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専門分野

半導体/プラズマエレクトロニクス

研究テーマ

半導体プラズマ粒子と発光のシナジー効果によるGaNエッチングダメージの解明, DBDプラズマ/プラズマJETのグリーンテクノロジーへの応用, 薄膜系光触媒の反応活性化のための表面処理テクノロジー, LED光触媒反応を応用した鮮度維持テクノロジー, 半導体プラズマ表面反応のモデリング, ワイドギャップ半導体のプラズマエッチングダメージ解析 (半導体 (semiconductor), 非平衡プラズマ, 窒化物半導体, 薄膜系光触媒, LED, JETプラズマ, DBDプラズマ, バイオ, シナジー効果, 食品, ワイドギャップ半導体)

著書・論文

著書:

1. 川上 烈生, 白井 昭博 :
第7章第3節第2項「LEDと光触媒」,
株式会社エヌ·ティー·エス, 東京, 2019年12月.

学術論文(審査論文):

1. Retsuo Kawakami, Yuki Yoshitani, Akihiro Shirai, Shin-ichiro Yanagiya, Hirofumi Koide, Yuki Mimoto, Kosuke Kajikawa, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Effects of Nonequilibrium Atmospheric-Pressure O2 Plasma-Assisted Annealing on Anatase TiO2 Nanoparticles,
Applied Surface Science, Vol.526, 146684:1-146684:12, 2020.
(DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.146684)
2. Retsuo Kawakami, Yuki Yoshitani, Kimiaki Mitani, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Effects of Air-Based Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma Jet Treatment on Characteristics of Polypropylene Film Surfaces,
Applied Surface Science, Vol.509, 144910:1-144910:10, 2020.
(DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.144910,   Elsevier: Scopus)
3. Shin-ichiro Yanagiya, Toshihiko Takahata, Yuuki Yoshitani, Retsuo Kawakami and Akihiro Furube :
Steady-state and time-resolved optical properties of multilayer film of titanium dioxide sandwiched by gold nanoparticles and gold thin film,
ChemNanoMat : Chemistry of Nanomaterials for Energy, Biology and More, Vol.5, 1015-1020, 2019.
(徳島大学機関リポジトリ: 114234,   DOI: 10.1002/cnma.201900042,   Elsevier: Scopus)
4. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Shin-ichiro Yanagiya, Yuki Yoshitani, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Effects of Ultraviolet Wavelength and Intensity on AlGaN Thin Film Surfaces Irradiated Simultaneously with CF4 Plasma and Ultraviolet,
Vacuum, Vol.159, 45-50, 2019.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2018.10.017,   Elsevier: Scopus)
5. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Yuma Araki, Yuki Yoshitani, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Characteristics of TiO2 Thin Films Surfaces Treated by O2 Plasma in Dielectric Barrier Discharge with the Assistance of External Heating,
Vacuum, Vol.152, 265-271, 2018.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2018.03.051)
6. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Ryo Tanaka, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Characteristics of N2 and O2 Plasma-Induced Damages on AlGaN Thin Film Surfaces,
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science, Vol.214, No.11, 1700393-1-1700393-7, 2017.
(DOI: 10.1002/pssa.201700393)
7. Yoshitaka Nakano, Retsuo Kawakami and Masahito Niibe :
Generation of Electrical Damage in n-GaN Films Following Treatment in a CF4 Plasma,
Applied Physics Express, Vol.10, 116201-1-116201-4, 2017.
(DOI: 10.7567/APEX.10.116201,   Elsevier: Scopus)
8. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
AlGaN Surfaces Etched by CF4 Plasma with and without the Assistance of Near-Ultraviolet Irradiation,
Vacuum, Vol.136, 28-35, 2017.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2016.11.016,   Elsevier: Scopus)
9. Masahito Niibe, Takuya Kotaka, Retsuo Kawakami, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Damage Characteristics of n-GaN Crystal Etched with N2 Plasma by Soft X-Ray Absorption Spectroscopy,
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Vol.14, 9-13, 2016.
(DOI: 10.1380/ejssnt.2016.9,   CiNii: 130005120933,   Elsevier: Scopus)
10. Shohdai Hirai, Masahito Niibe, Retsuo Kawakami, Tatsuo Shirahama, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Surface Analysis of AlGaN Treated with CF4 and Ar Plasma Etching,
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Vol.13, 481-487, 2015.
(DOI: 10.1380/ejssnt.2015.481,   CiNii: 130005114535)
11. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Tatsuo Shirahama, Shodai Hirai and Takashi Mukai :
Comparison between AlGaN Surfaces Etched by Carbon Tetrafluoride and Argon Plasmas: Effect of the Fluorine Impurities Incorporated in the Surface,
Vacuum, Vol.119, 264-269, 2015.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2015.06.002,   Elsevier: Scopus)
12. Yoshitaka Nakano, Daisuke Ogawa, Keiji Nakamura, Retsuo Kawakami and Masahito Niibe :
Ar+-Irradiation-Induced Damage in Hydride Vapor-Phase Epitaxy GaN Films,
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.33, 043002-1-043002-5, 2015.
(DOI: 10.1116/1.4922593,   Elsevier: Scopus)
13. Keiji Sano, Masahito Niibe, Retsuo Kawakami and Yoshitaka Nakano :
Recovery of X-ray Absorption Spectral Profile in Etched TiO2 Thin Films,
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.33, No.3, 031403-1-031403-4, 2015.
(DOI: 10.1116/1.4917012,   Elsevier: Scopus)
14. Retsuo Kawakami, Yoshitaka Nakano, Masahito Niibe, Tatsuo Shirahama and Takashi Mukai :
Electrical Investigation of Deep-Level Defects Introduced in AlGaN/GaN Heterostructures by CF4 Plasma Treatments,
ECS Solid State Letters, Vol.4, No.4, 36-38, 2015.
(DOI: 10.1149/2.0011505ssl,   Elsevier: Scopus)
15. Chen Miao-Gen, Keiji Nakamura, Qiu Yan-Qing, Daisuke Ogawa, Retsuo Kawakami, Masahito Niibe and Yoshitaka Nakano :
Optical and Electrical Investigation of Ar+-Irradiated GaN,
Applied Physics Express, Vol.7, No.11, 111003-1-111003-3, 2014.
(DOI: 10.7567/APEX.7.111003)
16. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Tatsuo Shirahama, Kazuma Aoki, Kenta Oba, Mari Takabatake and Takashi Mukai :
Damage Characteristics of n-GaN Thin Film Surfaces Etched by Ultraviolet Light-Assisted Helium Plasmas,
Thin Solid Films, Vol.570, 81-86, 2014.
(DOI: 10.1016/j.tsf.2014.09.019)
17. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeuchi Hideo, Konishi Masashi, Mori Yuta, Shirahama Tatsuo, Yamada Tetsuya and Tominaga Kikuo :
Surface Damage of 6H-SiC Originating from Argon Plasma Irradiation,
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Vol.315, 213-217, 2013.
(DOI: 10.1016/j.nimb.2013.05.084,   Elsevier: Scopus)
18. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Shirahama Tatsuo, Yamada Tetsuya, Aoki Kazuma, Takabatake Mari, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage characteristics of n-GaN thin film surfaces etched by N2 plasmas,
Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics, Vol.10, No.11, 1553-1556, 2013.
(DOI: 10.1002/pssc.201300190,   Elsevier: Scopus)
19. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Konishi Masashi, Mori Yuta, Takeuchi Hideo, Shirahama Tatsuo, Yamada Tetsuya and Tominaga Kikuo :
Characteristics of TiO2 Surfaces Etched by Capacitively Coupled Radio Frequency N2 and He Plasmas,
Journal of Physics: Conference Series, Vol.441, 012038-1-012038-6, 2013.
(DOI: 10.1088/1742-6596/441/1/012038)
20. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Konishi Masashi, Mori Yuta, Takeichi Atsushi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Comparison between Damage Characteristics of p- and n-GaN Surfaces Etched by Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas,
Japanese Journal of Applied Physics, Vol.52, 05EC05-1-05EC05-5, 2013.
(DOI: 10.7567/JJAP.52.05EC05,   CiNii: 210000142263)
21. Niibe Masahito, Sano Keiji, Kotaka Takuya, Retsuo Kawakami, Tominaga Kikuo and Nakano Yoshitaka :
Etching Damage and Its Recovery by Soft X-ray Irradiation Observed in Soft X-ray Absorption Spectra of TiO2 Thin Film,
Journal of Applied Physics, Vol.113, No.12, 126101-1-126101-3, 2013.
(DOI: 10.1063/1.4798301)
22. Yoshitaka Nakano, Keiji Nakamura, Masahito Niibe, Retsuo Kawakami, Noriyoshi Ito, Takuya Kotaka and Kikuo Tominaga :
Effect of UV Irradiation on Ar-Plasma Etching Characteristics of GaN,
ECS Journal of Solid State Science and Technology, Vol.2, No.3, 110-113, 2013.
(DOI: 10.1149/2.004304jss,   Elsevier: Scopus)
23. Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Retsuo Kawakami, Nakano Yoshitaka, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage Analysis of n-GaN Crystal Etched with He and N2 Plasmas,
Japanese Journal of Applied Physics, Vol.52, 01AF04-1-01AF04-5, 2013.
(DOI: 10.7567/JJAP.52.01AF04,   CiNii: 210000141777)
24. Retsuo Kawakami, Atsushi Takeichi, Masahito Niibe, Masashi Konishi, Yuta Mori, Takuya Kotaka, Takeshi Inaoka, Kikuo Tominaga and Takashi Mukai :
Capacitively Coupled Radio Frequency Nitrogen Plasma Etch Damage to N-Type Gallium Nitride,
Vacuum, Vol.87, 136-140, 2013.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2012.07.006,   Elsevier: Scopus)
25. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeichi Atsushi, Mori Yuta, Konishi Masashi, Kotaka Takuya, Matsunaga Fumihiko, Takasaki Toshihide, Kitano Takanori, Miyazaki Takahiro, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Characteristics of TiO2 Thin Film Surfaces Treated by Helium and Air Dielectric Barrier Discharge Plasmas,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.51, No.8, 08HB04-1-08HB04-6, 2012.
(DOI: 10.1143/JJAP.51.08HB04,   CiNii: 210000141079)
26. Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage Analysis of Plasma-etched n-GaN Crystal Surface by Nitrogen K-edge NEXAFS Spectroscopy,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.51, No.1, 01AB02-1-01AB02-4, 2012.
(DOI: 10.1143/JJAP.51.01AB02,   CiNii: 210000071666)
27. Nakano Yoshitaka, Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeichi Atsushi, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Photoluminescence Study of Damage Introduced in GaN by Ar- and Kr-Plasmas Etching,
Materials Research Society Symposia Proceedings, Vol.1396, No.mrsf11-1396-o07-36, 1-6, 2011.
(DOI: 10.1557/opl.2011.1533)
28. Retsuo Kawakami, Takeichi Atsushi, Niibe Masahito, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Damage Characteristics of TiO2 Thin Film Surfaces Etched by Capacitively Coupled Radio Frequency Helium Plasmas,
Japanese Journal of Applied Physics, Vol.50, No.8, 08KD01-1-08KD01-5, 2011.
(DOI: 10.1143/JJAP.50.08KD01,   CiNii: 40018961090)
29. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo, Niibe Masahito, Mukai Takashi, Takeichi Atsushi and Fukudome Toshiaki :
Synergy Effect of Xenon Plasma Ions and Ultraviolet Lights on GaN Etch Surface Damage and Modification,
Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol.36, No.1, 75-78, 2011.
(DOI: 10.14723/tmrsj.36.75)
30. Niibe Masahito, Maeda Yoshie, Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Surface analysis of n-GaN crystal damaged by RF-plasma-etching with Ar, Kr, and Xe gases,
Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics, Vol.8, No.2, 435-437, 2011.
(DOI: 10.1002/pssc.201000507)
31. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo, Niibe Masahito, Mukai Takashi, Takeichi Atsushi and Fukudome Toshiaki :
Etch-induced damage characteristics of n-GaN surfaces by capacitively coupled radio frequency He and Ar plasmas,
Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics, Vol.8, No.2, 441-443, 2011.
(DOI: 10.1002/pssc.201000400)
32. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Fukudome Toshiaki, Takeichi Atsushi, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Effect of DBD Air Plasma Treatment on TiO2 Thin Film Surfaces,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.50, No.1, 01BE02-1-01BE02-5, 2011.
(DOI: 10.1143/JJAP.50.01BE02,   CiNii: 210000138316)
33. Retsuo Kawakami, Tominaga Kikuo, Okada Kenji, Nouda Takahiro, Inaoka Takeshi, Takeichi Atsushi, Fukudome Toshiaki and Murao Kenichi :
