生理系 (詳細)

期間: 2015.4〜2025.3

2004年度(平成16年度)

2004年度(平成16年度) / 特許

(なし)

2004年度(平成16年度) / 実用新案

(なし)

2004年度(平成16年度) / 意匠

(なし)

2005年度(平成17年度)

2005年度(平成17年度) / 特許

1)	2,005	特許	古河電工株式会社, 中村教泰, 三好弘一 : 蛍光ナノシリカ粒子，ナノ蛍光材料，それを用いたバイオチップ及びそのアッセイ法, 特願2005-376401 (2005年12月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,005	特許	古河電工株式会社, 中村教泰, 三好弘一 : ナノシリカ粒子，それを用いたバイオチップ及びそのアッセイ法, 特願2005-376401 (2005年12月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,005	特許	古河電工株式会社, 中村教泰, 三好弘一 : フローサイトメーターによる生体分子の定量システム，その定量方法，細胞の検出・分取システム，その検出・分取方法，それらに用いる蛍光シリカ粒子，及び複数個の蛍光シリカ粒子を組み合わせたキット, 特願2006-049303 (2006年2月), . [EdbClient \| EDB]

2005年度(平成17年度) / 実用新案

(なし)

2005年度(平成17年度) / 意匠

(なし)

2006年度(平成18年度)

2006年度(平成18年度) / 特許

1)	2,006	特許	中村教泰, 庄野正行 : 蛍光顕微鏡, 特願PCT/JP2007/60466 (2006年5月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,006	特許	中村教泰, 庄野正行 : 蛍光顕微鏡および遮蔽部材および試料観察システム, 特願2006-143441 (2006年5月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,006	特許	中村教泰 : 新規なナノシリカ粒子の製造方法と用途, 特願2006-160107 (2006年6月), . [EdbClient \| EDB]

2006年度(平成18年度) / 実用新案

(なし)

2006年度(平成18年度) / 意匠

(なし)

2007年度(平成19年度)

2007年度(平成19年度) / 特許

1)	2,007	特許	庄野正行, 中村教泰 : 蛍光顕微鏡, 特願PCT/JP2007/060466 (2007年5月), 特開WO2007/136075 (2007年11月), 特許第PC07010号 (2012年4月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,007	特許	中村教泰 : 新規なナノシリカ粒子の製造方法と用途, 特願PCT/JP2007/61587 (2007年6月), 特許第5311340号. [EdbClient \| EDB]
3)	2,007	特許	中村教泰 : 新規なナノシリカ粒子の製造方法と用途, 特願PCT/JP2007/61587 (2007年6月), 特許第8,455,255号. [EdbClient \| EDB]

2007年度(平成19年度) / 実用新案

(なし)

2007年度(平成19年度) / 意匠

(なし)

2008年度(平成20年度)

2008年度(平成20年度) / 特許

1)	2,008	特許	近藤茂忠 : p53の発現促進方法およびそれに用いるp53発現促進剤, 特願2009-531301 (2008年9月), 特開WO2009031671 (2009年3月), 特許第WO2009031671号 (2013年5月). [EdbClient \| EDB]
2)	2,008	特許	近藤茂忠 : p53の発現促進方法およびそれに用いるp53発現促進剤, 特願2009-531301 (2008年9月), 特開WO2009031671 (2009年3月), 特許第WO2009031671号 (2013年5月). [EdbClient \| EDB]
3)	2,008	特許	近藤茂忠 : p53の発現促進方法およびそれに用いるp53発現促進剤, 特願2009-531301 (2008年9月), 特開WO2009031671 (2009年3月), 特許第WO2009031671号 (2013年5月). [EdbClient \| EDB]
4)	2,008	特許	近藤茂忠 : p53の発現促進方法およびそれに用いるp53発現促進剤, 特願2009-531301 (2008年9月), 特開WO2009031671 (2009年3月), 特許第WO2009031671号 (2013年5月). [EdbClient \| EDB]
5)	2,008	特許	近藤茂忠 : p53の発現促進方法およびそれに用いるp53発現促進剤, 特願2009-531301 (2008年9月), 特開WO2009031671 (2009年3月), 特許第WO2009031671号 (2013年5月). [EdbClient \| EDB]
6)	2,008	特許	近藤茂忠 : p53の発現促進方法およびそれに用いるp53発現促進剤, 特願2009-531301 (2008年9月), 特開WO2009031671 (2009年3月), 特許第WO2009031671号 (2013年5月). [EdbClient \| EDB]

