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研究活動

個人のホームページ

専門分野

○ X線応力測定 (X-ray Stress Measurement)

研究テーマ

○ X線回折を用いた窒化物半導体薄膜の残留応力測定 (残留応力 (residual stress), X線回折 (X-ray diffraction), スパッタリング (sputtering), 窒化物半導体膜 (nitride semiconductor films)) (高い音響速度と圧電特性に優れるため弾性表面波素子や高周波フィルターへの適用が期待されるAlN，青色発光ダイオードで知られるGaNなどのIII-V族半導体薄膜をスパッタリング法により廉価なガラス基板上へ堆積させる．得られた膜の特性評価として主にX線回折を用いて非破壊的に残留応力を調べている．そして，残留応力の発生機構を解明し，良質な膜を得るための最適な堆積条件を見つけることを目標としている．)

著書・論文

学術論文(審査論文):

1. Kazuya Kusaka, Kenta Shirasaka, Daisuke Yonekura and Yuta Tanaka :
Residual stress measurement of {112}-oriented CrN layers in CrN/Cr multilayer films,
Journal of Vacuum Science and Technology. B, Nanotechnology & Microelectronics : Materials, Processing, Measurement, & Phenomena : JVST B, Vol.37, 062919-1-062919-6, 2019.
(徳島大学機関リポジトリ: 114030,   DOI: 10.1116/1.5118682)
2. Kazuya Kusaka, Kenta Shirasaka, Daisuke Yonekura and Yuta Tanaka :
Measurement of the residual stress in chromium nitride coatings deposited on an aluminum alloy substrate using arc ion plating method,
Journal of Vacuum Science and Technology. B, Nanotechnology & Microelectronics : Materials, Processing, Measurement, & Phenomena : JVST B, Vol.37, 062916-1-062916-5, 2019.
(徳島大学機関リポジトリ: 114029,   DOI: 10.1116/1.5118702)
3. Kazuya Kusaka, Yutaka Maruoka and Tatsuya Matsue :
Residual stress and bending strength of ZnO films deposited on polyimide sheet by RF sputtering system,
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.34, No.3, 031507-1-031507-4, 2016.
(徳島大学機関リポジトリ: 118081,   DOI: 10.1116/1.4944610)
4. Ming Cai, Hitoshi Takagi, Antonio Norio Nakagaito, Kazuya Kusaka, Masahiro Katoh and Yan Li :
Influence of alkali concentration on morphology and tensile properties of abaca fibers,
Advanced Materials Research, Vol.1110, 302-305, 2015.
(DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMR.1110.302)
5. 日下 一也, 山田 祐馬 :
結晶粒径の異なる銅薄膜のヒロック形成温度と初期残留応力の関係,
材料, Vol.62, No.7, 457-463, 2013年.
(DOI: 10.2472/jsms.62.457,   CiNii: 1390282680421464576)
6. Manabu Yasuoka, Pangpang Wang, Kaiyue Zhang, Zhiyong Qiu, Kazuya Kusaka, Young-Shik Pyoun and Ri-ichi Murakami :
Improvement of the fatigue strength of SUS304 austenite stainless steel using ultrasonic nanocrystal surface modification,
Surface & Coatings Technology, Vol.218, 93-98, 2013.
(DOI: 10.1016/j.surfcoat.2012.12.033,   Elsevier: Scopus)
7. Mitsuhiko Shinohara, Takao Hanabusa and Kazuya Kusaka :
Residual Stress Development in Cu Thin Films with and without AlN Passivation by Cyclic Plane Bending,
International Journal of Modern Physics B, Vol.24, No.15,16, 2530-2536, 2010.
(DOI: 10.1142/S0217979210065210)
8. Ayumi Shiro, Takao Hanabusa, Tatsuya Okada, Masayuki Nishida, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Measurement of Micro Residual Stresses near the Grain Boundary in Copper Bicrystal,
Advanced Materials Research, Vol.89-91, 515-520, 2010.
(DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMR.89-91.515)
9. Kikuo Tominaga, Kenji Okada, Yoshinori Miyamoto, Shinya Ohkura, Kazuya Kusaka, Kentaro Shiraishi, Takahiro Ueno and Takao Hanabusa :
Deposition of photocatalytic TiO2 films by planar magnetron sputtering system with opposed Ti targets,
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Vol.7, 290-293, 2009.
(DOI: 10.1380/ejssnt.2009.290,   Elsevier: Scopus)
10. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Shoso Shingubara, Tatsuya Matsue and Osami Sakata :
Measurement of electromigration-induced stress in aluminum alloy interconnection,
Vacuum, Vol.83, No.3, 637-640, 2009.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2008.04.041)
11. Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Effect of heating on the residual stresses in TiN films investigated using synchrotron radiation,
Vacuum, Vol.83, No.3, 585-588, 2009.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2008.04.068)
12. 日下 一也, 英 崇夫, 金子 健太, 松英 達也, 坂田 修身 :
放射光を用いた窒化アルミニウム-銅積層膜の熱応力その場測定,
日本機械学会論文集(A編), Vol.74, No.739, 363-369, 2008年.
(DOI: 10.1299/kikaia.74.363,   CiNii: 1390001204479313408,   Elsevier: Scopus)
13. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kenta Kaneko, Osami Sakata and Masayuki Nishida :
Stress-assisted atomic migration in thin copper films,
Key Engineering Materials, Vol.353-358, 671-674, 2007.
(DOI: 10.4028/www.scientific.net/KEM.353-358.671,   Elsevier: Scopus)
14. Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Yasukazu Ikeuchi, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Alteration of internal stresses in SiO2/Cu/TiN thin films by X-ray and synchrotron radiation due to heat treatment,
Vacuum, Vol.80, No.7, 836-839, 2006.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2005.11.033,   Elsevier: Scopus)
15. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films,
International Journal of Modern Physics B, Vol.20, No.25n27, 4691-4696, 2006.
(DOI: 10.1142/S0217979206041902,   Elsevier: Scopus)
16. 日下 一也, 田中 剛, 英 崇夫 :
レーザピーニング処理したアルミニウム合金の残留応力のレーザパワー密度および走査速度依存性,
材料, Vol.54, No.7, 672-678, 2005年.
(DOI: 10.2472/jsms.54.672,   CiNii: 1390001205418449792)
17. 桐山 聡, 日下 一也, 英 崇夫 :
動き始めた創成学習, --- 徳島大学創成学習開発センターの活動 ---,
大学研究ジャーナル, 95-106, 2005年.
18. Mitsuhiko Hataya, Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kikuo Tominaga and Tatsuya Matsue :
Residual stress measurement in sputtered copper thin films by synchrotron radiation and ordinary X-rays,
Materials Science Forum, Vol.490-491, 661-668, 2005.
(DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.490-491.661,   Elsevier: Scopus)
19. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Noriyoshi Yamauchi :
Effect of substrate temperature on crystal orientation and residual stress in RF sputtered galium nitride films,
Materials Science Forum, Vol.490-491, 613-618, 2005.
(DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.490-491.613,   Elsevier: Scopus)
20. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shozo Shingubara and Osami Sakata :
In-situ observation of thermal stress in nano-size thin aluminum films,
Materials Science Forum, Vol.490-491, 577-582, 2005.
(DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.490-491.577,   Elsevier: Scopus)
21. Takao Hanabusa, Kazuhiro Miyagi and Kazuya Kusaka :
X-ray elastic constants of chromium nitride films deposited by arc-ion plating,
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.A22, No.4, 1785-1787, 2004.
(DOI: 10.1116/1.1705648)
22. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Noriyoshi Yamauchi :
Effect of Substrate Temperature on Crystal Orientation and Residual Stress in Radio Frequency Sputtered Gallium-Nitride Films,
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.22, No.4, 1587-1590, 2004.
(DOI: 10.1116/1.1759348)
23. 大山 啓, 高木 均, 日下 一也, 堀川 敬太郎 :
Lego Mindstormsを利用した創造的ものづくり教育とその効果,
工学教育, Vol.52, No.4, 20-24, 2004年.
(DOI: 10.4307/jsee.52.4_20,   CiNii: 1390282679471098496)
24. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Tatsuya Matsue, Masayuki Nishida, Osami Sakata and Toshiki Sato :
Evaluation of Internal Stresses in Single-, Double- and Multi-Layered TiN and TiAlN Thin Films by Synchrotron Radiation,
JSME International Journal, Series A: Solid Mechanics and Material Engineering, Vol.47, No.3, 312-317, 2004.
(DOI: 10.1299/jsmea.47.312,   CiNii: 1390282681469252480)
25. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Residual stress and thermal stress observation in thin copper films,
Thin Solid Films, Vol.459, No.1-2, 245-248, 2004.
(DOI: 10.1016/j.tsf.2003.12.102,   Elsevier: Scopus)
26. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Tatsuya Matsue, Masayuki Nishida, Osami Sakata and Toshiki Sato :
Evaluation of internal stresses in TiN thin films by synchrotron radiation,
Vacuum, Vol.74, No.3-4, 571-575, 2004.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2004.01.029)
27. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Measurement of crystal orientation and residual stress in GaN film deposited by RF sputtering with powder target,
Vacuum, Vol.74, No.3-4, 613-618, 2004.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2004.01.034)
28. 英 崇夫, 日下 一也 :
卒業研究のプレゼンテーション評価とその展開,
工学教育, Vol.51, No.5, 42-50, 2003年.
(DOI: 10.4307/jsee.51.5_42,   CiNii: 1390001204494125440)
29. 松英 達也, 英 崇夫, 池内 保一, 日下 一也 :
イオン·プレーティング法により形成したSiO2/Cu/TiN積層膜のX線的評価,
材料, Vol.52, No.10, 1231-1236, 2003年.
(DOI: 10.2472/jsms.52.1231,   Elsevier: Scopus)
30. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Masayuki Nishida, Tatsuya Matsue and Osami Sakata :
Crystal orientation and residual stress in TiN film by synchrotron radiation,
Zeitschrift für Metallkunde, Vol.94, No.6, 662-666, 2003.
(Elsevier: Scopus)
31. Kazuya Kusaka, Kouhei Furutani, Takuya Kikuma, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Plasma Protection Net on Crystal Orientation and Residual Stress in Sputtered Gallium Nitride Films,
Materials Science Research International, Vol.8, No.4, 187-192, 2002.
(DOI: 10.2472/jsms.51.12Appendix_187,   CiNii: 1390001205443968512,   Elsevier: Scopus)
32. 英 崇夫, 日下 一也 :
プレゼンテーションの実施によるアウトカムズ評価の新しい試み,
工学教育, Vol.50, No.5, 47-53, 2002年.
(DOI: 10.4307/jsee.50.5_47,   CiNii: 1390001204494433792)
33. Kazuya Kusaka, Daisuke Taniguchi, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of sputtering gas pressure and nitrogen concentration on crystal orientation and residual stress in sputtered AlN films,
Vacuum, Vol.66, No.3-4, 441-446, 2002.
(DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00168-9,   Elsevier: Scopus)
34. Takuya Kikuma, Kikuo Tominaga, Kazuo Furutani, Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Takashi Mukai :
GaN films deposited by planar magnetron sputtering,
Vacuum, Vol.66, No.3-4, 233-237, 2002.
(DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00147-1)
35. Kikuo Tominaga, Takuya Kikuma, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Energetic oxygen ions in ZrO2 deposition by reactive sputtering of Zr,
Vacuum, Vol.66, No.3-4, 279-284, 2002.
(DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00155-0)
36. 日下 一也, 浮田 浩行, 松尾 繁樹 :
創造基礎能力とプレゼンテーション技術を高めるための教育方法,
工学教育, Vol.50, No.3, 98-103, 2002年.
(DOI: 10.4307/jsee.50.3_98,   CiNii: 1390282679469482624)
37. 英 崇夫, 森口 忠和, 日下 一也, 松英 達也 :
アルミニウム基材へのTiN厚膜の作製とその摩耗特性,
材料, Vol.50, No.7, 732-737, 2001年.
(DOI: 10.2472/jsms.50.732,   CiNii: 1390282680369480192,   Elsevier: Scopus)
38. Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Crystal Orientation and Residual Stress in Chromium Nitride Films Deposited by Arc-Ion Plating,
Materials Science Research International, Special Technical Publication, Vol.1, 299-302, 2001.
39. Makoto Nisiike, Takao Hanabusa and Kazuya Kusaka :
X-Ray Evaluation of Laser-Peened Aluminum Surface,
Materials Science Research International, Special Technical Publication, Vol.1, 285-290, 2001.
40. Yasuhiro Miki, Tadashi Taniguchi, Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Tatsuya Matsue :
X-ray Stress Measurement and Mechanical Properties of TiN Films Coated on Aluminum and Aluminum Alloy Substrates by Arc Ion Plating and Ion Beam Mixing,
Materials Science Research International, Vol.6, No.4, 243-248, 2000.
(Elsevier: Scopus)
41. Kazuya Kusaka, Daisuke Taniguchi, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Input Power on Crystal Orientation and Residual Stress in AlN Film Deposited by dc Sputtering,
Vacuum, Vol.59, No.2-3, 806-813, 2000.
(DOI: 10.1016/S0042-207X(00)00351-1,   Elsevier: Scopus)
42. Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Yasuhiro Miki, Kazuya Kusaka and Eiji Maitani :
Residual Stress in TiN Film Deposited by Arc Ion Plating,
Thin Solid Films, Vol.343-344, 257-260, 1999.
43. Takao Hanabusa, Hiroyosi Hosoda, Kazuya Kusaka and Kikuo Tominaga :
Abnormal Residual Stress State in ZnO Films Synthesized by Planar Magnetron Sputtering System with Two Facing Targets,
Thin Solid Films, Vol.343-344, 164-167, 1999.
44. 三木 靖浩, 谷口 正, 日下 一也, 英 崇夫, 米谷 英司 :
アークイオンプレーティング法によるアルミニウム基板へのTiN膜の形成とその機械的特性,
日本機械学会論文集(A編), Vol.65, No.635, 1635-1641, 1999年.
45. Kazuya Kusaka, Takahiro Ao, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of External Magnetic Field on c-axis Orientation and Residual Stress in AlN Films,
Thin Solid Films, Vol.332, No.1-2, 247-251, 1998.
46. Kikuo Tominaga, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Influence of target shape on properties of AlN sputtered film,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.37, 5224-5226, 1998.
47. Kikuo Tominaga, Takahiro Ao, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Magnetic Field Dependence of AlN Films in DC Planar Magnetron Sputtering with Opposed Targets,
Vacuum, Vol.51, No.4, 549-553, 1998.
48. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄, 阿尾 高広 :
交替式スパッタリング法によるAlN膜の残留応力測定,
材料, Vol.46, No.12, 1429-1435, 1997年.
49. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Plasma Protection Net on Residual Stress in AlN Films Deposited by a Magnetron Sputtering System,
Thin Solid Films, Vol.290-291, 260-263, 1996.
50. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Masayuki Nishida and Fukuji Inoko :
Residual Stress and in-situ Thermal Stress Measurement of Aluminum Film Deposited on Silicon Wafer,
Thin Solid Films, Vol.290-291, 248-253, 1996.
51. Kikuo Tominaga, Takahir Ao, Ichirou Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Gas pressure dependence of AlN film properties in alternating sputtering system,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.35, No.9B, 4972-4975, 1996.
52. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Nitrogen Gas Pressure on Residual Stress in AlN Films Deposited by the Planar Magnetron Sputtering System,
Thin Solid Films, Vol.281-282, 340-343, 1996.
53. Kikuo Tominaga, Shozo Inoue, R.P. Howson, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
TiN films prepared by unbalanced planar magnetron sputtering under controle of photoemission of Ti,
Thin Solid Films, Vol.281-282, 182-185, 1996.
54. Shozo Inoue, Kikuo Tominaga, Ronald P Howson and Kazuya Kusaka :
Effects of Nitrogen Pressure and Ion Flux on the Properties of Direct Current Reactive Magnetron Sputtered Zr-N Films,
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.A13, No.6, 2808-2813, 1995.
55. Kikuo Tominaga, Kazuya Kusaka, Mufei Chong, Takao Hanabusa and Yoshihiro Shintani :
Film Degradation in AlN Preparation by Facing Target System,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.33, No.9B, 5235-5239, 1994.
56. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
プレーナマグネトロンスパッタリング生成によるAlN膜の結晶配向性と残留応力のプラズマ汚染の影響,
材料, Vol.43, No.490, 799-805, 1994年.
57. 英 崇夫, 日下 一也, 富永 喜久雄, 藤原 晴夫 :
スパッタリング生成によるAlN薄膜の残留応力の基板および基板温度依存性,
材料, Vol.42, No.477, 627-633, 1993年.