Etch Damage Characteristics of TiO2 Thin Films by Capacitively Coupled RF Ar Plasmas,
Vacuum, Vol.84, No.12, 1393-1397, 2010.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2010.01.006)
34. Retsuo Kawakami, Takeshi Inaoka, Kikuo Tominaga and Mukai Takashi :
Effects of Capacitively Coupled Radio Frequency Krypton and Argon Plasmas on Gallium Nitride Etching Damage,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.48, No.8, 08HF01-1-08HF01-4, 2009.
(DOI: 10.1143/JJAP.48.08HF01,   CiNii: 210000067284)
35. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Kuwahara Akinobu, Kikuo Tominaga and Mukai Takashi :
Synergy Effect of Particle Radiation and Ultraviolet Radiation from Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas on n-GaN Etching Damage,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.47, No.8, 6863-6866, 2008.
(DOI: 10.1143/JJAP.47.6863,   CiNii: 40016211119)
36. Retsuo Kawakami and Inaoka Takeshi :
Effect of Argon Plasma Etching Damage on Electrical Characteristics of Gallium Nitride,
Vacuum, Vol.83, No.3, 490-492, 2008.
(DOI: 10.1016/j.vacuum.2008.04.009)
37. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Minamoto Shingo and Kikuhara Yasuyuki :
Analysis of GaN Etching Damage by Capacitively Coupled RF Ar Plasma Exposure,
Thin Solid Films, Vol.516, No.11, 3478-3481, 2008.
(DOI: 10.1016/j.tsf.2007.08.019)
38. Retsuo Kawakami :
Simulation Study of Carbon Impurity Dynamics on Tungsten Surfaces Exposed to Hydrogen Ions,
Journal of Nuclear Materials, Vol.348, 256-262, 2006.
(DOI: 10.1016/j.jnucmat.2005.09.019)
39. Retsuo Kawakami :
Simulation study of carbon impurity dynamics on reduced-activation ferritic/martensitic steel material at elevated temperatures under hydrogen exposure,
Fusion Engineering and Design, Vol.81, No.8-14, 1683-1687, 2006.
(DOI: 10.1016/j.fusengdes.2005.09.009)
40. Retsuo Kawakami :
Simulation Study on Effects of Chemically Eroded Methane and Ethylene Molecules on Carbon Impurity Transport and Net Erosion of Carbon Materials,
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.7, 94-97, 2006.
41. Retsuo Kawakami, Tomohisa Shimada, Yoshio Ueda and Masahiro Nishikawa :
Influence of Carbon Impurity on Net Erosion of Reduced-Activation Ferritic/Martensitic Steel and Tungsten Materials Exposed to Hydrogen and Carbon Mixed Ion Beam Relevant to Fusion Plasma Boundary,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.45, No.1A, 221-227, 2006.
(DOI: 10.1143/JJAP.45.221,   CiNii: 40007102810,   Elsevier: Scopus)
42. Retsuo Kawakami and Mitani Takenori :
Simulation Study on Influence of Chemically Eroded Higher Hydrocarbons on SOL Impurity Transport and Effect of Dynamical Material Mixing on Erosion/Deposition of Tungsten Surfaces Exposed to Plasma Boundary,
Journal of Nuclear Materials, Vol.337-339, 45-49, 2005.
(DOI: 10.1016/j.jnucmat.2004.08.027)
43. Retsuo Kawakami :
Simulation Study on Influence of Chemically Eroded Carbon Impurity Transport on Net Sputtering Erosion of Carbon Materials Exposed to Edge Fusion Plasmas,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.44, No.2, 1069-1075, 2005.
(DOI: 10.1143/JJAP.44.1069,   CiNii: 130004533310)
44. Tomohisa Shimada, Takahisa Funabiki, Retsuo Kawakami, Yoshio Ueda and Masahiro Nishikawa :
Carbon Behavior on Tungsten Surface after Carbon and Hydrogen Mixed Beam Irradiation,
Journal of Nuclear Materials, Vol.329-333, No.0, 747-751, 2004.
(DOI: 10.1016/j.jnucmat.2004.04.180)
45. Yoshio Ueda, Takahisa Funabiki, Tomohisa Shimada, Retsuo Kawakami and Masahiro Nishikawa :
Effects of Carbon Impurity in Fusion Plasmas on Erosion of RAF First Wall,
Journal of Nuclear Materials, Vol.329-333, 771-774, 2004.
(DOI: 10.1016/j.jnucmat.2004.04.175)
46. Takenori Mitani, Retsuo Kawakami and Shuhei Kuriu :
Simulation Study of Sputtering Erosion and Impurity Deposition on Carbon and Tungsten Surfaces Irradiated with Deuterium Plasmas Including Carbon Impurity,
Journal of Nuclear Materials, Vol.329, No.329-333, 830-835, 2004.
(DOI: 10.1016/j.jnucmat.2004.04.212)
47. Retsuo Kawakami, Tomohisa Shimada, Yoshio Ueda and Masahiro Nishikawa :
Simulation Study of Dynamical Material Mixing on Tungsten Surfaces at Elevated Temperatures due to Hydrogen and Carbon Mixed Ion Beam Irradiation,
Journal of Nuclear Materials, Vol.329-333, No.0, 737-741, 2004.
(DOI: 10.1016/j.jnucmat.2004.04.182)
48. Retsuo Kawakami :
Temporal Evolution of Erosion/Deposition on Tungsten Surfaces Exposed to SOL Plasmas and its Impact on Plasma-Surface Interactions,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.43, No.2, 785-794, 2004.
(DOI: 10.1143/JJAP.43.785,   CiNii: 10012040928,   Elsevier: Scopus)
49. Retsuo Kawakami, Tomohisa Shimada, Yoshio Ueda and Masahiro Nishikawa :
Dynamic Behavior of Tungsten Surfaces due to Simultaneous Impact of Hydrogen and Carbon Ion Beam,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.42, No.12, 7529-7535, 2003.
(DOI: 10.1143/JJAP.42.7529,   CiNii: 130004530206,   Elsevier: Scopus)
50. Retsuo Kawakami and Kaoru Ohya :
Dynamic Behavior of Carbon Deposited on Tungsten Surface due to Carbon Ion Bombardment and Its Influence on Ion-Solid Interactions,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.42, No.8, 5259-5266, 2003.
(DOI: 10.1143/JJAP.42.5259,   CiNii: 10011448483,   Elsevier: Scopus)
51. Retsuo Kawakami and Kaoru Ohya :
Sputtering Erosion and Redeposition at Divertor Surfaces Exposed to ITER-FEAT Edge Plasmas,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.42, No.6A, 3623-3632, 2003.
(DOI: 10.1143/JJAP.42.3623,   CiNii: 210000053627,   Elsevier: Scopus)
52. Retsuo Kawakami and Kaoru Ohya :
Simulation Study of Material Mixing Process on Tungsten Surfaces at Elevated Temperatures due to Boundary Plasma Exposure and Its Influence on Plasma Wall Interactions,
Journal of Nuclear Materials, Vol.313-316, 107-111, 2003.
(DOI: 10.1016/S0022-3115(02)01378-8)
53. Kaoru Ohya and Retsuo Kawakami :
Dynamic Behavior of Sputtering of Tungsten Implanted in Carbon,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.40, No.12, 6965-6971, 2001.
(DOI: 10.1143/JJAP.40.6965,   Elsevier: Scopus)
54. Retsuo Kawakami and Kaoru Ohya :
Computer Simulation Study on Incident Fluence Dependence of Ion Reflection and Sputtering Processes from Layered and Mixed Materials,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.40, No.11, 6581-6588, 2001.
(Elsevier: Scopus)
55. Retsuo Kawakami and Kaoru Ohya :
Simulation Study on Erosion and Redeposition at Tungsten Surface Exposed to Deuterium Plasma Including Carbon Impurity,
Journal of Plasma and Fusion Research, Vol.77, No.9, 894-902, 2001.
56. Retsuo Kawakami and Kaoru Ohya :
Comparison between Static and Dynamic Simulations of Ion Reflection and Sputtering from Layered Materials,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.40, No.9A, 5399-5406, 2001.
(Elsevier: Scopus)
57. Kaoru Ohya and Retsuo Kawakami :
A Modified EDDY Code to Simulate Erosion/Redeposition of Carbon Target in an ITER-FEAT Divertor,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.40, No.9A, 5424-5430, 2001.
(DOI: 10.1143/JJAP.40.5424,   Elsevier: Scopus)
58. Kaoru Ohya, Retsuo Kawakami, Tetsuo Tanabe, Motoi Wada, Tadashi Ohgo, Volker Philipps, Albrecht Pospieszczyk, Alexander Huber, Marek Rubel, Genadij Sergienko and Nobuaki Noda :
Simulation calculations of mutual contamination between tungsten and carbon and its impact on plasma surface interactions,
Journal of Nuclear Materials, Vol.290-293, 303-307, 2001.
(DOI: 10.1016/S0022-3115(00)00632-2,   Elsevier: Scopus)
59. Retsuo Kawakami, Nobuyasu Saji and Kaoru Ohya :
Simulation Study on Influence of Mutual Contamination on Ion Reflection and Sputtering from Tungsten and Carbon Materials,
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.3, 332-336, 2000.
60. Kaoru Ohya, Retsuo Kawakami and Hiroshi Aizawa :
Time Evolution of Surface Topography of Plasma Facing Materials with Non-Uniform Impurity Deposition,
Journal of Plasma and Fusion Research, SERIES, No.3, 288-292, 2000.
61. Kaoru Ohya, Retsuo Kawakami, Tetsuo Tanabe, Motoi Wada, Tadashi Ohgo, Volker Philipps, Albrecht Pospieszczyk, Bernd Schweer, Alexander Huber, Marek Rubel, Jana Seggern von and Nobuaki Noda :
Simulation study of carbon and tungsten deposition on W/C twin test limiter in TEXTOR-94,
Journal of Nuclear Materials, Vol.283-287, 1182-1186, 2000.
(Elsevier: Scopus)
62. Retsuo Kawakami, Nobuyasu Saji and Kaoru Ohya :
Study of Impurity Release from a W-C Twin Test Limiter Exposed to TEXTOR-94,
Bulletin of Faculty of Engineering, The University of Tokushima, No.45, 75-83, 2000.
63. Retsuo Kawakami, Kaoru Ohya and Jun Kawata :
Calculation of Impurity Release from Walls and its Transport in Edge Plasmas,
Contributions to Plasma Physics, Vol.40, No.3, 519-524, 2000.
(DOI: 10.1002/1521-3986(200006)40:3/4<519::AID-CTPP519>3.0.CO;2-I)
64. Kazumasa Hara, Ichiro Mori, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Anomalous Relaxation and Stopping Power for Electron Beam in Beam-Plasma System,
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.2, 376-380, 1999.
65. Makoto Ogawa, Ichiro Mori, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Nonlinear Dispersion Relation for Beam-Excited Plasma,
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.2, 371-375, 1999.
66. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Structure of Multi-dimensional Soliton and Generation of Caviton in the Nonlinear Beam-Plasma System,
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.2, 363-367, 1999.
67. Retsuo Kawakami, Ichiro Mori and Toshifumi Morimoto :
Nonlinear Waves Observed in an Electron Beam-Plasma,
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.2, 368-370, 1999.
68. Retsuo Kawakami, Jun Kawata and Kaoru Ohya :
Simultaneous Calculation of Reflection, Physical Sputtering and Secondary Electron Emission from a Metal Surface Due to Impact of Low-Energy Ions,
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.38, No.10, 6058-6065, 1999.
69. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Anomalous Electronic stopping and relaxation in the plasma and application of its theory to beam-surface interaction,
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Vol.153, No.1-4, 31-35, 1999.
(DOI: 10.1016/S0168-583X(99)00206-2,   Elsevier: Scopus)
70. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Cascade Collision of Fe-Atom Caused by Low Energy He-Incidence and Effect of Temperature to the Type of Defect,
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Vol.153, No.1-4, 126-129, 1999.
(DOI: 10.1016/S0168-583X(99)00210-4,   Elsevier: Scopus)
71. Kawata Jun, Ohya Kaoru and Retsuo Kawakami :
Monte Carlo Simulation of Ion Reflection, Physical Sputtering and Kinetic Electron Emission from Solid Due to Ion Impact,
Bulletin of Takuma National College of Technology, No.27, 73-88, 1999.
72. Takafumi Miyazaki, Retsuo Kawakami and Nobuaki Ikuta :
Variation of Ion Transport Properties under Electric Field with Mass Ratios,
Journal of the Physical Society of Japan, Vol.67, No.4, 1260-1272, 1998.
73. Retsuo Kawakami, Shinya Okuda, Takafumi Miyazaki and Nobuaki Ikuta :
Variation of Reduced Mobilities of Ions in Gases under 12-4 Potentials,
Journal of the Physical Society of Japan, Vol.65, No.5, 1270-1276, 1996.
74. Shinya Okuda, Takafumi Miyazaki, Retsuo Kawakami and Nobuaki Ikuta :
Ion Transport Properties in Model Gases Based on A dot r^{-n} Type Single Potential,
Journal of the Physical Society of Japan, Vol.64, No.8, 2868-2885, 1995.

