麻酔・疼痛治療医学分野 (詳細)
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期間:
2004.4
〜
2025.3
2004年度(平成16年度)
patent.{@.apply.date="20040400 20050399" @.organization=\E{201141}}
2004年度(平成16年度) / 特許
(なし)
2004年度(平成16年度) / 実用新案
(なし)
2004年度(平成16年度) / 意匠
(なし)
2005年度(平成17年度)
patent.{@.apply.date="20050400 20060399" @.organization=\E{201141}}
2005年度(平成17年度) / 特許
(なし)
2005年度(平成17年度) / 実用新案
(なし)
2005年度(平成17年度) / 意匠
(なし)
2006年度(平成18年度)
patent.{@.apply.date="20060400 20070399" @.organization=\E{201141}}
2006年度(平成18年度) / 特許
(なし)
2006年度(平成18年度) / 実用新案
(なし)
2006年度(平成18年度) / 意匠
(なし)
2007年度(平成19年度)
patent.{@.apply.date="20070400 20080399" @.organization=\E{201141}}
2007年度(平成19年度) / 特許
(なし)
2007年度(平成19年度) / 実用新案
(なし)
2007年度(平成19年度) / 意匠
(なし)
2008年度(平成20年度)
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2008年度(平成20年度) / 特許
(なし)
2008年度(平成20年度) / 実用新案
(なし)
2008年度(平成20年度) / 意匠
(なし)
2009年度(平成21年度)
patent.{@.apply.date="20090400 20100399" @.organization=\E{201141}}
2009年度(平成21年度) / 特許
(なし)
2009年度(平成21年度) / 実用新案
(なし)
2009年度(平成21年度) / 意匠
(なし)
2010年度(平成22年度)
patent.{@.apply.date="20100400 20110399" @.organization=\E{201141}}
2010年度(平成22年度) / 特許
1)
2,010
特許
田中 克哉
,
木下 倫子
,
大下 修造
:
GL用麻酔用マスク, (2010年8月), (2012年3月), 特許第2010-191931号.
[
EdbClient
|
EDB
]
2010年度(平成22年度) / 実用新案
(なし)
2010年度(平成22年度) / 意匠
(なし)
2011年度(平成23年度)
patent.{@.apply.date="20110400 20120399" @.organization=\E{201141}}
2011年度(平成23年度) / 特許
(なし)
2011年度(平成23年度) / 実用新案
(なし)
2011年度(平成23年度) / 意匠
(なし)
2012年度(平成24年度)
patent.{@.apply.date="20120400 20130399" @.organization=\E{201141}}
2012年度(平成24年度) / 特許
1)
2,012
特許
田中 克哉
, 鶴丸 明香 :
麻酔用マスク, (2012年12月), 特許第2012-268167号.
[
EdbClient
|
EDB
]
2012年度(平成24年度) / 実用新案
(なし)
2012年度(平成24年度) / 意匠
(なし)
2013年度(平成25年度)
patent.{@.apply.date="20130400 20140399" @.organization=\E{201141}}
2013年度(平成25年度) / 特許
(なし)
2013年度(平成25年度) / 実用新案
(なし)
2013年度(平成25年度) / 意匠
(なし)
2014年度(平成26年度)
patent.{@.apply.date="20140400 20150399" @.organization=\E{201141}}
2014年度(平成26年度) / 特許
(なし)
2014年度(平成26年度) / 実用新案
(なし)
2014年度(平成26年度) / 意匠
(なし)
2015年度(平成27年度)
patent.{@.apply.date="20150400 20160399" @.organization=\E{201141}}
2015年度(平成27年度) / 特許
(なし)
2015年度(平成27年度) / 実用新案
(なし)
2015年度(平成27年度) / 意匠
(なし)
2016年度(平成28年度)
patent.{@.apply.date="20160400 20170399" @.organization=\E{201141}}
2016年度(平成28年度) / 特許
(なし)
2016年度(平成28年度) / 実用新案
(なし)
2016年度(平成28年度) / 意匠
(なし)
2017年度(平成29年度)
patent.{@.apply.date="20170400 20180399" @.organization=\E{201141}}
2017年度(平成29年度) / 特許
(なし)
2017年度(平成29年度) / 実用新案
(なし)
2017年度(平成29年度) / 意匠
(なし)
2018年度(平成30年度)
patent.{@.apply.date="20180400 20190399" @.organization=\E{201141}}
2018年度(平成30年度) / 特許
(なし)
2018年度(平成30年度) / 実用新案
(なし)
2018年度(平成30年度) / 意匠
(なし)
2019年度(平成31(令和元)年度)
patent.{@.apply.date="20190400 20200399" @.organization=\E{201141}}
2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許
(なし)
2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案
(なし)
2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠
(なし)
2020年度(令和2年度)
patent.{@.apply.date="20200400 20210399" @.organization=\E{201141}}
2020年度(令和2年度) / 特許
(なし)
2020年度(令和2年度) / 実用新案
(なし)
2020年度(令和2年度) / 意匠
(なし)
2021年度(令和3年度)
patent.{@.apply.date="20210400 20220399" @.organization=\E{201141}}
2021年度(令和3年度) / 特許
(なし)
2021年度(令和3年度) / 実用新案
(なし)
2021年度(令和3年度) / 意匠
(なし)
2022年度(令和4年度)
patent.{@.apply.date="20220400 20230399" @.organization=\E{201141}}
2022年度(令和4年度) / 特許
(なし)
2022年度(令和4年度) / 実用新案
(なし)
2022年度(令和4年度) / 意匠
(なし)
2023年度(令和5年度)
patent.{@.apply.date="20230400 20240399" @.organization=\E{201141}}
2023年度(令和5年度) / 特許
(なし)
2023年度(令和5年度) / 実用新案
(なし)
2023年度(令和5年度) / 意匠
(なし)
2024年度(令和6年度)
patent.{@.apply.date="20240400 20250399" @.organization=\E{201141}}
2024年度(令和6年度) / 特許
(なし)
2024年度(令和6年度) / 実用新案
(なし)
2024年度(令和6年度) / 意匠
(なし)