学術論文(紀要・その他):

1. 英 崇夫, 日下 一也 :
TiNおよびTiAlN膜の応力のX線的評価,
リガクジャーナル, Vol.35, No.2, 20-27, 2004年.
2. 英 崇夫, 日下 一也, 新宮原 正三, 坂田 修身, 松英 達也 :
ナノサイズアルミニウム配線のエレクトロニクスマイグレーション誘起応力の挙動,
SPring-8ナノテクノロジー研究, Vol.2 2003A, 10-12, 2003年.

学術レター:

1. Hitoshi Takagi, Antonio Norio Nakagaito, Kazuya Kusaka and Yuya Muneta :
Development of green nanocomposites reinforced by cellulose nanofibers extracted from paper sludge,
Modern Physics Letters. B, Vol.29, No.06n07, 1540025_1-1540025_5, 2015.
(DOI: 10.1142/S0217984915400254,   Elsevier: Scopus)

総説・解説:

1. 桐山 聰, 日下 一也, 英 崇夫, 辛 動勲 :
動き始めた創成学習 -徳島大学創成学習開発センターの活動-,
大学教育研究ジャーナル, Vol.2, No.2, 113-124, 2005年3月.
(CiNii: 1050302172854754304)
2. 鈴木 賢治, 日下 一也 :
X線応力測定の基礎と最近の発展-5．新素材への適用,
材料, Vol.48, No.3, 308-314, 1999年3月.

国際会議:

1. Kazuya Kusaka, Kenta Shirasaka, Daisuke Yonekura and Yuta Tanaka :
Residual stress measurement of {211}-oriented CrN layers in CrN/Cr multilayer films,
Proceedings of the 15th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2019), 183-186, Kanazawa, Jun. 2019.
2. Kazuya Kusaka, Kenta Shirasaka, Daisuke Yonekura and Yuta Tanaka :
Measurement of the residual stress in CrN films deposited on an Al alloy substrate using AIP method,
Proceedings of the 15th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2019), 53-56, Kanazawa, Jun. 2019.
3. Kazuya Kusaka, Yutaka Maruoka and Tatsuya Matsue :
Residual stress and bending strength of ZnO films deposited on polyimide sheet by rf sputtering system,
The 13th international symposium on sputtering & plasma prosesses, 407-410, Jul. 2015.
4. Ming Cai, Hitoshi Takagi, Antonio Norio Nakagaito, Kazuya Kusaka, Masahiro Katoh and Yang Li :
Influence of alkali concentration on morphology and tensile properties of abaca fibers,
Program and Abstract Book for 7th International Conference AMDP 2014, 136, Busan, Jul. 2014.
5. Hitoshi Takagi, Antonio Norio Nakagaito, Kazuya Kusaka and Yuya Muneta :
Development of nanocomposites reinforced by cellulose fibers from paper sludge,
Program and Abstract Book for 7th International Conference AMDP 2014, 64, Busan, Jul. 2014.
6. Ming Cai, Hitoshi Takagi, Antonio Norio Nakagaito, Kazuya Kusaka, Masahiro Katoh and Yan Li :
Effects of alkali treatment on microstructure and tensile properties of abaca fiber,
Proceedings of the SAMPE CHINA 2013, S5-6_1-S5-6_4, Shanghai, Oct. 2013.
7. Kazuya Kusaka and Kikuo Tominaga :
Residual stress measurement in metal interlayer of metal-ceramics functionally graded thin film,
Proceedings of the twelfth international symposium on sputtering & plasma processes, 142-145, Kyoto, Jul. 2013.
8. Bistamam Shahril Amin Mohd, Hitoshi Takagi, Antonio Norio Nakagaito, Masahiro Katoh, Kazuya Kusaka and Jitendra Kumar Pandey :
Development of green nanocomposites reinforced by cellulose nanofibers from waste newspaper,
Proceedings of the Ninth Joint Canada-Japan Workshop on Composites, J21_1-J21_8, Kyoto, Jul. 2012.
9. Norihisa Shimamura, Kosuke Harada, Shingo Kuno, Shinsuke Nakanishi, Takahumi Nakagawa, Satoshi Nishino, Takao Hanabusa, Shoichiro Fujisawa and Kazuya Kusaka :
Activity of Tatara Project,
Proceedings of Asian Conference on Engineering Education 2009 (ACEE2009), 213-214, Busan, Oct. 2009.
10. Shinohara Mitsuhiko, Takao Hanabusa and Kazuya Kusaka :
Residual stress development in Cu thin films with and without AlN passivation by cyclic plane bending,
AMDP 2008 Program & Abstract Book, 93, Beijing, China, Oct. 2008.
11. Isoda Hirokazu, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Evaluation of residual stresses induced by laser peening,
AMDP 2008 Program & Abstract Book, 92, Beijing, China, Oct. 2008.
12. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Nishida Masayuki :
Diffraction stress measurement on coarse graind materials,
The 8th International Conference on Residual Stresses, Denver, USA, Aug. 2008.
13. Okada Kenji, Kikuo Tominaga, Retsuo Kawakami, Ohkura Shinya, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Deposition of photocatalytic tiO2 films by planar magnetron sputtering system with opposed Ti targets,
14th International Conference on Solid Films and Surfaces, 331-332, Dublin, Jul. 2008.
14. Takao Hanabusa, Masayuki Nishida and Kazuya Kusaka :
Thermal stress behavior of micro- and nano-size aluminum films,
International Conference on Neutron and X-ray Scattering 2007, 21-27, Bandung, Indonesia, Jul. 2007.
15. Kikuo Tominaga, Miyamoto Yoshinori, Ohkura Shinya, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Comparison of film depositions of anatase TiO2 by planar magnetron sputtering with opposed Ti targets and conventional Ti targets,
The 20th Symposium on Plasma Science for Materials, 108, Nagoya, Jun. 2007.
16. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Shingubara Shoso, Tatsuya Matsue and Osami Sakata :
Measurement of electromigration-induced stress in aluminum interconnection,
Proceedings of the Ninth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 411-414, Kanazawa, Jun. 2007.
17. Takao Hanabusa and Kazuya Kusaka :
Stress Assisted Atomic Migration in Copper Thin Films,
Proceedings of the Ninth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 229-232, Kanazawa, Jun. 2007.
18. Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Alteration of Residual Stresses in TiN Films by Synchrotron Radiation due to Heat Treatment,
Proceedings of the Ninth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 127-130, Kanazawa, Jun. 2007.
19. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Masayuki Nishida :
Stress-assisted atomic migration in thin copper films,
APCFS'06, 22-25, Hainan Iland, China, Nov. 2006.
20. Takao Hanabusa and Kazuya Kusaka :
Encouragement of student activities by presentation evaluation,
Proceeding of the 34th SEFI Annual Conference, 109, Uppsala, Sweden, June 2006, Jun. 2006.
21. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Satoshi Kiriyama, Tetsushi Ueta, Akio Tsuneda and Takuo Nagamachi :
Mutual evaluation of presentation skills between two distant universities by giga-bit network,
Abstract of 6th Asian-Pacific Conference on PBL, 79, Tokyo, May 2006.
22. Satoshi Kiriyama, Ikeda Yuuichi, Kazuya Kusaka, Masanobu Haraguchi and Takao Hanabusa :
The Good Result of Independent Project Activities by Students and the New prospect of Creativity Education,
Proceedings of The 1st International Conference Design Engineering and Science (Proc. of ICDES2005), 369-373, Wien, Oct. 2005.
23. Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Yasukazu Ikeuchi, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Alteration of internal stresses in SiO2/Cu/TiN thin films by synchrotron radiation due to heat treatment,
The 8th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kanazawa, Japan, Jun. 2005.
24. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Shoso Shingubara, Tatsuya Matsue and K. Ohshima :
Behavior of electromigration-induced stress in nano-sized aluminum interconection,
The 8th International Symposium on Sputterring and Plasma Processes, Kanazawa, Japan, Jun. 2005.
25. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films,
Advanced Materials Development & Performance Conference 2005, 157, Auckland, New Zealand, Jun. 2005.
26. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Shoso Shingubara, K. Noda and K. Oshima :