総説・解説:

1. 川上 烈生, 白井 昭博 :
医療・食品・環境分野で注目される抗菌技術:光触媒による殺菌と食品鮮度保持,
日本防菌防黴学会誌, Vol.46, No.7, 321-327, 2018年7月.
(CiNii: 40021634512)
2. 松下 俊雄, 川上 烈生 :
UV-LED光触媒技術と鮮度保持への応用,
電気計算, Vol.10, 30-33, 2015年9月.
3. 川上 烈生, 山上 喜廣, 富永 喜久雄, 服部 敦美, 來山 征士, 大野 泰夫 :
デジタル化・ネットワーク化時代の電気電子工学学生実験,
徳島大学高度情報化基盤センター「広報」, Vol.12, 57-60, 2005年2月.

国際会議:

1. Retsuo Kawakami, Hirofumi Koide, Yuki Yoshitani, Shin-ichiro Yanagiya, Toshihiro Okamoto, Masanobu Haraguchi, Akihiro Furube, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Photocatalytic Characteristics of Au/TiO2/Au Nanostructure Induced by Ultraviolet Irradiation,
Proceedings of 15th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 146-148, Kanazawa, Jun. 2019.
2. Yoshitani Yuki, Retsuo Kawakami, Koide Hirofumi, Takami Naoki, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Azuma Chisato and Mukai Takashi :
Effect of Atmospheric-Pressure O2 Plasma-Assisted Annealing on Photocatalytic Activity of TiO2 Nanoparticles,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2018, 255-256, Nagoya, Nov. 2018.
3. Retsuo Kawakami, Yoshitani Yuki, Mitani Kimiaki, Takami Naoki, Koide Hirofumi, Sugimoto Norihiro, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Azuma Chisato and Mukai Takashi :
Hydrophilic Modification of Polypropylene Film Surfaces Treated by Atmospheric-Pressure Air Plasma Jet,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2018, 253-254, Nagoya, Nov. 2018.
4. Toshihiko Takahata, Shin-ichiro Yanagiya, Yuuki Yoshitani, Retsuo Kawakami and Akihiro Furube :
High optical absorbance multilayer film of titanium dioxide and gold,
23rd MicroOptics Conference (MOC2018), Taipei, No.P-80, Taipei, Oct. 2018.
5. Masahito Niibe, Ryo Tanaka, Retsuo Kawakami, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Surface Structure Analysis of AlGaN Thin Films Damaged by Oxygen and Nitrogen Plasmas,
The 8th International Symposium on Surface Science (ISSS-8), Tsukuba, Oct. 2017.
6. Yoshitaka Nakano, Retsuo Kawakami and Masahito Niibe :
Generation Behavior of Electrical Damage Introduced into n-GaN Films by CF4 Plasma Treatments,
29th International Conference on Defects in Semiconductors (ICDS), Matsue, Aug. 2017.
7. Retsuo Kawakami, Kengo Fujimoto, Masahito Niibe, Yuma Araki, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
TiO2 Thin Film Surfaces Treated by O2 Plasma in Dielectric Barrier Discharge with Assistance of Heat Treatment,
Proceedings of 14th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 274-277, Kanazawa, Jul. 2017.
8. Yoshitaka Nakano, Masahito Niibe and Retsuo Kawakami :
Damage Introduced into n-GaN Films by CF4 Plasma Treatments,
9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2017) and 10th Interational Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2017), Aichi, Mar. 2017.
9. Yoshitaka Nakano, Masahito Niibe and Retsuo Kawakami :
Electrical damage in n-GaN films treated by CF4 plasma,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2016, 73-74, Sapporo, Nov. 2016.
10. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Effect of Ultraviolet Light-Assisted CF4 Plasma Irradiation on AlGaN Thin Film Surface,
Proceedings of the 43rd International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2016), MoP-ISCS-096_1-MoP-ISCS-096_2, Toyama, Jun. 2016.
11. Yoshitaka Nakano, Masahito Niibe and Retsuo Kawakami :
Electrical Damage Investigation of n-GaN Films Treated by CF4 Plasma,
Proceedings of the 43rd International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2016), MoP-ISCS-LN-4_1-MoP-ISCS-LN-4_2, Toyama, Jun. 2016.
12. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Chisato Azuma and Takashi Mukai :
Anatase TiO2 Thin Films Grown by Facing-Target Reactive Sputtering and Its Impact on Photocatalytic Activity,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2015, 125-126, Awaji, Nov. 2015.
13. Yoshitaka Nakano, Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Tatsuo Shirahama and Takashi Mukai :
A Relation between Pinch-Off Voltages and Deep-Level Defects in AlGaN/GaN Hetero-Structures Treated by CF4 Plasma,
11th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-11), Beijing, Sep. 2015.
14. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Comparison between Surface Characteristics of Titanium Oxide Thin Films Treated with N2 Dielectric Barrier Discharge Plasma and Annealed in N2 Gas,
Proceedings of 13th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 63-66, Kyoto, Jul. 2015.
15. Yoshitaka Nakano, Chen Miao-Gen, Daisuke Ogawa, Keiji Nakamura, Retsuo Kawakami and Masahito Niibe :
Generation Behavior of Deep-Level Defects in Ar+-Irradiated GaN,
7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2015) and 8th Interational Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2015), Nagoya, Mar. 2015.
16. Masahito Niibe, Takuya Kotaka, Retsuo Kawakami, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Etching Damage Analysis of n-GaN Crystals Etched with N2-Plasma Using Soft X-Ray Absorption Spectroscopy,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2014, 75-76, Tokyo, Nov. 2014.
17. Retsuo Kawakami, Masahito Niibe, Yoshitaka Nakano, Tatsuo Shirahama, Shodai Hirai and Takashi Mukai :
Morphological and Compositional Changes in AlGaN Surfaces Etched by RF Capacitively Coupled Carbon Tetrafluoride and Argon Plasmas,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2014, 69-70, Tokyo, Nov. 2014.
18. Shodai Hirai, Masahito Niibe, Tatsuo Shirahama, Retsuo Kawakami, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Surface Analysis of Thick AlGaN Films Treated by Ar and CF4 Plasma Etching,
The 7th International Symposium on Surface Science (ISSS-7), Matsue, Nov. 2014.
19. Masahito Niibe, Takuya Kotaka, Retsuo Kawakami, Yoshitaka Nakano and Takashi Mukai :
Damage Characteristics of n-GaN Crystal Etched with N2 Plasma by Soft X-ray Absorption Spectroscopy,
The 7th International Symposium on Surface Science (ISSS-7), Matsue, Nov. 2014.
20. Keiji Sano, Masahito Niibe, Retsuo Kawakami and Yoshitaka Nakano :
Spectral Recovery of Etching Damage of TiO2 Thin Films Observed in XAS Spectra,
The 7th International Symposium on Surface Science (ISSS-7), Matsue, Nov. 2014.
21. Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Retsuo Kawakami, Nakano Yoshitaka and Mukai Takashi :
Damage Analysis of N2 Plasma-Etched n-GaN Crystal,
6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2014), Nagoya, Mar. 2014.
22. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeuchi Hideo, Shirahama Tatsuo, Konishi Masashi, Mori Yuta, Yamada Tetsuya and Tominaga Kikuo :
Damage Characteristics of 6H-SiC Surfaces Etched Using Capacitively-Coupled Helium Plasmas Driven by a Radio Frequency Power,
Proceedings of 12th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 255-258, Kyoto, Jul. 2013.
23. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Konishi Masashi, Shirahama Tatsuo, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage Characteristics of n-GaN Thin Film Surfaces Etched by Ultraviolet Light-Assisted Helium Plasmas,
The 4th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO2010), Kanazawa, Jun. 2013.
24. Retsuo Kawakami, Konishi Masashi, Mori Yuta, Shirahama Tatsuo, Yamada Tetsuya, Tominaga Kikuo, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka and Mukai Takashi :
Damage Characteristics of n-GaN Thin Film Surfaces Etched by N2 Plasmas,
The 40th International Symposium on Compound Semiconductors, Kobe, May 2013.
25. Nakano Yoshitaka, Nakamura Keiji, Niibe Masahito, Retsuo Kawakami, Ito Noriyoshi, Kotaka Takuya and Tominaga Kikuo :
Effect of UV irradiation on Ar-Plasma etching characteristics of GaN,
5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013), Nagoya, Jan. 2013.
26. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Konishi Masashi, Mori Yuta, Takeichi Atsushi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage Characteristics of p-GaN Surfaces Etched by Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2012, 133-134, Tokyo, Nov. 2012.
27. Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Sano Keiji, Retsuo Kawakami, Tominaga Kikuo and Nakano Yoshitaka :
Etching Damage Analysis of TiO2 Thin Film with Soft X-Ray Absorption Spectroscopy,
25th International Conference on Atomic Collisions in Solids (ICACS-25), 227, Kyoto, Oct. 2012.
28. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeuchi Hideo, Konishi Masashi, Mori Yuta, Shirahama Tatsuo, Yamada Tetsuya and Tominaga Kikuo :
SiC Surface Damage Originating from Synergy Effect of Ar Plasma Ion and Plasma-Induced Ultraviolet Light Irradiations,
25th International Conference on Atomic Collisions in Solids (ICACS-25), 117, Kyoto, Oct. 2012.
29. Nakano Yoshitaka, Nakamura Keiji, Niibe Masahito, Retsuo Kawakami, Ito Noriyoshi, Kotaka Takuya and Tominaga Kikuo :
Effect of UV Irraiation on Ar-Plasma Etching of GaN,
International Workshop on Nitride Semiconductors 2012 (IWN2012), Sapporo, Oct. 2012.
30. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Nakano Yoshitaka, Konishi Masashi, Mori Yuta, Shirahama Tatsuo, Yamada Tetsuya and Tominaga Kikuo :
Characteristics of TiO2 Surfaces Etched by Capacitively Coupled Radio Frequency N2 and He Plasmas,
11th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology & 25th Symposium on Plasma Science fro Materials (11th APCPST & 25th SPSM), 289, Kyoto, Oct. 2012.
31. Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Retsuo Kawakami, Nakano Yoshitaka, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage Analysis of n-GaN Crystals Etched with He and N2 Plasma,
4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2012), Nagoya, Mar. 2012.
32. Nakano Yoshitaka, Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeichi Atsushi, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Photoluminescence Study of Plasma-Induced Etching Damages in GaN,
2011 Materials Research Society (MRS) Fall Meeting & Exhibit, Boston, Dec. 2011.
33. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Takeichi Atsushi, Mori Yuta, Konishi Masashi, Kotaka Takuya, Matsunaga Fumihiko, Takasaki Toshihide, Kitano Takanori, Miyazaki Takahiro, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Characteristics of TiO2 Thin Film Surfaces Treated by Dielectric Barrier Discharge Helium and Air Plasmas,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2011, 75-76, Kyoto, Nov. 2011.
34. Kotaka Takuya, Niibe Masahito, Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage analysis of gallium nitride crystals etched by He and Ar plasma,
Proceedings of 11th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 73-76, Kyoto, Jul. 2011.
35. Takeichi Atsushi, Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Konishi Masashi, Mori Yuta, Kodama Munehisa, Kotaka Takuya, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Capacitively Coupled Radio Frequency Helium Plasma Treatment Effect on TiO2 Thin Film Surfaces,
Proceedings of 11th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 584-61, Kyoto, Jul. 2011.
