基盤科学分野 (詳細)

期間: 2009.4〜2025.3

2009年度(平成21年度)

patent.{@.apply.date="20090400 20100399" @.organization=\E{187174}}

2009年度(平成21年度) / 特許

2,009

特許

佐瀬卓也, 中山信太郎, 古谷俊介, 桑原義典, 森本努, 木下悠亮, 黒崎裕 : がん治療用密封小線源の放射線強度測定装置, 特願2009-273344 (2009年12月), 特許第2009-273344号 (2009年12月). [EdbClient | EDB]

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

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2010年度(平成22年度) / 特許

2,010

特許

三好德和, 菊池淳, 田嶋孝裕 : 第3級アルコール由来のエステルの製造方法, 特願2011-052693 (2011年3月), . [EdbClient | EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

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2011年度(平成23年度) / 特許

(なし)

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

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2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

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2013年度(平成25年度) / 特許

2,013

特許

増田俊哉 : 新規なナフトピラン環化合物，該化合物の製造方法およびその用途, (2013年4月), 特許第2013-078939号 (2013年5月). [EdbClient | EDB]

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

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2014年度(平成26年度) / 特許

2,014

特許

増田俊哉, 肥後春男 : リキリチゲニン前駆物質の製造方法, 特願2014-136494 (2014年7月), . [EdbClient | EDB]

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

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2015年度(平成27年度) / 特許

(なし)

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

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2016年度(平成28年度) / 特許

2,016

特許

吉田和弘, 小笠原正道, 和田志郎, 劉強, 木村亮介 : 4-ピリドンおよびその製造方法, 特願2016-206798 (2016年10月), 特開2017-78042 (2017年4月), . [EdbClient | EDB]

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

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2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

patent.{@.apply.date="20180400 20190399" @.organization=\E{187174}}

2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

patent.{@.apply.date="20190400 20200399" @.organization=\E{187174}}

2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{187174}}

2020年度(令和2年度) / 特許

(なし)

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{187174}}

2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{187174}}

2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

patent.{@.apply.date="20230400 20240399" @.organization=\E{187174}}

2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{187174}}

2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)