The 8th International Sympsium on Sputtering & Plasm Processes, MN-P-3, Kanazawa, Jun. 2005.
27. Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Yasukazu Ikeuchi, Kazuya Kusaka and Osami Sakata :
Alteration of internal stresses in SiO2/Cu/TiN thin films by synchrotron radiation due to heat treatment,
The 8th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, TF-P1-13, Kanazawa, Jun. 2005.
28. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
In-situ observation of thermal stress in nano-size thin aluminum films,
The Seventh International Conference on Residual Stresses, Xi'an, China, Jul. 2004.
29. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
In-situ Thermal Stress Measurement of Thin Films During Thermal Cycling,
Proceedings of 4th International Forum on Advanced Materila Science and Technology, Troyes([France]), Jul. 2004.
30. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
In-situ Observation of Thermal Stress in Nano-size Thin Films,
Proceedings of 16th International Vacuum Congress, Venice([Italy]), Jun. 2004.
31. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Shoso Shingubara, Tatsuya Matsue and Osami Sakata :
In-situ thermal stress measurement in nano-sized aluminum and copper films with SOG passivation,
AIP Conference Proceedings of Stress-induced Phenomena in Metallization, Vol.741, 229-235, Austin([USA]), Jun. 2004.
32. Mitsuhiko Hataya, Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kikuo Tominaga, Tatsuya Matsue and Osami Sakata :
Residual Stress Measurement in Sputtered Copper Thin Films by Synchrotron Radiation and Ordinary X-rays,
Proceedings of the 7th International Conference on Residual Stresses, 661-666, Xi'an, Jun. 2004.
33. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Noriyoshi Yamauchi :
Effect of Substrate Temperature on Crystal Orientation and Residual Stress in RF Sputtered Gallium Nitride Films,
Proceedings of the 7th International Conference on Residual Stresses, 613-618, Xi'an, Jun. 2004.
34. Dongying Ju, Tomio Ueda, Takashi Hatakeyama, Takuya Arizono, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Evaluation of Residual Stress in Nano-TiO2 Film on ITO Glass by Synchrotron X-Ray Diffraction,
Proceedings of the 7th International Conference on Residual Stresses, Xi'an, Jun. 2004.
35. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
In-situ Observation of Thermal Stress in Nano-size Thin Aluminum Films,
Proceedings of the 7th International Conference on Residual Stresses, Xi'an, Jun. 2004.
36. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
In-situ observation of thermal stress in nano-size thin films,
16th International vacuum congress, Venice, Italy, 2004.
37. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shoso Shingubara and Osami Sakata :
In-situ thermal stress measurement of thin films during thermal cycling,
4th International forum on advanced materials science and technology, Troyes, France, 2004.
38. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Measurement of Crystal Orientation and Residual Stress in GaN Film Deposited by RF Sputtering with Powder Target,
Proceedings of the Seventh International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 157-160, Kanazawa, Jun. 2003.
39. Kikuo Tominaga, Takuya Kikuma, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Energetic oxygen ions in ZrO2 deposition by reactive sputtering of Zr,
Proc. 6th International Symposium on Sputtering &Plasma Processes, 434-437, Kanazawa, Jun. 2001.
40. Takao Hanabusa, Yasuhiro Miki, Tatsuya Matsue and Kazuya Kusaka :
The Effect of Residual Stresses on the Wear Behavior of TiN Films on Aluminum Substrates,
Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses, Vol.2, 827-834, Oxford, United Kingdom, Jul. 2000.
41. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film,
Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses, Vol.1, 391-398, Oxford, United Kingdom, Jul. 2000.
42. Kikuo Tominaga, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kouhei Furutani, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
InN film deposition by planar magnetron sputtering,
Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development & Performance Evaluation and Application, 474-477, Tokushima, Nov. 1999.
43. Kazuya Kusaka, Daisike Taniguchi, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Sputtering Power on Residual Stress in AlN Film Deposited by d.c. Sputtering,
Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 223-228, Tokushima, Nov. 1999.
44. Takeshi Sugiyama, Masayuki Nishida, Takao Hanabusa and Kazuya Kusaka :
FEM Examination of Triaxiality on X-ray Stress Measurement,
Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 895-899, Tokushima, Nov. 1999.
45. Kouhei Furutani, Bujang Lieng Anak John, Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Depositing Time and Sputtering Power on Residual Stress in InN Films Deposited by RF Sputtering,
Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 887-890, Tokushima, Nov. 1999.
46. Kunihiko Hashimoto, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
X-ray Stress Measurement of Sintered Steel, --- A Simulation of Japanease Sword ---,
Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 891-894, Tokushima, Nov. 1999.
47. Daisike Taniguchi, Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Sputtering Power on Residual Stress in AlN Films Deposited by rf Sputtering,
Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 883-886, Tokushima, Nov. 1999.
48. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Takahiro Ao :
Effect of External Magnetic Field on Residual Stress in AlN Films Prepared by Sputtering System,
Proceedings of the Second International Conference on Nitride Semiconductors, 378, Tokushima, Oct. 1997.
49. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Masayuki Nishida :
Development of Thermal Stress in Aluminum Film on Silicon Substrate,
Proceedings of the First International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 268-273, Auckland, Jul. 1997.
50. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effect of Nitrogen Gas Pressure on Residual Stress in AlN Films Deposited by Planar Magnetron Sputtering System,
Proceedings of the First International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, 310-315, Auckland, Jul. 1997.
51. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Takahiro Ao :
Effect of Partial Nitrogen Gas Pressure on Residual Stress in AlN Films Prepared by Sputtering System,
Proceedings of the Fifth International Conference on Residual Stresses, 1048-1053, Linkoeping, Sweden, Jun. 1997.
52. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Masayuki Nishida and Fukuji Inoko :
In-situ Thermal Stress Measurement and Observation of Void and Hillock Formation of Aluminum Film,
Proceedings of the Fifth International Conference on Residual Stresses, Vol.2, 854-861, Linkoeping, Sweden, Jun. 1997.
53. Kikuo Tominaga, Takahiro Ao, Yoshifumi Sato, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Magnetic field dependence of AlN film properties in DC facing target sputtering,
4th International symposium on sputtering & plasma processes, 129-133, Kanazawa, Jun. 1997.
54. Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga :
Effects of Substrate Temperature and Successive Annealing on Residual Stress in AlN Films Dposited by Sputtering,
Proceedings of the First International Symposium on Thermal Stresses and Related Topics, 599-602, Hamamatsu, Jun. 1995.
55. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Kikuo Tominaga :
Residual Stress in Aluminum Nitride Films Deposited on Glass Substrate by Magnetron Sputtering Method,
Proceedings of the Fourth International Conference on Residual Stresses, 631-639, Baltimore, Maryland, USA, Jun. 1994.
56. Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kikuo Tominaga and Haruo Fujiwara :
Dependence of Substrate and Its Temperature on Residual Sress Development in AlN Films Deposited on Glasses by Magnetron Sputtering Method,
Proceedings of International Symposium on Nondestructive Testing & Stress-Strain Measurement, 516-523, Tokyo, Oct. 1992.