36. Retsuo Kawakami, Takeichi Atsushi, Niibe Masahito, Konishi Masashi, Mori Yuta, Kodama Munehisa, Kotaka Takuya, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Capacitively Coupled Radio Frequency Nitrogen Plasma Etch Damage to n-Type Gallium Nitride,
Proceedings of 11th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 54-57, Kyoto, Jul. 2011.
37. Niibe Masahito, Kotaka Takuya, Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Damage Analysis of Plasma-etched n-GaN Crystal Surface by N-K Absorption Spectroscopy,
3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2011), Nagoya, Mar. 2011.
38. Retsuo Kawakami, Takeichi Atsushi, Niibe Masahito, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Capacitively Coupled Radio Frequency Helium Plasma Etch Damage to TiO2 Thin Film Surfaces,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2010, 171-172, Tokyo, Nov. 2010.
39. Retsuo Kawakami, Niibe Masahito, Fukudome Toshiaki, Takeichi Atsushi, Inaoka Takeshi and Tominaga Kikuo :
Effect of DBD Air Plasma Treatment on TiO2 Thin Film Surfaces,
The Third International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO2010), Toyama, Jun. 2010.
40. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo, Niibe Masahito, Mukai Takashi, Takeichi Atsushi and Fukudome Toshiaki :
Etch-induced Damage Characteristics of n-GaN Surfaces by Capacitively Coupled Radio Frequency He and Ar Plasmas,
The 37th International Symposium on Compound Semiconductors, 41, Kagawa, May 2010.
41. Niibe Masahito, Maeda Yoshie, Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo and Mukai Takashi :
Surface Analysis of n-GaN Crystal Damaged by RF-plasma-etching with Ar, Kr and Xe Gases,
The 37th International Symposium on Compound Semiconductors, 42, Kagawa, May 2010.
42. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Tominaga Kikuo, Niibe Masahito, Mukai Takashi, Takeichi Atsushi and Fukudome Toshiaki :
Synergy Effect of Xenon Plasma Ions and Ultraviolet Lights on GaN Etch Surface Damage and Modification,
16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams, 190, Tokyo, Sep. 2009.
43. Nouda Takahiro, Tominaga Kikuo, Okada Kenji, Murao Ken-ichi, Retsuo Kawakami, Kusaka Kazuya and Hanabusa Takao :
Deposition and characterization of TiO2 thin films by rf-dc coupled reactive magnetron sputtering,
Proceedings of 10th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 479-482, Kanazawa, Jul. 2009.
44. Retsuo Kawakami, Kikuo Tominaga, Okada Kenji, Nouda Takahiro, Takeshi Inaoka, Takeichi Atsushi, Fukudome Toshiaki and Murao Kenichi :
Etch Damage Characteristics of TiO2 Thin Films by Capacitively Coupled RF Ar Plasmas,
Proceedings of 10th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 500-503, Kanazawa, Jul. 2009.
45. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Kikuo Tominaga and Mukai Takashi :
Effects of Capacitively Coupled Radio Frequency Krypton and Argon Plasmas on Gallium Nitride Etching Damage,
Proceedings of International Symposium of Dry Process 2008, 187-188, Tokyo, Nov. 2008.
46. Okada Kenji, Kikuo Tominaga, Ohokura Sinya, Nouda Takahiro and Retsuo Kawakami :
Deposition of TiO2 films by a RF-DC Coupled Magnetron Sputtering,
4th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia, 217, Matsue, Oct. 2008.
47. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Kikuo Tominaga, Mukai Takashi, Hiraoka Kensaku, Kudo Yuki and Koide Kuniyuki :
Model Analysis of Preferential Etching of III-V Nitrides by Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas,
4th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia, 187, Matsue, Oct. 2008.
48. Okada Kenji, Kikuo Tominaga, Retsuo Kawakami, Ohkura Shinya, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa :
Deposition of photocatalytic tiO2 films by planar magnetron sputtering system with opposed Ti targets,
14th International Conference on Solid Films and Surfaces, 331-332, Dublin, Jul. 2008.
49. Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi and Mukai Takashi :
Synergy effect of Particle and Ultraviolet Radiations from Capacitively Coupled RF Argon Plasmas on n-GaN Etching Damage,
Proceedings of International Symposium of Dry Process, 181-182, Tokyo, Nov. 2007.
50. Retsuo Kawakami and Inaoka Takeshi :
Effect of Argon Plasma Etching Damage on Electrical Characteristics,
Proceedings of 9th International Symposium of Sputtering & Plasma Processes, 391-394, Kanazawa, Jun. 2007.
51. Retsuo Kawakami and Inaoka Takeshi :
Analysis of GaN Etching Damage by Capacitively Coupled RF Ar Plasma Exposure,
Proceedings of International Symposium of Dry Process, 63-64, Nagoya, Nov. 2006.
52. Retsuo Kawakami :
Simulation study of carbon impurity dynamics on reduced-activation ferritic/martensitic steel material at elevated temperatures under hydrogen exposure,
7th International Symposium on Fusion Nuclear Technology, 191, Tokyo, May 2005.
53. Retsuo Kawakami :
Simulation Study on Effects of Chemically Eroded Methane and Ethylene Molecules on Carbon Impurity Transport and Net Erosion of Carbon Materials,
Joint Meeting of 14th Internaitional Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion & 4th International Conference on Atomic and Molecular Data and Their Application, 73, Toki, Oct. 2004.
54. Retsuo Kawakami and Mitani Takenori :
Simulation Study on Influence of Chemically Eroded Higher Hydrocarbons on SOL Impurity Transport and Effect of Dynamical Material Mixing on Erosion/Deposition of Tungsten Surfaces Exposed to Plasma Boundary,
16th International Conference on Plasma Surface interactions in Controlled Fusion Devices, P1-29, Portland Maine, U.S.A., May 2004.
55. Ueda Yoshio, Funabiki Takahisa, Shimada Tomohisa, Retsuo Kawakami and Nishikawa Masahiro :
Effects of Carbon Impurity in Fusion Plasmas on Erosion of RAF First Wall,
11th International Conference on Fusion Reactor Materials, Kyoto, Dec. 2003.
56. Shimada Tomohisa, Funabiki Takahisa, Retsuo Kawakami, Ueda Yoshio and Nishikawa Masahiro :
Carbon Behavior on Tungsten Surface after Carbon and Hydrogen Mixed Beam Irradiation,
11th International Conference on Fusion Reactor Materials, Kyoto, Dec. 2003.
57. Retsuo Kawakami, Shimada Tomohisa, Ueda Yoshio and Nishikawa Masahiro :
Simulation Study of Dynamical Material Mixing on Tungsten Surfaces at Elevated Temperatures due to Hydrogen and Carbon Mixed Ion Beam Irradiation,
11th International Conference on Fusion Reactor Materials, Kyoto, Dec. 2003.
58. Mitani Takenori, Retsuo Kawakami and Kuriu Syuhei :
Simulation Study of Sputtering Erosion and Impurity Deposition on Carbon and Tungsten Surfaces Irradiated with Deuterium Plasmas Including Carbon Impurity,
11th International Conference on Fusion Reactor Materials, Kyoto, Dec. 2003.
59. Retsuo Kawakami and Ohya Kaoru :
Simulation Study of Material Mixing Process on Tungsten Surfaces at Elevated Temperatures due to Boundary Plasma Exposure and its Influence on Plasma Wall Interactions,
15th International Conference on Plasma Surface interactions in Controlled Fusion Devices, Gigu, May 2002.
60. Kaoru Ohya and Retsuo Kawakami :
Modeling of Erosion/Deposition in Fusion Devices,
Japan-US Workshop on High Heat Flux Components and Plasma Surface Interactions for Next Fusion Devices, Osaka, Nov. 2000.
61. Ohya Kaoru, Retsuo Kawakami, Tanabe Tetsuo, Wada Motoi, Ohgo Tadashi, Philipps Volker, Pospieszczyk Albrecht, Schweer Bernd, Huber Alexander, Rubel Marek, Seggern von Jana and Noda Nobuaki :
Simulation Study of Carbon and Tungsten Deposition on W/C Twin Test Limiter in TEXTOR-94,
14th International Conference on Plasma Surface interactions in Controlled Fusion Devices, Vol.283 287, 1182-1186, Rosenheim, May 2000.
(Elsevier: Scopus)
62. Retsuo Kawakami, Kaoru Ohya, Peter Wienhold, Marek Rubel and Jana von Seggern :
Simulation Calculation for the Time-Evolution of Non-Uniform Impurity Erosion and Deposition on Surfaces of Plasma Facing Components,
14th International Conference on Plasma Surface interactions in Controlled Fusion Devices, Rosenheim, May 2000.
63. Ohya Kaoru, Retsuo Kawakami and Aizawa Hiroshi :
Time Evolution of Surface Topography of Plasma Facing Materials with Non-Uniform Impurity Deposition,
10th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion, Toki, Jan. 2000.
64. Retsuo Kawakami, Saji Nobuyasu and Ohya Kaoru :
Simulation Study on Influence of Mutual Contamination on Ion Reflection and Sputtering from Tungsten and Carbon Materials,
10th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion, Toki, Jan. 2000.
65. Kaoru Ohya, Retsuo Kawakami and Jun Kawata :
Simultaneous calculation of ion-induced kinetic electron emission and physical sputtering, --- a comparison between emission of electrons and atoms from solids ---,
Proceedings of International Conference on on Atomic Collisions in Solids, Odense, Aug. 1999.
66. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Detection of Particle-Like Wave-Packets by Using a Time of Flight Method of an Envelope Soliton,
Proceedings of International Conference on on Phenomena in Ionized Gases, 73-74, Warsow, Jul. 1999.
67. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Wave Coupling between an Envelope Soliton and an Ion Wave in a Nonlinear Beam-Plasma Interacting System,
Proceedings of International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 155-156, Warsow, Jul. 1999.
68. Hara Kazumasa, Mori Ichiro, Retsuo Kawakami and Tominaga Kikuo :
Anomalous Relaxation and Stopping Power for Electron Beam in Beam-Plasma System,
9th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion --- New Frontiers in Plasma Physics, Toki, Dec. 1998.
69. Ogawa Makoto, Mori Ichiro, Retsuo Kawakami and Tominaga Kikuo :
Nonlinear Dispersion Relation for Beam-Excited Plasma,
9th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion --- New Frontiers in Plasma Physics, Toki, Dec. 1998.
70. Mori Ichiro, Morimoto Toshifumi, Retsuo Kawakami and Tominaga Kikuo :
Structure of Multi-dimensional Soliton and Generation of Caviton in the Nonlinear Beam-Plasma System,
9th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion --- New Frontiers in Plasma Physics, Toki, Dec. 1998.
71. Retsuo Kawakami, Mori Ichiro and Morimoto Toshifumi :
Nonlinear Waves Observed in an Electron Beam-Plasma,
9th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion --- New Frontiers in Plasma Physics, Toki, Dec. 1998.
72. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Coherent Structure Emitted by an Electron Beam in a Beam-Plasma System,
Proceedings of International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 266-267, Toulouse, Jul. 1997.
73. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga :
Multi-Dimensional Soliton and its Experimental Stability,
Proceedings of International Conference on Physics of Dusty Plasmas, 543-546, Goa, Oct. 1996.
74. Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami, Shin Hasebe and Kikuo Tominaga :
Multi-Dimensional Solitons and its Contribution to Beam-Plasma Discharge,
Proceedings of International Conference on Plasma Physics, 766-769, Nagoya, Sep. 1996.

