直井 美貴 (41.3%) / 教授 [詳細] |
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学位: |
博士(工学) |
専門分野: |
半導体光デバイス, 光工学 |
担当授業科目: |
オリエンテーション1年 (学部), フォトニックデバイス作製演習 (大学院), プレゼンテーション技法(D) (大学院), 光デバイス特論 (大学院), 光半導体デバイス特論 (大学院), 理工学特別実習 (大学院), 科学技術論D (大学院), 電子物性工学 (学部), 電気磁気学1及び演習 (学部), 電気磁気学2及び演習 (学部), 電気電子システム特別研究 (大学院), 電気電子工学創成実験 (学部) |
研究テーマ: |
半導体結晶成長と光デバイス開発 (窒化物, ワイドギャップ半導体, 光デバイス (optical device), 薄膜·結晶成長, 物性評価) |
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西野 克志 (22.5%) / 准教授 [詳細] |
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学位: |
博士(工学) |
専門分野: |
半導体工学 (Semiconductor Physical Electronics) |
担当授業科目: |
プレゼンテーション技法(D) (大学院), 光デバイス工学 (学部), 光半導体デバイス特論 (大学院), 半導体工学基礎 (学部), 半導体工学特論 (大学院), 卒業研究 (学部), 理工学特別実習 (大学院), 量子工学基礎 (学部), 雑誌講読 (学部), 電気磁気学2及び演習 (学部), 電気電子システム特別研究 (大学院), 電気電子工学基礎実験 (学部), 電気電子工学特別講義 (学部) |
研究テーマ: |
AlN等窒化物半導体の結晶成長,物性評価,デバイス応用 (AlN, バルク結晶成長, 物性評価) |
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(福井 萬壽夫) (2.3%) / 名誉教授 [詳細] |
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学位: |
工学博士 |
専門分野: |
光物性, 光計測, 光電子工学 |
研究テーマ: |
球と光の相互作用, フォトニック結晶を用いた光デバイス開発, 非線形光学効果に基づく光デバイス開発, ナノスケール領域観測用の光計測装置開発, 表面電磁波の物性 (微小球, フォトニック結晶, 非線形光学効果, 近接場光学, 光熱分光法, 表面ポラリトン) |
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(入谷 忠光) (0.5%) / 名誉教授 [詳細] |
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学位: |
工学博士 |
専門分野: |
通信工学 (Communication Engineering), 計測工学 |
研究テーマ: |
高速切り替え周波数シンセサイザに関する研究, 周波数ホッピングスペクトル拡散通信方式に関する研究, ITS(高度交通システム)の車々間通信を用いた交通事故防止の研究, 定在波を用いたレーダセンサ, 生体インピーダンス計測と医療診断応用に関する研究 (シンセサイザ, FHSS, ITS, 車々間通信, 定在波, 距離センサ, 生体インピーダンス) |
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日下 一也 (0.3%) / 講師 [詳細] |
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学位: |
博士(工学) |
専門分野: |
X線応力測定 (X-ray Stress Measurement) |
担当授業科目: |
ものづくり基礎 (共通教育), イノベーション・プロジェクト入門 (共通教育), イノベーション・プロジェクト実践 (共通教育), オリエンテーション3年 (学部), プロジェクトマネジメント基礎 (学部), 技術英語基礎2 (学部), 機械計測1 (学部), 機械設計1 (学部), 非破壊計測学 (大学院) |
研究テーマ: |
X線回折を用いた窒化物半導体薄膜の残留応力測定 (残留応力 (residual stress), X線回折 (X-ray diffraction), スパッタリング (sputtering), 窒化物半導体膜 (nitride semiconductor films)) |
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(英 崇夫) (0.3%) / 名誉教授 [詳細] |
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学位: |
工学博士(大阪大学) |
専門分野: |
機械工学 (Mechanical Engineering) |
研究テーマ: |
X線材料強度学 (X線応力測定 (X-ray stress measurement), 残留応力 (residual stress), 寸法安定性, 表面改質, 薄膜応力) |
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岡田 達也 (0.3%) / 教授 [詳細] |
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学位: |
Ph.D. |
専門分野: |
組織制御, 結晶欠陥 (Crystallographic Defect) |
担当授業科目: |
STEM演習 (学部), オリエンテーション3年 (学部), プレゼンテーション技法(D) (大学院), 技術英語基礎1 (学部), 技術英語基礎2 (学部), 機械材料学1 (学部), 機械材料物性特論 (大学院), 結晶物性制御特論 (大学院) |
研究テーマ: |
純金属の変形·再結晶微細組織のSEM/EBSD法による解析 (組織制御, 再結晶, 結晶塑性, 単結晶, 双結晶, 三重結晶, SEM/EBSD), 半導体中の結晶欠陥の透過電子顕微鏡観察 (炭化ケイ素 (SiC), 結晶欠陥 (crystallographic defect), エピタキシャル膜 (epitaxial film), 透過電子顕微鏡法 (transmission electron microscopy), ダイヤモンド (diamond)) |
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