国内講演発表:

1. 松本 明彦, 日下 一也, 米倉 大介 :
AIP法で堆積した窒化クロム膜のX線的弾性定数測定,
第58回X線材料強度に関するシンポジウム論文集, 13-16, 2024年7月.
2. 松本 明彦, 日下 一也, 米倉 大介 :
膜厚を統一した窒化クロム薄膜のドロップレット密度と残留応力の関係,
第57回X線材料強度に関するシンポジウム論文集, 31-34, 2023年7月.
3. 森口 茉梨亜, 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, 寺田 賢治 :
自主的な学生プロジェクト活動における 能力自己評価の変化についての考察,
日本教育工学会研究報告集, Vol.2023, No.1, 69-76, 2023年5月.
4. 森口 茉梨亜, 亀井 克一郎, 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, 寺田 賢治 :
学生プロジェクト活動における業務負担とその軽減への考察,
第18回 大学教育カンファレンスin徳島発表抄録集, 56-57, 2022年12月.
5. 森口 茉梨亜, 亀井 克一郎, 玉有 朋子, 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, 寺田 賢治 :
コロナ禍 3 年目を迎えた自主的な学生プロジェクト活動の実態と その支援の実践について,
第 19 回 ものづくり・創造性教育に関するシンポジウム, 4-6, 2022年12月.
6. 森口 茉梨亜, 亀井 克一郎, 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, 寺田 賢治, 玉有 朋子 :
徳島大学イノベーションプラザの学生プロジェクト活動への 支援とその方法の検討,
第10回イノベーション教育学会年次大会, 2022年11月.
7. 川﨑 森生, 坂崎 拓海, 日下 一也, 米倉 大介 :
AIP法で生成したCrN膜内のドロップレットが圧縮残留応力に及ぼす影響,
第56回X線材料強度に関するシンポジウムプログラム講演論文集, 68-71, 2022年7月.
8. 日下 一也, 川崎 森生, 坂崎 拓海, 米倉 大介 :
膜厚を統一したCrN薄膜の残留応力とドロップレット密度の関係,
第71期学術講演会論文集, 2022年5月.
9. 森口 茉梨亜, 亀井 克一郎, 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, 寺田 賢治 :
第 19 回 ものづくり・創造性教育に関するシンポジウム,
第 19 回 ものづくり・創造性教育に関するシンポジウム講演論文集, 11-14, 2022年2月.
10. 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, 寺田 賢治, 森口 茉梨亜 :
「イノベーション・プロジェクト入門および実践」における活動報告書のルーブリックを用いた評価,
教育シンポジウム2022, 2022年1月.
11. 川﨑 森生, 岡 翼, 日下 一也, 米倉 大介 :
AIP法により生成した窒化クロム薄膜のドロップレット量の残留応力および基板設置位置依存性,
第55回X線材料強度に関するシンポジウムプログラム講演論文集, 42-45, 2021年10月.
12. 川﨑 森生, 岡 翼, 日下 一也, 米倉 大介 :
アークイオンプレーティング法で形成した窒化クロム薄膜の圧縮残留応力と表面性状の関係,
第70期学術講演会論文集, 2021年5月.
13. 日下 一也, 金井 純子, 芥川 正武, 村井 啓一郎, 寺田 賢治, 森口 茉梨亜 :
プロジェクトマネジメント基礎におけるルーブリック個人評価の実施と効果,
徳島大学教育シンポジウム2021, 2021年1月.
14. 日下 一也, 矢田貝 俊樹, 横山 亮一 :
c軸優先配向した酸化亜鉛薄膜のX線的弾性定数測定,
日本材料学会第69期学術講演会論文集, 2020年5月.
15. 日下 一也, 金井 純子, 芥川 正武, 村井 啓一郎, 寺田 賢治, 森口 茉梨亜 :
プロジェクトマネジメント基礎におけるルーブリック個人評価の実施と効果,
教育シンポジウム2020, 2020年.
16. 森口 茉梨亜, 寺田 賢治, 日下 一也, 浮田 浩行, 金井 純子, , 北岡 和義 :
徳島大学イノベーションプラザにおける学生プロジェクトの活動∼教学IRによる教育の質保証を目指して∼,
大学教育カンファレンス in 徳島, 2019年12月.
17. 日下 一也, 白坂 賢汰, 米倉 大介, 田中 勇太 :
AIP法によりTi合金基板上に堆積したCr/CrN多層膜の残留応力のドロップレット量依存性,
第53回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 13-16, 2019年7月.
18. 白坂 賢汰, 日下 一也, 米倉 大介, 田中 勇太 :
アルミニウム合金基板上に堆積させた応力勾配を有するCrN単層膜およびCr/CrN多層膜の内部応力評価,
第53回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 5-8, 2019年7月.
19. 日下 一也, 白坂 賢汰, 米倉 大介, 田中 勇太 :
{211}優先配向したCr/CrN多層膜の応力測定,
日本材料学会第68期学術講演会講演論文集, 33-34, 2019年5月.
20. 白坂 賢汰, 日下 一也, 米倉 大介, 田中 勇太 :
アルミニウム合金基板上に堆積させた応力勾配を有する CrN 単層膜の残留応力測定,
日本材料学会第68期学術講演会講演論文集, 31-32, 2019年5月.
21. 白坂 賢汰, 日下 一也, 米倉 大介, 田中 勇太 :
二種類の基板上に堆積したCrN単層膜およびCr/CrN多層膜の残留応力評価,
第52回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 67-70, 2018年7月.
22. 柏木 祐輔, 日下 一也 :
ポリイミドフィルム上に堆積した銅薄膜の回折弾性定数の基板温度および膜厚依存性,
日本材料学会第67期学術講演会講演論文集, 197-198, 2018年5月.
23. 白坂 賢汰, 福田 幹哉, 日下 一也, 米倉 大介, 田中 勇太 :
AIP法によりTi合金及びAl合金基板上に堆積させたCrN単層膜及びCr/CrN多層膜の内部応力測定,
日本材料学会第67期学術講演会講演論文集, 199-200, 2018年5月.
24. 中井 聡, 井上 優香, 日下 一也, 米倉 大介, 田中 勇太 :
Cr/CrN多層膜を被覆したチタン合金のエロージョン特性,
日本材料学会第67期学術講演会講演論文集, 180-181, 2018年5月.
25. 北岡 和義, 金井 純子, 日下 一也, 織田 聡, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
イノベーション教育のための全学組織「創新教育センター」の設置と今後の展望,
イノベーション教育学会第5回年次大会, 2017年11月.
26. 金井 純子, 日下 一也, 井上 貴文, 久保 智裕, 安澤 幹人, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
社会人基礎力育成に向けたプロジェクトマネジメント教育の効果,
平成29年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集, 355-358, 2017年9月.
27. 金井 純子, 森本 恵美, 井上 貴文, 佐々木 千鶴, 北岡 和義, 日下 一也, 浮田 浩行, 岡本 敏弘, 岸本 豊, 出口 祥啓, 久保 智裕, 安澤 幹人, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
学生の自己能力評価アンケート調査からみたイノベーション教育の課題,
大学教育カンファレンスin徳島, 2016年12月.
28. 日下 一也, 大西 舞, 塚越 雅幸, 安澤 幹人, 玉井 伸岳, 芥川 正武 :
地域地域における実際の問題を解決するにおける実際の問題を解決する企画設計実習の取り組み,
第63回工学教育研究講演会講演論文集, 2A06_1-2, 2015年9月.
29. 日下 一也, 山田 祐馬 :
結晶粒径の異なる銅薄膜のヒロック形成と初期残留応力の関係,
第46回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 2012年7月.
30. 日下 一也, 富永 喜久雄 :
金属-セラミックス傾斜機能薄膜の金属界面層の残留応力測定,
第45回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 111-114, 2011年7月.
31. 日下 一也, 草野 剛嗣, 藤澤 正一郎 :
設計と製作を分担したものづくり実習の試み,
平成22年度工学・工業教育研究講演会講演論文集, 182-183, 2010年8月.
32. 日下 一也, 富永 喜久雄 :
電源の異なる二種類のスパッタリング法で堆積させた2層の窒化アルミニウム薄膜の残留応力測定,
第44回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 105-109, 2010年7月.
33. 小濱 達也, 日下 一也, 英 崇夫 :
AIP法によって生成したTiN膜の残留応力の熱的特性,
日本材料学会第58期学術講演会, 2009年5月.
34. 續木 章三, 英 崇夫, 日下 一也 :
視覚的理解から操作・体得理解へ-4節リンク模型を用いた「機構学」での動機付け-,
平成20年度工学・工業教育研究講演会講演論文集, 38-39, 2008年8月.
35. 日下 一也, 高木 均, 米倉 大介, 長町 拓夫, 英 崇夫 :
設計-製作分離型ものづくり実習の試み,
平成20年度工学・工業教育研究講演会 講演論文集, 66-67, 2008年8月.
36. 篠原 光彦, 英 崇夫, 日下 一也 :
繰り返し曲げ付加によるCu薄膜の残留応力評価,
第43回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 92-96, 2008年7月.
37. 松英 達也, 英 崇夫, 日下 一也, 坂田 修身 :
熱処理を施したCrN薄膜の残留応力,