国内講演発表:

1. 川上 烈生, 味元 勇樹, 小出 洋史, 柳谷 伸一郎, 新部 正人, 中野 由崇, 向井 孝志 :
熱アシスト非平衡大気圧O2プラズマ処理したアナターゼ型TiO2ナノ粒子の物性,
日本物理学会2020年秋季大会, 2020年9月.
2. 泉 匠人, 川上 烈生, 粟飯原 睦美, 白井 昭博, 宮脇 克行, 向井 孝志 :
植物養液への非平衡大気圧空気プラズマジェット照射効果,
2020年度 応用物理・物理系学会中国四国支部 合同学術講演会, 10, 2020年8月.
3. 味元 勇樹, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由祟, 向井 孝志 :
アナターゼ/ルチル混晶型TiO2ナノ粒子への熱アシスト大気圧低温O2プラズマ処理効果,
2020年度 応用物理・物理系学会中国四国支部 合同学術講演会, 9, 2020年8月.
4. 中野 由崇, 豊留 彬, 新部 正人, 川上 烈生, 川上 烈生 :
CF4プラズマ処理したp型GaNの電気的ダメージ評価,
第67回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2020年3月.
5. 芳谷 勇樹, 白井 昭博, 梶川 耕介, 安友 優子, 小出 洋史, 東 知里, 向井 孝志, 川上 烈生 :
酸素プラズマ支援アニーリング処理した酸化チタンナノ粒子の殺菌効果,
日本防菌防黴学会 第46回年次大会, 196, 2019年9月.
6. 高見 直樹, 川上 烈生, 中橋 睦美, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
空気プラズマジェット照射による種子の発芽促進効果,
令和元年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 43, 2019年9月.
7. 見谷 皇章, 川上 烈生, 芳谷 勇樹, 新部 正人, 東 知里, 中野 由崇, 向井 孝志 :
ポリプロピレン表面への大気圧非熱平衡プラズマジェット照射効果,
令和元年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 41, 2019年9月.
8. 小出 洋史, 川上 烈生, 芳谷 勇樹, 柳谷 伸一郎, 岡本 敏弘, 原口 雅宣, 古部 昭広, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
Au/TiO2/Auナノ構造体の光触媒活性,
令和元年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 40, 2019年9月.
9. 川上 烈生, 芳谷 勇樹, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
低温大気圧空気プラズマジェット処理によるアルミニウムとニッケル表面の親水化,
令和元年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 39, 2019年9月.
10. 芳谷 勇樹, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
大気圧O2プラズマ支援アニーリング処理したP-25 TiO2ナノ粒子の光触媒活性,
令和元年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 38, 2019年9月.
11. 芳谷 勇樹, 川上 烈生, 小出 洋史, 髙見 直樹, 杉本 典優, 見谷 皇章, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
アナターゼ型TiO2 ナノ粒子への加熱を伴うO2誘電体バリア放電プラズマ処理効果,
平成30年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 25, 2018年9月.
12. 川上 烈生, 芳谷 勇樹, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
AlGaN薄膜表面へのCF4プラズマ処理中に及ぼす紫外光同時照射効果,
平成30年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 26, 2018年9月.
13. 高畑 敏彦, 芳谷 勇樹, 柳谷 伸一郎, 川上 烈生, 古部 昭広 :
酸化チタンと金による高吸収MIM膜の作製と光学特性評価,
第79回応用物理学会秋季学術講演会, 19p-PA7-22, 2018年9月.
14. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 芳谷 勇樹, 東 知里, 向井 孝志 :
光触媒TiO2薄膜への加熱を伴うO2 DBDプラズマ処理効果,
平成29年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 42, 2017年9月.
15. 荒木 佑馬, 新部 正人, 川上 烈生, 竹平 徳崇, 中野 由崇 :
TiO2薄膜のプラズマ処理試料のXPS法による組成と触媒活性の相関III,
第30回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2017年1月.
16. 田中 良, 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇, 向井 孝志 :
酸素および窒素プラズマ処理したAlGaN膜の表面分析,
第30回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2017年1月.
17. 中野 由崇, 新部 正人, 川上 烈生 :
CF4プラズマ処理したn-GaN膜の電気的ダメージ,
2016 真空・表面科学合同講演会,第36回表面科学学術講演会・第57回真空に関する連合講演会, No.1, 2016年11月.
18. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
紫外線照射下でのCF4 プラズマエッチングによるAlGaN表面ダメージ,
平成28年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 44, 2016年9月.
19. 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇, 田中 良, 荒木 佑馬, 東 知里, 向井 孝志 :
AlGaN 表面特性への酸素プラズマ照射効果,
第77回秋季応用物理学会学術講演会, 2016年9月.
20. 中野 由崇, 坂井 佑輔, 新部 正人, 川上 烈生 :
CF4プラズマ処理したn-GaN 膜の電気的評価,
第63回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2016年3月.
21. 荒木 佑馬, 新部 正人, 川上 烈生, 竹平 徳崇, 中野 由崇 :
TiO2薄膜のプラズマ処理試料のXPS法による組成と触媒活性の相関II,
第29回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2016年1月.
22. 平井 翔大, 新部 正人, 川上 烈生, 竹平 徳崇, 中野 由崇, 向井 孝志 :
CF4とArプラズマで処理したAlGaN膜の表面分析,
第29回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2016年1月.
23. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
CF4とArプラズマで処理したAlGaN/GaNの電気特性,
平成27年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 43, 2015年9月.
24. 新部 正人, 荒木 佑馬, 竹平 徳崇, 川上 烈生, 中野 由崇, 東 知里 :
酸化チタン薄膜表面への酸素プラズマ照射効果,
第76回秋季応用物理学会学術講演会, 2015年9月.
25. 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇, 竹平 徳崇, 平井 翔大, 荒木 佑馬, 東 知里, 向井 孝志 :
紫外光アシストCF4プラズマでエッチンングされたAlGaN表面分析,
第76回秋季応用物理学会学術講演会, 2015年9月.
26. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 東 知里, 向井 孝志 :
対向ターゲット式スパッタ法により作製した酸化チタン薄膜の光触媒特性,
2015年度応用物理・物理系学会 中国四国支部合同学術講演会, 116, 2015年8月.
27. 荒木 佑馬, 竹平 徳崇, 新部 正人, 川上 烈生 :
酸化チタン薄膜表面への酸素プラズマ処理による効果,
応用物理学会関西支部平成27年度第1回講演会, 2015年6月.
28. 中野 由崇, 川上 烈生, 新部 正人, 髙木 健司, 白濱 達夫, 向井 孝志 :
CF4プラズマ処理したAlGaN/GaNヘテロ構造の電気的評価,
第62回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2015年3月.
29. 中野 由崇, 髙木 健司, 小川 大輔, 中村 圭二, 新部 正人, 川上 烈生 :
Ar+イオン照射したMOCVD-GaN:Si膜の電気的評価,
第62回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2015年3月.
30. 佐野 桂治, 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇 :
軟X線照射によるTiO2超微粒子のNEXAFSスペクトル形状の回復,
第62回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2015年3月.
31. 平井 翔大, 新部 正人, 川上 烈生, 白濱 達夫, 中野 由崇, 向井 孝志 :
ArとCF4プラズマで処理したAlGaN膜の表面分析,
第28回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2015年1月.
32. 佐野 桂治, 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇 :
X線吸収分光法を用いたTiO2薄膜のプラズマダメージ評価,
第28回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2015年1月.
33. 中野 由崇, 中村 圭二, 新部 正人, 川上 烈生 :
A+イオン照射したHVPE-GaN膜の電気的評価,
第75回秋季応用物理学会学術講演会, 2014年9月.
34. 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇, 向井 孝志, 白濱 達夫, 平井 翔大 :
CF4とArプラズマでエッチングしたAlGaN表面ダメージ,
第75回秋季応用物理学会学術講演会, 2014年9月.
35. 白濱 達夫, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 平井 翔大, 向井 孝志 :
CF4プラズマとAlGaN表面との相互作用,
平成26年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 41, 2014年9月.
36. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 白濱 達夫, 向井 孝志 :
対向ターゲットを用いたDCプラズマスパッタリングによる酸化チタン薄膜の生成,
平成26年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 40, 2014年9月.
37. 新部 正人, 平井 翔大, 川上 烈生, 白濱 達夫, 中野 由崇, 向井 孝志 :
UVアシストHeプラズマによりエッチングしたn-GaN結晶の表面ダメージの分析,
第61回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2014年3月.
38. 佐野 桂治, 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇 :
X線吸収分光法によるTiO2薄膜のエッチングダメージ評価,
第61回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2014年3月.
39. 佐野 桂治, 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇 :
エッチングダメージの回復したTiO 2 薄膜のNEXAFS 評価,
第27回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2014年1月.
40. 新部 正人, 小高 拓也, 平井 翔大, 川上 烈生, 中野 由崇, 向井 孝志 :
N-K吸収分光法を用いたn-GaN結晶のプラズマエッチングダメージの解析,
第27回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2014年1月.
41. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 松永 史彦, 山田 哲也, 仲 祐弥, 白濱 達夫, 青木 一馬, 高畑 麻里, 大場 健太 :
窒素とヘリウムDBDプラズマ処理された酸化チタン薄膜の表面状態,
日本物理学会 2013年秋季大会, 第68巻, 第2号, 第4分冊, 820, 2013年9月.
42. 高畑 麻里, 川上 烈生, 板東 由季, 白濱 達夫, 大塩 誠二, 山路 諭, 播岡 好之, 吉田 雅彦, 荒巻 広至, 前田 鎮廣 :
LED光触媒システムによる果実の鮮度保持技術,
平成25年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 78, 2013年9月.
43. 山田 哲也, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 佐野 桂治 :
二酸化チタン配合フッ素樹脂へのDBDエアプラズマトリートメント,
平成25年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 40, 2013年9月.
44. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 向井 孝志, 白濱 達夫, 山田 哲也, 青木 一馬, 仲 祐弥, 高畑 麻里, 大場 健太 :
N2プラズマによるGaNエッチングダメージ,