2008年度(平成20年度) / 実用新案

(なし)

2008年度(平成20年度) / 意匠

(なし)

2009年度(平成21年度)

2009年度(平成21年度) / 特許

(なし)

2009年度(平成21年度) / 実用新案

(なし)

2009年度(平成21年度) / 意匠

(なし)

2010年度(平成22年度)

2010年度(平成22年度) / 特許

1)	2,010	特許	林幸壱朗 : 金属酸化物ナノ粒子構造体の製造方法, 特願2010-187967 (2010年8月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,010	特許	玉置俊晃, 池田康将, 土屋浩一郎 : マクロファージの浸潤抑制によるインスリン抵抗性改善剤, (2011年), 特許第2011-174001号 (2011年). [EdbClient \| EDB]

2010年度(平成22年度) / 実用新案

(なし)

2010年度(平成22年度) / 意匠

(なし)

2011年度(平成23年度)

2011年度(平成23年度) / 特許

1)	2,011	特許	林幸壱朗 : 金属酸化物ナノ粒子構造体及びその製造方法, 特願PCT/JP/2011/64173 (2011年6月), . [EdbClient \| EDB]
2)	2,011	特許	林幸壱朗 : シラン化合物及びポルフィリンを含む複合体, 特願2012-054845 (2011年11月), . [EdbClient \| EDB]
3)	2,011	特許	林幸壱朗 : ポルフィリン含有複合体, 特願2012-054845 (2012年3月), . [EdbClient \| EDB]

2011年度(平成23年度) / 実用新案

(なし)

2011年度(平成23年度) / 意匠

(なし)

2012年度(平成24年度)

2012年度(平成24年度) / 特許

(なし)

2012年度(平成24年度) / 実用新案

(なし)

2012年度(平成24年度) / 意匠

(なし)

2013年度(平成25年度)

2013年度(平成25年度) / 特許

(なし)

2013年度(平成25年度) / 実用新案

(なし)

2013年度(平成25年度) / 意匠

(なし)

2014年度(平成26年度)

2014年度(平成26年度) / 特許

(なし)

2014年度(平成26年度) / 実用新案

(なし)

2014年度(平成26年度) / 意匠

(なし)

2015年度(平成27年度)

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2015年度(平成27年度) / 特許

(なし)

2015年度(平成27年度) / 実用新案

(なし)

2015年度(平成27年度) / 意匠

(なし)

2016年度(平成28年度)

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2016年度(平成28年度) / 特許

(なし)

2016年度(平成28年度) / 実用新案

(なし)

2016年度(平成28年度) / 意匠

(なし)

2017年度(平成29年度)

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2017年度(平成29年度) / 特許

(なし)

2017年度(平成29年度) / 実用新案

(なし)

2017年度(平成29年度) / 意匠

(なし)

2018年度(平成30年度)

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2018年度(平成30年度) / 特許

(なし)

2018年度(平成30年度) / 実用新案

(なし)

2018年度(平成30年度) / 意匠

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度)

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2019年度(平成31(令和元)年度) / 特許

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 実用新案

(なし)

2019年度(平成31(令和元)年度) / 意匠

(なし)

2020年度(令和2年度)

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2020年度(令和2年度) / 特許

(なし)

2020年度(令和2年度) / 実用新案

(なし)

2020年度(令和2年度) / 意匠

(なし)

2021年度(令和3年度)

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2021年度(令和3年度) / 特許

(なし)

2021年度(令和3年度) / 実用新案

(なし)

2021年度(令和3年度) / 意匠

(なし)

2022年度(令和4年度)

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2022年度(令和4年度) / 特許

(なし)

2022年度(令和4年度) / 実用新案

(なし)

2022年度(令和4年度) / 意匠

(なし)

2023年度(令和5年度)

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2023年度(令和5年度) / 特許

(なし)

2023年度(令和5年度) / 実用新案

(なし)

2023年度(令和5年度) / 意匠

(なし)

2024年度(令和6年度)

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2024年度(令和6年度) / 特許

(なし)

2024年度(令和6年度) / 実用新案

(なし)

2024年度(令和6年度) / 意匠

(なし)