第43回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 97-101, 2008年7月.
38. 磯田 大和, 英 崇夫, 日下 一也 :
レーザピーニング処理されたアルミニウム合金に発生する圧縮残留応力のレーザ角度依存性,
第43回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 47-52, 2008年7月.
39. 只重 大樹, 英 崇夫, 日下 一也, 西田 真之 :
粗大結晶粒を有するアルミニウム鋳造材の内部応力測定,
第43回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 1-6, 2008年7月.
40. 續木 章三, 英 崇夫, 桐山 聰, 日下 一也 :
プロジェクト活動における教育的効果について,
平成19年度工学・工業教育研究講演会講演論文集, 144-145, 2007年8月.
41. 角田 卓巳, 英 崇夫, 日下 一也 :
スパッタリング生成した銅薄膜表面の高温その場表面観察,
第42回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 156-158, 2007年7月.
42. 日下 一也, 英 崇夫, 桐本 知幸 :
アルミニウム鋳造材の応力測定,
第42回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 93-97, 2007年7月.
43. 日下 一也, 草野 剛嗣 :
導入型創成科目におけるエネルギーコンテストの試み,
平成18年度工学・工業教育研究講演会 講演論文集, 642-643, 2006年7月.
44. 松英 達也, 英 崇夫, 池内 保一, 日下 一也, 坂田 修身 :
放射光による熱処理された硬質薄膜の残留応力測定,
第41回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 40-45, 2006年7月.
45. 日下 一也, 金子 健太, 英 崇夫, 坂田 修身 :
放射光を用いた窒化アルミニウム-銅積層膜の熱応力その場測定,
第41回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 13-18, 2006年7月.
46. 金子 健太, 日下 一也, 英 崇夫, 坂田 修身 :
放射光を用いたナノサイズ銅薄膜の熱応力その場測定,
第41回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 7-12, 2006年7月.
47. 日下 一也, 英 崇夫, 三木 一正 :
レーザピーニング処理した砲金の残留応力のレーザ焦点位置および操作速度依存性,
第40回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 107-112, 2005年9月.
48. 桐山 聰, 日下 一也, 黒岩 眞吾, 原口 雅宣, 英 崇夫 :
学生自主プロジェクト活動実態に関する考察,
平成17年度 工学·工業教育研究講演会講演論文集, 200-201, 2005年9月.
49. 川崎 泰, 清水 郁夫, 旗谷 充彦, 松原 敏夫, 盛合 敦, 日下 一也, 英 崇夫 :
中性子回折法によるSPS材料の強度特性評価,
第40回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 42-47, 2005年9月.
50. 桐山 聰, 日下 一也, 英 崇夫 :
創成学習開発センターにおける創造性教育の取り組み,
第66回応用物理学会学術講演会講演予稿集, 332, 2005年9月.
51. 高井 秀哲, 英 崇夫, 日下 一也, 松英 達也, 坂田 修身 :
TiN薄膜熱応力その場測定,
日本材料学会四国支部第6期総会·学術講演会講演論文集, 45-46, 2005年4月.
52. 佐伯 好彦, 日下 一也, 英 崇夫 :
レーザピーニング処理したアルミニウム合金の残留応力分布とその評価,
日本材料学会四国支部第6期総会·学術講演会講演論文集, 43-44, 2005年4月.
53. 金子 健太, 日下 一也, 英 崇夫 :
放射光を用いたナノサイズアルミニウム薄膜の熱応力その場測定,
日本材料学会四国支部第6期総会·学術講演会講演論文集, 39-40, 2005年4月.
54. 川崎 泰, 旗谷 充彦, 清水 郁夫, 松原 敏夫, 盛合 敦, 英 崇夫, 日下 一也 :
中性子回折法による金属およびセラミックスのSPS焼結材の特性評価,
日本材料学会四国支部第6期総会·学術講演会講演論文集, 37-38, 2005年4月.
55. 野田 和宏, 旗谷 充彦, 英 崇夫, 日下 一也, 大島 浩二, 石田 友幸, 新宮原 正三, 松英 達也, 坂田 修身 :
極細Al配線のエレクトロマイグレーション誘起ひずみの測定,
第39回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 219-223, 2004年9月.
56. 英 崇夫, 日下 一也, 新宮原 正三, 野田 和宏, 松英 達也, 坂田 修身 :
放射光を用いたナノサイズアルミニウム薄膜の熱応力その場測定,
第39回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 213-218, 2004年9月.
57. 高井 秀哲, 英 崇夫, 日下 一也, 松英 達也, 坂田 修身 :
窒化チタン薄膜の残留応力および表面特性,
第39回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 208-212, 2004年9月.
58. 松英 達也, 英 崇夫, 池内 保一, 日下 一也, 坂田 修身 :
熱処理によるSiO2/Cu/TiN積層膜の残留応力変化,
第39回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 202-207, 2004年9月.
59. 日下 一也, 田中 剛, 英 崇夫 :
レーザーピーニング処理したアルミニウム合金の残留応力のレーザーパワーおよび走査速度依存性,
第39回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 141-146, 2004年9月.
60. 旗谷 充彦, 中川 真, 松原 敏夫, 盛合 敦, 鈴木 裕士, 皆川 宣明, 森井 幸生, 日下 一也, 英 崇夫 :
金属/セラミックス系傾斜機能材料の内部残留応力測定,
第39回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 93-97, 2004年9月.
61. 日下 一也, 英 崇夫, 新宮原 正三, 松英 達也, 坂田 修身, 野田 和宏 :
ナノサイズアルミニウム薄膜の熱応力その場測定,
日本機械学会2004年度年次大会講演論文集, Vol.1, 2004年9月.
62. 日下 一也, 英 崇夫, 野田 和宏, 旗谷 充彦, 新宮原 正三, 松英 達也, 坂田 修身 :
放射光を用いたナノサイズアルミニウム薄膜の熱応力その場測定,
LSI配線における原子輸送·応力問題 第10回研究会予稿集, 34-35, 2004年7月.
63. 日下 一也, 田中 剛, 英 崇夫 :
レーザーピーニング処理したアルミニウム合金の残留応力のレーザーパワー依存性,
第53期 学術講演会講演論文集, 49-50, 2004年5月.
64. 高井 秀哲, 日下 一也, 英 崇夫, 松英 達也, 坂田 修身 :
ナノサイズ窒化チタン薄膜の残留応力測定および表面特性,
日本材料学会四国支部第5期総会·学術講演会講演論文集, 7-8, 2004年4月.
65. 旗谷 充彦, 野田 和宏, 日下 一也, 富永 喜久雄, 英 崇夫, 松英 達也, 坂田 修身 :
ナノサイズCu薄膜の残留応力測定,
日本材料学会四国支部第5期総会·学術講演会講演論文集, 5-6, 2004年4月.
66. 旗谷 充彦, 中川 真, 松原 敏夫, 盛合 敦, 鈴木 裕士, 皆川 宣明, 森井 幸生, 日下 一也, 英 崇夫 :
金属/セラミックス系傾斜機能材料の内部残留応力測定,
日本材料学会四国支部第5期総会·学術講演会講演論文集, 1-2, 2004年4月.
67. 野田 和宏, 英 崇夫, 日下 一也, 坂田 修身, 佐藤 俊樹, 松英 達也 :
放射光およびX線を用いたTiN薄膜の残留応力測定および表面観察,
第47回 日本学術会議材料研究連合講演会講演論文集, 303-304, 2003年10月.
68. 旗谷 充彦, 中川 真, 松原 敏夫, 盛合 敦, 森井 幸生, 日下 一也, 英 崇夫 :
Al-Al2O3系焼結複合材料の中性子回折法による内部残留応力分布評価,
第47回 日本学術会議材料研究連合講演会講演論文集, 295-296, 2003年10月.
69. 日下 一也, 堀川 敬太郎, 大山 啓, 高木 均 :
グループ活動における個人の成績評価, --- 創造実習における試み ---,
平成15年度工学·工業教育研究講演会講演論文集, 623-624, 2003年9月.
70. 高木 均, 日下 一也, 英 崇夫, 川上 博 :
課題探求型授業「ルーツを探れ」の試み,
平成15年度工学·工業教育研究講演会講演論文集, 417-418, 2003年9月.
71. 大山 啓, 高木 均, 日下 一也, 堀川 敬太郎 :
Lego Mindstormsを利用した創造的ものづくり教育とその効果,
平成15年度工学·工業教育研究講演会講演論文集, 455-458, 2003年9月.
72. 日下 一也, 堀川 敬太郎, 大山 啓, 高木 均 :
グループ活動における個人の成績評価,
日本機械学会2003年度年次大会講演論文集, Vol.V, 203-204, 2003年8月.
73. 高木 均, 日下 一也, 英 崇夫 :
技術史教育「ルーツを探れ」の試みとその効果,
日本機械学会2003年度年次大会講演論文集, Vol.V, 181-182, 2003年8月.
74. 大山 啓, 高木 均, 日下 一也, 堀川 敬太郎 :
Lego Mindstormsを用いた創造教育の実践,
日本機械学会2003年度年次大会講演論文集, Vol.V, 201-202, 2003年8月.
75. 日下 一也, 富永 喜久雄, 英 崇夫 :
GaNスパッタ膜の結晶配向性と内部応力の基盤温度依存性,
平成14年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, 186, 2002年10月.