平成25年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 39, 2013年9月.
45. 白濱 達夫, 川上 烈生, 新部 正人, 竹内 日出雄, 佐野 桂治 :
HeプラズマによるSiCエッチングダメージ,
平成25年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 38, 2013年9月.
46. 佐野 桂治, 新部 正人, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
XASスペクトルに見られるTiO2薄膜のエッチングダメージ回復現象の条件評価,
第74回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 06-113, 2013年9月.
47. 新部 正人, 佐野 桂治, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
SXおよびUV照射によるTiO2薄膜のエッチングダメージの回復,
第74回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 07-059, 2013年9月.
48. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 向井 孝志, 白濱 達夫, 山田 哲也, 青木 一馬, 仲 祐弥, 高畑 麻里, 大場 健太 :
紫外光アシストHeプラズマによるn-GaN表面エッチングダメージ,
第74回秋季応用物理学会学術講演会, 08-034, 2013年9月.
49. 新部 正人, 佐野 桂治, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
軟X線照射によるTiO2薄膜のエッチングダメージの回復II,
第60回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2013年3月.
50. 佐野 桂治, 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
軟X線照射によるTiO2薄膜のエッチングダメージの回復Ⅰ,
第60回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2013年3月.
51. 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
n-GaN表面のN2プラズマエッチングダメージ,
第60回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2013年3月.
52. 新部 正人, 佐野 桂治, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
軟X線照射によるTiO2薄膜の乱れた構造の回復,
第26回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2013年1月.
53. 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 竹内 日出雄 :
プラズマエッチングしたp-SiC結晶のダメージ解析,
第26回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2013年1月.
54. 森 祐太, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 小西 将士, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄 :
二酸化チタン配合フッ素樹脂へのDBDエアプラズマトリートメント,
平成24年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 52, 2012年9月.
55. 川上 烈生, 新部 正人, 竹内 日出雄, 森 祐太, 小西 将士, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄 :
ArプラズマによるSiCエッチングダメージ,
平成24年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 50, 2012年9月.
56. 小西 将士, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 森 祐太, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
p-GaNとn-GaNにおけるAr プラズマエッチングダメージ,
平成24年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 49, 2012年9月.
57. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
容量性結合アルゴンプラズマによるp-GaNエッチングダメージ,
第73回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-085, 2012年9月.
58. 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
軟X線吸収分光法によるTiO2薄膜のエッチングダメージの解析,
第73回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-088, 2012年9月.
59. 中野 由崇, 中村 圭二, 新部 正人, 川上 烈生, 伊藤 慎祥, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
GaNのArプラズマエッチングへのUV 光照射効果,
第59回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2012年3月.
60. 小西 将士, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 森 祐太, 小高 拓也, 中野 由崇, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
窒素プロセシングプラズマによるn-GaNエッチングダメージ,
平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 41, 2011年9月.
61. 森 祐太, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 小西 将士, 小高 拓也, 松永 史彦, 高崎 敏英, 北野 尊宣, 宮崎 隆弘, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
DBD He/Air プラズマトリートメントによるTiO2薄膜表面の分析,
平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 40, 2011年9月.
62. 武市 敦, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
Ar/Krプラズマイオンと紫外線のシナジー効果によるn-GaNエッチングダメージ,
平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 39, 2011年9月.
63. 川上 烈生, 武市 敦, 新部 正人, 森 祐太, 小西 将士, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
TiO2薄膜のHeプラズマエッチングダメージ,
平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 38, 2011年9月.
64. 中野 由崇, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
プラズマエッチング損傷GaNのフォトルミネッセンス評価,
第72回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-111, 2011年8月.
65. 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 中野 由崇, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
HeおよびArガスを用いてプラズマエッチングしたn-GaN結晶の表面ダメージ分析,
第72回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-110, 2011年8月.
66. 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 武市 敦, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
容量性結合N2プラズマによるGaNエッチングダメージ,
第72回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-109, 2011年8月.
67. 中野 由崇, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
GaN のプラズマエッチング損傷のフォトルミネッセンス評価,
第58回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2011年3月.
68. 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
プラズマエッチングしたGaN結晶のN-K吸収測定によるダメージ解析II,
第24回日本放射光学会年会, 2011年1月.
69. 武市 敦, 川上 烈生, 新部 正人, 稲岡 武, 向井 考志, 小西 将士, 森 祐太, 兒玉 宗久, 富永 喜久雄 :
ヘリウムとアルゴンプラズマによる窒化ガリウムエッチングダメージ,
平成22年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 21, 2010年9月.
70. 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 小西 将士, 森 祐太, 兒玉 宗久, 富永 喜久雄 :
TiO2光触媒へのDBDエアプラズマトリートメント効果,
平成22年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 20, 2010年9月.
71. 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
Ar, KrおよびXeガスを用いてRFプラズマエッチングしたn-GaN 結晶の表面分析,
第71回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 08-133, 2010年9月.
72. 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
GaNの容量結合型RFヘリウムプラズマエッチダメージ,
第71回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 08-132, 2010年9月.
73. 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
プラズマエッチングしたGaN結晶のN-K吸収測定によるダメージ解析,
第23回日本放射光学会年会, 2010年1月.
74. 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 新部 正人, 向井 孝志 :
クリプトンとアルゴンプラズマによる窒化ガリウムエッチングダメージ,
平成21年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 29, 2009年9月.
75. 稲岡 武, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 新部 正人, 向井 孝志 :
非対称放電系容量結合型RFクリプトンプラズマの放電及び発光特性,
平成21年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 30, 2009年9月.
76. 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 新部 正人, 向井 孝志 :
容量結合型KrプラズマによるGaNエッチングダメージ解析,
第70回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 188, 2009年9月.
77. 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
ArおよびKrでRFプラズマエッチングしたGaN結晶の表面組成分析,
第70回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 189, 2009年9月.
78. 森 一郎, 森本 敏文, 川上 烈生 :
揺らぎを介する二個のビーム電子とイオンの相互作用と集団`CLUMP'の形成,
平成20年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 12, 2008年9月.
79. 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 平岡 謙作, 工藤 裕貴, 小出 訓之, 向井 孝志 :
n-GaNのアルゴンプラズマエッチングダメージ,
平成20年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 13, 2008年9月.
80. 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
GaNエッチングダメージへのアルゴンプラズマ粒子と紫外放射光のシナジー効果,
第69回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 175, 2008年9月.
81. 川上 烈生, 稲岡 武 :
容量結合型高周波プラズマナノプロセスリアクタの開発と放電及び分光特性,
平成19年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 18, 2007年9月.
82. 川上 烈生, 稲岡 武 :
容量結合型アルゴンプラズマエッチングダメージによるn-GaNの電子的特性,
