2017-78716A)号 (2017年4月). [EdbClient | EDB]

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

patent.{@.apply.date="20170400 20180399" @.organization=\E{148394}}

2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

patent.{@.apply.date="20180400 20190399" @.organization=\E{148394}}

2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

patent.{@.apply.date="20190400 20200399" @.organization=\E{148394}}

2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{148394}}

2020年度(令和2年度) / 特許

(なし)

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{148394}}

2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{148394}}

2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

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2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

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2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)