76. 英 崇夫, 日下 一也, 西田 真之, 松英 達也 :
シンクロトロン放射光によるTiN薄膜の結晶配向性と残留応力測定,
第38回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 93-98, 2002年9月.
77. 西池 誠人, 英 崇夫, 日下 一也 :
レーザーピーニング処理されたアルミニウム表面の評価,
第38回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 128-131, 2002年9月.
78. 日下 一也, 山内 規義, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
高周波スパッタリング生成した単結晶窒化ガリウム膜の残留応力測定,
第38回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 41-46, 2002年9月.
79. 英 崇夫, 日下 一也 :
卒業研究のプレゼンテーション評価,
平成14年度 工学·工業教育研究講演会講演論文集, 199-202, 2002年7月.
80. 日下 一也, 大山 啓, 堀川 敬太郎, 高木 均 :
Lego Mindstormsを使った創成型教育の実施と評価,
平成14年度 工学·工業教育研究講演会講演論文集, 371-374, 2002年7月.
81. 日下 一也, 山内 規義, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
スパッタリング生成した単結晶ガリウム膜の残留応力測定,
第51期 学術講演会講演論文集, 235-236, 2002年5月.
82. 西池 誠人, 英 崇夫, 日下 一也 :
レーザーピーニング処理した炭素鋼の残留応力測定,
第51期 学術講演会講演論文集, 225-226, 2002年5月.
83. 富永 喜久雄, 喜久間 拓也, 日下 一也, 英 崇夫 :
ZrO2膜作製における高速酸素発生とZrターゲット面酸化機構モデル,
第49回応用物理学関係連合講演会, Vol.2, 635, 2002年3月.
84. 富永 喜久雄, 喜久間 拓也, 日下 一也, 英 崇夫, 向井 孝志 :
プレーナマグネトロンスパッタリング法によるサファイヤ基板上へのGaN膜の作製,
第49回応用物理学関係連合講演会, Vol.2, 597, 2002年3月.
85. 日下 一也, 古谷 公平, 喜久間 拓也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
スパッタリングGaN薄膜の結晶配向性および残留応力のプラズマ防止網の効果,
第37回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 175-179, 2001年9月.
86. 日下 一也, 谷口 大輔, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
直流2極および高周波スパッタリング生成したAlN薄膜の結晶配向性および残留応力,
第37回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 170-174, 2001年9月.
87. 西池 誠人, 英 崇夫, 日下 一也 :
レーザーピーニング処理したアルミニウム表面の残留応力評価,
第50期 学術講演会講演論文集, 405-406, 2001年5月.
88. 日下 一也, 英 崇夫 :
AIP法で作製した窒化クロム膜の優先配向性と残留応力評価,
第50期 学術講演会講演論文集, 401-402, 2001年5月.
89. 富永 喜久雄, 喜久間 拓也, 古谷 公平, 日下 一也, 英 崇夫, 向井 孝志 :
プレーナマグネトロンスパッタリング法によるGaN膜の作製,
平成12年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, 188, 2000年10月.
90. 日下 一也, 満村 宏典, 古谷 公平, 英 崇夫, 酒井 士郎 :
単結晶GaN薄膜の残留応力測定,
第36回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 291-295, 2000年9月.
91. 英 崇夫, 森口 忠和, 日下 一也, 松英 達也 :
アルミニウム基材へのTiN厚膜の作成とその摩耗特性,
第36回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 54-58, 2000年9月.
92. 谷口 大輔, 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
AlNスパッタリング膜の結晶配向性および残留応力の放電電力依存性,
第35回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 115-119, 1999年9月.
93. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
直流スパッタAlN膜の結晶配向性および残留応力の膜厚依存性,
第35回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 109-114, 1999年9月.
94. 英 崇夫, 日下 一也, 細田 祐吉, 富永 喜久雄 :
対向ターゲット式スパッタリング法により生成したZnO薄膜の残留応力測定,
第34回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 141-145, 1998年7月.
95. 三木 靖浩, 谷口 正, 日下 一也, 英 崇夫, 米谷 栄治 :
アークイオンプレーティング法によるアルミニウム基板へのTiN膜の形成とその機械的特性,
第34回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 49-54, 1998年7月.
96. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
AlN薄膜のc軸配向性と残留応力の外部磁場依存性,
第33回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 66-71, 1997年7月.
97. 細田 祐吉, 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
対向ターゲット式スパッタリング装置を用いて作製したZnO膜の残留応力測定,
第33回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 61-65, 1997年7月.
98. 英 崇夫, 日下 一也, 花木 英司 :
Al膜の熱応力の保護膜による影響,
第33回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 44-49, 1997年7月.
99. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄, 阿尾 高広 :
交替式スパッタリング装置を用いて生成したAlN膜の残留応力測定,
第32回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 238-243, 1996年7月.
100. 英 崇夫, 西田 真之, 日下 一也 :
レーザ溶射膜の残留応力のX線的測定,
第32回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 155-160, 1996年7月.
101. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
マグネトロンスパッタリング法で生成したAlN膜のプラズマ防止網の効果,
第31回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 135-140, 1995年7月.
102. 日下 一也, 花木 英司, 西田 真之, 猪子 富久治, 英 崇夫 :
熱酸化シリコン基板上に蒸着したAl膜の熱処理による残留応力の変化,
第31回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 129-134, 1995年7月.
103. 日下 一也, 太田 勝之, 布川 清一, 英 崇夫, 猪子 富久治 :
Al薄膜の残留応力の熱処理による変化,
日本機械学会·材料力学部門講演会論文集, Vol.B, No.940-37, 318-319, 1994年10月.
104. 英 崇夫, 日下 一也 :
{111}配向膜のX線的応力解析,
日本機械学会·材料力学部門講演会論文集, Vol.B, No.940-37, 316-317, 1994年10月.
105. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
アンバランスドターゲットを用いたプレーナマグネトロンスパッタリング装置で作製したAlN膜の残留応力の窒素ガス圧依存性,
第30回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 75-80, 1994年7月.
106. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
プレーナマグネトロンスパッタリング生成したAlN膜の結晶配向性と残留応力の窒素ガス圧依存性,
第43期学術講演会論文集, 151-152, 1994年5月.
107. 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 :
プレーナマグネトロンスパッタリング生成によるAlN膜の結晶配向性と残留応力のプラズマ汚染の影響,
第29回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 63-68, 1993年7月.
108. 英 崇夫, 富永 喜久雄, 藤原 晴夫, 日下 一也 :
スパッタリング生成によるAlN膜の残留応力の基板温度依存性,
第28回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 93-98, 1992年7月.