第68回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 178, 2007年9月.
83. 川上 烈生, 稲岡 武 :
非平衡RFプラズマの自己組織化構造とドライエッチングとの相関性,
平成18年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 16, 2006年9月.
84. 川上 烈生, 稲岡 武 :
容量性結合ArプラズマによるGaNエッチングダメージの解析,
第67回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 162, 2006年8月.
85. 川上 烈生, 稲岡 武 :
容量結合型高周波プラズマによるGaNエッチングの解析,
日本物理学会中国四国支部 応用物理学会中国四国支部 平成18年度支部例会講演論文集, 23, 2006年7月.
86. 稲岡 武, 川上 烈生 :
低温プラズマエッチングされたn-GaNのショットキー接合リーク電流特性,
日本物理学会中国四国支部 応用物理学会中国四国支部 平成18年度支部例会講演論文集, 24, 2006年7月.
87. 川上 烈生 :
非平衡プラズマの自己組織化とドライエッチングとの関連性,
平成17年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 36, 2005年9月.
88. 川上 烈生 :
炭素不純物を含む水素イオンで照射されたタングステン材表面の付着炭素不純物の振舞い,
第66回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.2, 630, 2005年9月.
89. 山上 喜廣, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 岩崎 聡一郎, 松田 潤也 :
電気回路の過渡現象に関する創成型学生実験への取り組みとその教育効果,
平成17年電気学会全国大会講演論文集, 1, 2005年3月.
90. 川上 烈生 :
プラズマ対向壁としての低放射化フェライト鋼F82Hの損耗特性,
平成17年電気学会全国大会講演論文集, 222, 2005年3月.
91. 上田 良夫, 崎園 大, 沢村 功, 島田 朋尚, 川上 烈生, 西川 雅弘 :
タングステン第一壁上の炭素混合層の形成メカニズム,
プラズマ核融合学会 第20回年会 講演論文集, 2004年11月.
92. 川上 烈生 :
SOLプラズマ中の炭素不純物輸送への高次炭化水素CxDyの寄与,
平成16年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 39, 2004年9月.
93. 川上 烈生, 島田 朋尚, 上田 良夫, 西川 雅弘 :
水素・炭素混合イオンビーム照射によるタングステン材表面上の混合層の成長,
プラズマ核融合学会 第20回年会, 96, 2003年11月.
94. 三谷 武範, 栗生 修平, 川上 烈生 :
炭素不純物を含む重水素プラズマ照射によるタングステン材の損耗・再付着,
平成15年度電気関係学会 四国支部連合大会, 59, 2003年10月.
95. 栗生 修平, 川上 烈生, 三谷 武範 :
ダイバータプラズマ照射による炭素材の損耗・再付着,
平成15年度電気関係学会 四国支部連合大会, 58, 2003年10月.
96. 川上 烈生, 栗生 修平, 三谷 武範 :
化学スパッタリングにより周辺プラズマへ放出された炭素不純物の振舞い,
平成15年度電気関係学会 四国支部連合大会, 57, 2003年10月.
97. 長尾 優男, 森 一郎, 川上 烈生 :
ビーム・プラズマ系に現われる固有な波形と非線形Landau-減衰,
平成15年度電気関係学会 四国支部連合大会, 45, 2003年10月.
98. 島田 朋尚, 船曳 一央, 増井 亮太, 上田 良夫, 西川 雅弘, 川上 烈生, 大宅 薫 :
水素・炭素混合ビーム照射後のタングステン試料表面分析,
日本原子力学会 2003年春の年会, 2003年3月.
99. 川上 烈生, 大宅 薫 :
SOLプラズマ照射によるタングステン材表面上の混合層の成長,
プラズマ核融合学会 第19回年会, 156, 2002年11月.
100. 山下 優年, 川上 烈生, 大宅 薫 :
リミタープラズマ照射下の炭素素材表面の損耗過程と炭素不純物の輸送過程,
平成14年度電気関係学会 四国支部連合大会, 28, 2002年10月.
101. 中山 芳彦, 川上 烈生, 大宅 薫 :
リミタープラズマ照射下の炭素不純物堆積とスパッタリング損耗による対向壁材の表面挙動,
平成14年度電気関係学会 四国支部連合大会, 27, 2002年10月.
102. 川上 烈生, 大宅 薫 :
炭素不純物を含む重水素プラズマ照射により材壁から放出される炭素不純物の振舞い,
平成14年度電気関係学会 四国支部連合大会, 26, 2002年10月.
103. 川上 烈生, 大宅 薫 :
計算機シミュレーションによるITERダイバータ板の損耗と再堆積,
プラズマ核融合学会 第18回年会, 131, 2001年11月.
104. 川上 烈生, 大宅 薫 :
炭素不純物を含む重水素プラズマ照射によるボロン表面の損耗と再付着過程,
平成13年度電気関係学会 四国支部連合大会, 37, 2001年9月.
105. 永田 真一, 川上 烈生, 大宅 薫 :
プラズマ照射によるW-Cツインテストリミター表面の損耗と堆積,
平成13年度電気関係学会 四国支部連合大会, 36, 2001年9月.
106. 井高 賢士, 川上 烈生, 大宅 薫 :
計算機シミュレーションによるITERダイバータ板の損耗評価,
平成13年度電気関係学会 四国支部連合大会, 35, 2001年9月.
107. 大宅 薫, 川上 烈生, 田辺 哲朗, 和田 元, 大後 忠志, V. Philipps, M. Rubel, 野田 信明 :
プラズマ照射による炭素材料とタングステンの損耗・再付着のモデル計算,
プラズマ核融合学会 第17回年会, 2000年11月.
108. 井高 賢士, 川上 烈生, 大宅 薫 :
ITERダイバータの損耗と再堆積の計算機シミュレーション,
平成12年度電気関係学会 四国支部連合大会, 37, 2000年10月.
109. 新居 誠, 川上 烈生, 大宅 薫 :
TEXTORテストリミターにおける不純物放出及び再堆積過程,
平成12年度電気関係学会 四国支部連合大会, 36, 2000年10月.
110. 永田 真一, 川上 烈生, 大宅 薫 :
イオン衝撃による混成材料のダイナミックシミュレーション,
平成12年度電気関係学会 四国支部連合大会, 35, 2000年10月.
111. 川上 烈生, 大宅 薫 :
TEXTORにおけるW/Cテストリミターの損耗と再堆積過程,
平成12年度電気関係学会 四国支部連合大会, 34, 2000年10月.
112. 新居 誠, 井高 賢士, 永田 真一, 川上 烈生, 大宅 薫 :
固体表面からのイオン反射とスパッタリングに対する不純物堆積の効果,
第3回核融合エネルギー連合講演会, 88, 2000年6月.
113. 川上 烈生, 大宅 薫, 田辺 哲朗, 和田 元, 大後 忠志, V. Philipps, The TEXTOR team :
TEXTOR周辺プラズマ照射によるW/Cツインリミターの相互汚染シミュレション,
第3回核融合エネルギー連合講演会, 87, 2000年6月.
114. 川上 烈生, 大宅 薫, 河田 純, 田辺 哲朗, 和田 元, 大後 忠志, V. Philipps, The TEXTOR team :
TEXTOR周辺プラズマ照射によるW/Cツインリミターからの不純物放出シミュレーション,
プラズマ・核融合学会 第16回年会, 163, 1999年11月.
115. 佐治 申康, 相澤 洋, 川上 烈生, 大宅 薫 :
タングステンとボロン表面損耗と不純物炭素堆積シミュレーション,
プラズマ・核融合学会 第16回年会, 156, 1999年11月.
116. 河田 純, 大宅 薫, 川上 烈生 :
イオン衝撃による物理スパッタリングと電子放出,
平成11年度電気関係学会 四国支部連合大会, 54, 1999年10月.
117. 佐治 申康, 川上 烈生, 大宅 薫 :
TEXTORにおけるタングステンテストリミターの損耗と不純物炭素の再堆積,
平成11年度電気関係学会 四国支部連合大会, 39, 1999年10月.
118. 川上 烈生, 大宅 薫, 河田 純 :
TEXTOR-W/Cツインテストリミターからのタングステン及びカーボン放出粒子の挙動解析,
平成11年度電気関係学会 四国支部連合大会, 38, 1999年10月.
119. 新居 誠, 佐治 申康, 川上 烈生, 大宅 薫 :
不純物堆積によるスパッタリングとイオン反射のシミュレーション,
平成11年度電気関係学会 四国支部連合大会, 37, 1999年10月.
120. 相澤 洋, 川上 烈生, 佐治 申康, 大宅 薫 :
不純物堆積した凹凸表面トポグラフィーのシミュレーション,
平成11年度電気関係学会 四国支部連合大会, 36, 1999年10月.
121. 森 一郎, 森本 敏文, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
ビーム・プラズマ中での包絡ソリトンの発生環境,
平成10年度電気関係学会 四国支部連合大会, 35, 1998年10月.
122. 川上 烈生, 森 一郎, 森本 敏文 :
電子ビーム・プラズマ中の高域混成孤立波の動重力,
平成10年度電気関係学会 四国支部連合大会, 34, 1998年10月.
123. 原 和正, 森 一郎, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
電子ビーム・プラズマ系におけるプラズマの電子的阻止能,
平成10年度電気関係学会 四国支部連合大会, 33, 1998年10月.
124. 小川 誠, 森 一郎, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
ビーム・プラズマにおける非線形分散式の研究,
平成10年度電気関係学会 四国支部連合大会, 32, 1998年10月.
125. 森 一郎, 森本 敏文, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
ビーム・プラズマ中での後進波の群速度の場所依存性と高周波放電への関連性,
日本物理学会中国四国支部,応用物理学会中国四国支部,平成10年度支部例会, Fa-4, 1998年8月.
126. 原 和正, 森 一郎, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
電子ビーム・プラズマ系での電子ビームの速度緩和現象とStopping Power,
日本物理学会中国四国支部,応用物理学会中国四国支部,平成10年度支部例会, Fa-3, 1998年8月.
127. 小川 誠, 森 一郎, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
プラズマ波動の非線形分散式の研究,
日本物理学会中国四国支部,応用物理学会中国四国支部,平成10年度支部例会, Fa-2, 1998年8月.
128. 川上 烈生, 森 一郎, 森本 敏文 :
電子ビーム・プラズマ相互作用で励起される高域混成波,
日本物理学会中国四国支部,応用物理学会中国四国支部,平成10年度支部例会, Fa-1, 1998年8月.
129. 森 一郎, 森本 敏文, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
プラズマ中の電子ビームのソリトン放出とビームの広がり,
第53回日本物理学会, 799, 1998年3月.
130. 川上 烈生, 森 一郎, 森本 敏文 :
電子ビーム・プラズマ系の高域混成波ソリトンの非線形ランダウ減衰,
第53回日本物理学会, 798, 1998年3月.
131. 森 一郎, 森本 敏文, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
三次の分極効果による輻射へのイオンの寄与と阻止能計算への期待,
平成9年度電気関係学会 四国支部連合大会, 52, 1997年10月.
132. 小川 誠, 森 一郎, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
ビーム・プラズマ相互作用への繰り込み法の適用,
平成9年度電気関係学会 四国支部連合大会, 51, 1997年10月.
133. 原 和正, 森 一郎, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
電子ビーム・プラズマ系での電子ビームの速度緩和現象,
平成9年度電気関係学会 四国支部連合大会, 50, 1997年10月.
134. 川上 烈生, 森本 敏文, 森 一郎 :
高域混成波ソリトンの不安定性,
平成9年度電気関係学会 四国支部連合大会, 49, 1997年10月.
135. 森 一郎, 森本 敏文, 川上 烈生, 富永 喜久雄 :
電子波ソリトンとイオン波ソリトンの相互作用,
第52回日本物理学会, 841, 1997年3月.
136. 川上 烈生, 森 一郎, 森本 敏文, 長谷部 慎 :
ビーム・プラズマ系の高域混成波ソリトンの安定性,
第52回日本物理学会, 834, 1997年3月.
137. 川上 烈生, 長谷部 慎, 森本 敏文, 森 一郎 :
高域混成波ソリトンの非線形ランダウ減衰,
平成8年度電気関係学会 四国支部連合大会, 31, 1996年10月.
138. 長谷部 慎, 森 一郎, 川上 烈生, 森本 敏文, 富永 喜久雄 :
高域混成波ソリトンの内部構造,
平成8年度電気関係学会 四国支部連合大会, 30, 1996年10月.
139. 川上 烈生, 生田 信皓 :
He中He^{+}イオンの換算移動度と相互作用ポテンシャル,
第51回日本物理学会, 132, 1996年3月.
140. 川上 烈生, 宮崎 隆史, 生田 信皓 :
イオン輸送特性 実効温度表示の問題点,
第51回日本物理学会, 131, 1996年3月.
141. 宮崎 隆史, 川上 烈生, 生田 信皓 :
イオン輸送特性のイオン-ガス質量比による変化,
平成7年度電気関係学会 四国支部連合大会, 35, 1995年11月.
142. 川上 烈生, 宮崎 隆史, 生田 信皓 :
12-4ポテンシャルにおけるイオン移動度特性,
平成7年度電気関係学会 四国支部連合大会, 36, 1995年11月.
143. 川上 烈生, 奥田 慎也, 生田 信皓 :
イオン移動度特性と相互作用ポテンシャル,
平成7年電気学会全国大会, 1-229, 1995年3月.
144. 川上 烈生, 奥田 慎也, 生田 信皓 :
Lennard-Jones Potentialによるイオン衝突周波数と輸送特性,
平成6年度電気関係学会 四国支部連合大会, 34, 1994年10月.
145. 川上 烈生, 生田 信皓 :
相互作用ポテンシャルと衝突断面積,
平成6年電気学会全国大会, 2-81, 1994年3月.