その他・研究会:

1. 藤澤 正一郎, 日下 一也, 北岡 和義, 織田 聡, 金井 純子, 寺田 賢治 :
世界で活躍する『創新(イノベーション)人材』育成のための「創新教育センター」の概要,
電気学会研究会資料，制御研究会, Vol.CT-18, No.076, 27-30, 2018年3月.
2. 金井 純子, 井上 貴文, 日下 一也, 久保 智裕, 安澤 幹人, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
創成学習開発センターが支援するプロジェクトマネジメント基礎による創造性教育,
教育シンポジウム2017, 2017年3月.
3. 金井 純子, 森本 恵美, 井上 貴文, 丹羽 実輝, 佐々木 千鶴, 日下 一也, 浮田 浩行, 岸本 豊, 出口 祥啓, 久保 智裕, 安澤 幹人, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
ものづくり教育による大学生の能力向上,
電気学会研究会資料 制御研究会, No.CT-16-036, 93-95, 2016年3月.
4. 金井 純子, 森本 恵美, 井上 貴文, 丹羽 実輝, 佐々木 千鶴, 日下 一也, 浮田 浩行, 岸本 豊, 出口 祥啓, 久保 智裕, 安澤 幹人, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
徳島大学創成学習開発センターが支援する自主プロジェクト演習による創造性教育,
工学教育シンポジウム2016, 2016年3月.
5. 日下 一也, 貴島 政親, 大西 舞, 森本 恵美, 塚越 雅幸, 安澤 幹人, 玉井 伸岳, 芥川 正武, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
導入科目「プロジェクトマネージメント基礎」における企画設計実習の取り組み,
電気学会研究会資料 制御研究会, No.CT-14-87, 25-30, 2014年12月.
6. 日下 一也, 山田 洋平, 大西 舞, 塚越 雅幸, 安澤 幹人, 後藤 優樹, 森本 恵美, 芥川 正武, 寺田 賢治, 藤澤 正一郎 :
導入科目「プロジェクトマネジメント基礎」の実施と評価,
電気学会研究会資料 制御研究会, Vol.CT-14, No.15, 11-16, 2014年4月.
7. 日下 一也 :
第6回残留応力に関する国際会議(ICRS-6)に出席して,
材料, Vol.49, No.11, 1255, 2000年11月.

報告書:

1. 桐山 聰, 日下 一也, 英 崇夫 :
動きはじめた創成学習―徳島大学創成学習開発センターの活動,
大学教育研究ジャーナル(徳島大学), No.2, 95-106, 徳島, 2005年3月.
(徳島大学機関リポジトリ: 82381)

科学研究費補助金 (KAKEN Grants Database @ NII.ac.jp)

  • 高いき裂進展抑制効果を発現する耐エロージョン性Cr/CrN多層コーティング膜の開発 (研究課題/領域番号: 23K03576 )
  • Cr/CrN多層コーティング膜を利用した耐エロージョン材料の開発 (研究課題/領域番号: 20K04160 )
  • ミクロな視点から覗く結晶界面の変形拘束 (研究課題/領域番号: 21560095 )
  • 微小領域にレーザピーニング処理したアルミニウム合金の内部応力評価 (研究課題/領域番号: 17760085 )
  • ナノサイズ薄膜の強度支配因子は何か? (研究課題/領域番号: 17560071 )
  • X線およびシンクロトロン放射光による薄膜の高温挙動その場観察 (研究課題/領域番号: 14550081 )
  • スパッタリング窒化物半導体薄膜の作製とX線回折を用いた特性評価 (研究課題/領域番号: 11750081 )
  • 薄膜および配線構造体の内部応力と原子輸送 (研究課題/領域番号: 10650092 )
  • 研究者番号（70274256）による検索