その他・研究会:

1. 芳谷 勇樹, 川上 烈生, 梶川 耕介, 白井 昭博, 東 知里 :
紫外線LED照射によるTiO2ナノ粒子の光触媒効果,
LED総合フォーラム2020 in 徳島, 85-86, 2020年2月.
2. 川上 烈生, 髙見 直樹, 芳谷 勇樹, 味元 勇樹, 東 知里, 宮脇 克行, 白井 昭博, 吉田 雅彦, 山路 諭 :
可視光LED照射下でのプラズマ支援アニーリングした光触媒TiO2ナノ粒子の鮮度保持効果,
LED総合フォーラム2020 in 徳島, 83-84, 2020年2月.
3. 川上 烈生, 宮脇 克行, 白井 昭博, 吉田 雅彦, 芳谷 勇樹, 髙見 直樹, 東 知里, 山路 諭 :
可視光LEDによる光触媒ナノ複合材シートの鮮度保持効果,
LED総合フォーラム2019 in 徳島, 77-78, 2019年2月.
4. 川上 烈生, 宮脇 克行, 白井 昭博, 東 知里, 芳谷 勇樹, 吉岡 誠人, 南 雄也, 山路 諭, 吉田 雅彦, 大西 和男, 大野 民之助 :
LED照射下での光触媒ナノ複合材の鮮度保持機能,
LED総合フォーラム2018 in 徳島, 125-126, 2018年2月.
5. 川上 烈生, 宮脇 克行, 白井 昭博, 東 知里, 芳谷 勇樹, 吉岡 誠人, 南 雄也, 山路 諭, 吉田 雅彦, 大西 和男, 大野 民之助 :
LED照射下での光触媒ナノ複合材の鮮度保持機能,
LED総合フォーラム2018 in 徳島, 125-126, 2018年2月.
6. 川上 烈生, 宮脇 克行, 白井 昭博, 東 知里, 冨士本 賢吾, 大塩 誠二, 山路 諭, 吉田 雅彦, 大西 和男, 大野 民之助, 松下 俊雄 :
LED光触媒ナノ粒子を使った鮮度保持技術の開発,
LED総合フォーラム2016 in 徳島, 157-160, 2016年12月.
7. 川上 烈生, 宮脇 克行, 白井 昭博, 東 知里, 冨士本 賢吾, 大塩 誠二, 山路 諭, 吉田 雅彦, 大西 和男, 大野 民之助, 松下 俊雄 :
LED光触媒ナノ粒子を使った鮮度保持技術の開発,
LED総合フォーラム2016 in 徳島, 157-160, 2016年12月.
8. 川上 烈生, 宮脇 克行, 白井 昭博, 東 知里, 冨士本 賢吾, 大塩 誠二, 山路 諭, 吉田 雅彦, 大西 和男, 大野 民之助, 松下 俊雄 :
LED光触媒ナノ粒子を使った鮮度保持技術の開発,
LED総合フォーラム2016 in 徳島, 157-160, 2016年12月.
9. 荒木 佑馬, 新部 正人, 川上 烈生, 竹平 徳崇, 中野 由崇 :
酸素プラズマ処理したTiO2薄膜のXPSおよびNEXAFS法による組成・ダメージと触媒活性の相関,
第52回X線分析討論会, 2016年10月.
10. 川上 烈生, 宮脇 克行, 玉谷 元, 東 知里, 宇野 久史, 大塩 誠二, 山路 諭, 吉田 雅彦, 大西 和男, 大野 民之助, 松下 俊雄 :
LED光触媒に基づく鮮度保持技術のスケールアップ化,
LED総合フォーラム2015 in 徳島, 117-120, 2015年12月.
11. 荒木 佑馬, 新部 正人, 川上 烈生, 竹平 徳崇, 中野 由崇 :
TiO2薄膜のプラズマ処理試料のXPS法による組成と触媒活性の相関,
第51回X線分析討論会, 2015年10月.
12. 川上 烈生, 宮脇 克行, 玉谷 元, 榎木 一史, 白濱 達夫, 大塩 誠二, 山路 諭, 吉田 雅彦, 前田 鎮廣 :
鮮度保持のためのLED光触媒技術に関する研究,
LED総合フォーラム2014-2015 in 徳島, 137-140, 2015年1月.
13. 川上 烈生, 高畑 麻里, 白濱 達夫, 大塩 誠二, 山路 諭, 播岡 好之, 吉田 雅彦, 荒巻 広至, 前田 鎮廣 :
LED光触媒技術を用いた果実の鮮度保持効果,
BioOpt Japan 2013, 2013年10月.
14. 川上 烈生, 高畑 麻里, 白濱 達夫, 大塩 誠二, 山路 諭, 播岡 好之, 吉田 雅彦, 荒巻 広至, 前田 鎮廣 :
LED光触媒技術を用いた果実の鮮度保持効果,
第3回次世代ものづくり基盤技術産業展 TECH Biz EXPO 2013, 2013年10月.
15. 新部 正人, 佐野 桂治, 川上 烈生, 中野 由崇 :
エッチングしたTiO2薄膜のTi-L NEXAFSに見られる乱れた構造の紫外線照射による回復,
第49回X線分析討論会, 2013年9月.
16. 川上 烈生, 板東 由季, 白濱 達夫, 大塩 誠二, 山路 諭, 播岡 好之, 吉田 雅彦, 荒巻 広至, 前田 鎮廣 :
LED光触媒による果実の新規汎用型鮮度保持技術の開発研究,
LED総合フォーラム2013 in 徳島, 77-78, 2013年4月.
17. 小高 拓也, 新部 正人, 川上 烈生, 中野 由崇, 向井 孝志 :
N2プラズマによるGaNエッチングダメージの分析,
第48回X線分析討論会, 2012年10月.
18. 新部 正人, 佐野 桂治, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 :
エッチングしたTiO2薄膜の軟X線照射による乱れた構造の回復,
第48回X線分析討論会, 2012年10月.
19. 川上 烈生, 武市 敦, 髙月 成俊, 大塩 誠二, 小倉 長夫, 小西 将士, 森 祐太, 桜間 健太郎, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
UV/OHラジカルジェット殺菌と可視光LED光触媒酸化還元による果実の鮮度保持技術,
LED総合フォーラム2012 in 徳島, 103-104, 2012年4月.
20. 川上 烈生, 武市 敦, 兒玉 宗久, 新居 厚子, 小倉 長夫, 小西 将士, 森 祐太, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
UV-LED光触媒酸化とプラズマジェット殺菌作用による果実の鮮度保持テクノロジーの研究開発,
LED総合フォーラム2011 in 徳島, 105-106, 2011年6月.
21. 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
希ガスプラズマでエッチングしたn-GaN結晶のNEXAFS測定によるダメージ解析,
2011先端技術セミナー,高度産業科学技術研究所主催, 65, 2011年3月.
22. 川上 烈生 :
果実の汎用型鮮度維持装置(JST成果の一部としてLED光触媒装置の出展参加),
徳島ビジネスチャレンジメッセ2010, 2010年10月.
23. 川上 烈生 :
LED光触媒酸化作用を用いた果実の汎用型鮮度保持技術の開発研究,
四国まるごと「食と健康」イノベーション2010∼四国の研究機関が集い「食と健康」リソースを発信∼, 2010年8月.
24. 川上 烈生, 福留 利章, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄 :
UV-LED光触媒反応によるクライマクテリック型果実の汎用型鮮度維持技術の開発研究,
LED総合フォーラム2010 in 徳島, 89-92, 2010年4月.
25. 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
プラズマエッチングしたGaN結晶のNEXAFS測定によるダメージ解析,
2010先端技術セミナー,高度産業科学技術研究所主催, 2010年3月.
26. 川上 烈生 :
果実の汎用型鮮度維持装置,
STイノベーションサテライト徳島 育成研究報告会 平成18年度採択育成研究課題報告, 2009年12月.
27. 川上 烈生 :
UV-LEDによる光触媒酸化作用を用いた果実の汎用型鮮度維持装置の開発研究,
第三回技術シーズ発表会 in 四国 ∼四国発!地域元気の取組みについて∼, 2009年11月.
28. 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 :
プラズマエッチングしたGaN結晶のN-K吸収計測によるダメージ解析,
第45回X線分析討論会, 2009年11月.
29. 下村 直行, 川上 烈生, 寺西 研二, 富永 喜久雄 :
導入教育・初年度教育に関する考察, --- 徳島大学電気電子工学科のアンケート結果から ---,
電気学会研究会資料, Vol.FIE-09, No.3, 41-46, 2009年8月.
30. 川上 烈生, 下村 直行, 富永 喜久雄, 井上 廉 :
電気電子工学科における新入生の学業実態 ∼アンケート分析∼,
徳島大学工学部FD工学教育シンポジウム2009, 27-33, 2009年3月.
31. 川上 烈生, 大宅 薫 :
計算機シミュレーションによるITERダイバータ板の損耗と再堆積,
平成12年度第3回PSI研究会「核融合装置におけるプラズマ対向材料の開発と評価」, 9-16, 2001年2月.
32. Jun Kawata, Kaoru Ohya and Retsuo Kawakami :
Monte Carlo Simulation of Ion Reflection, Physical Sputtering and Kinetic Electron Emission from Solid Due to Ion Impact,
詫間電波工業高等専門学校研究紀要, No.27, 73-88, Dec. 1999.
33. 川上 烈生, 大宅 薫, 河田 純 :
TEXTORにおけるW/Cツインテストリミターの相互汚染と不純物放出の計算機シミュレーション,
核融合科学研究所共同研究研究会「荷電粒子‐中性粒子‐材料複合系としてのダイバータ科学」, 1999年8月.
34. 川上 烈生, 奥田 慎也, 宮崎 隆史, 生田 信皓 :
イオン-中性粒子間の相互作用ポテンシャルとイオン輸送特性,
電気学会放電研究会, ED-95-49, 35-44, 1995年5月.

報告書:

1. 川上 烈生 :
紫外線/OHラジカルジェット殺菌と可視光LED光触媒酸化還元作用による果実の鮮度保持テクノロジー開発,
平成23年度JST研究成果最適展開支援プログラムA-STEP, フィージビリティスタディ【FS】ステージ探索タイプ, 日本, 2012年3月.
2. 川上 烈生 :
自己無撞着なアルゴンプラズマによる窒化ガリウムエッチングダメージの解析,
平成22年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2012年3月.
3. 一樂 浩之, 笠谷 武司, 田中 義浩, 衣斐 八束, 福井 明, 川上 烈生, 稲岡 武 :
果実殺菌のための紫外線/ラジカルジェットデバイスの開発研究,
財団法人 阿波銀行学術・文化振興財団,平成22年度(第15回)学術部門助成(地域共同研究助成, 日本, 2011年3月.
4. 川上 烈生 :
プラズマイオンと紫外光線のシナジー効果によるワイドギャップ半導体エッチングダメージの振舞い,
平成22年度先端工学教育研究プロジェクト, 日本, 2011年3月.
5. 川上 烈生 :
高周波キセノンプラズマによる自己無撞着な衝撃粒子エネルギー分布及び粒子束の解析,
平成22年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2011年3月.
6. 川上 烈生 :
分光計測(反射・透過・膜厚)システム一式,
徳島大学外部資金に係わる間接経費(学長裁量経費), 日本, 2010年3月.
7. 川上 烈生 :
UV-LEDによる薄膜系TiO2の光触媒反応活性化のための大気圧空気プラズマナノ表面処理技術の開発研究,
徳島大学研究連携推進機構(知的財産本部),産学連携研究者育成支援事業, 日本, 2010年3月.
8. 川上 烈生 :
高周波クリプトンプラズマによる自己無撞着な衝撃粒子エネルギー分布及び粒子束の解析,
平成21年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2010年3月.
9. 川上 烈生 :
UV-LEDによる光触媒酸化作用を用いた果実の汎用型鮮度維持装置の開発研究,
JSTイノベーションサテライト徳島,平成20年度シーズ発掘試験(A), 日本, 2009年3月.
10. 川上 烈生 :
UV-LEDと光触媒のシナジー効果による果実の鮮度維持技術の開発研究,
徳島大学研究連携推進機構(知的財産本部),産学連携研究者育成支援事業, 日本, 2009年3月.
11. 川上 烈生 :
高周波アルゴンプラズマによる衝撃粒子エネルギー分布と粒子束の解析,
平成20年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2009年3月.
12. 川上 烈生 :
窒化物系半導体デバイスのためのプラズマ誘因ダメージレスナノプロセス装置の研究開発,
平成20年度教育研究等支援事業(学長裁量経費)報告書, 日本, 2009年1月.
13. 川上 烈生 :
ワイドギャップ半導体用の高性能・低コスト・ドライ洗浄装置の開発,
JSTイノベーションサテライト徳島,平成19年度研究成果実用化検討(FS)研究報告書, 日本, 2008年4月.
14. 川上 烈生 :
紫外線LEDを利用した柑橘類の品質維持の可能性に関する研究,
財団法人 阿波銀行学術・文化振興財団,平成19年度(第12回)学術部門助成報告書, 日本, 2008年4月.
15. 川上 烈生 :
窒化物系半導体デバイスのためのプラズマ誘因ダメージレスナノプロセス装置の研究開発,
平成19年度教育研究等支援事業(学長裁量経費)報告書, 日本, 2008年3月.
16. 川上 烈生 :
高周波プラズマの自己組織化と材料損耗特性との相関性,
平成19年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2008年3月.
17. 川上 烈生 :
ITERのプラズマ対向壁材としてのタングステンの可能性に関する研究,
平成17-18年度科学研究費補助金, 若手研究(B), 日本, 2007年3月.
18. 川上 烈生 :
プラズマの自己組織化と材料の損耗特性との関連性に関する研究,
平成18年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2007年3月.
19. 川上 烈生 :
SOLプラズマ中の炭素不純物によるタングステン材表面の損耗変化に関する研究,
平成17年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2006年3月.
20. 川上 烈生 :
デタッチプラズマ照射下の炭素材から放出された炭素不純物の振舞いに関する研究,
平成16年度核融合科学研究所LHD数値解析システム利用共同研究報告書, 日本, 2005年3月.
21. 川上 烈生 :
リミタープラズマ照射によるタングステン材表面上の混成層の成長とその材料寿命への影響に関する研究,
平成15年度核融合科学研究所汎用計算機利用共同研究, 日本, 2004年3月.
22. 川上 烈生 :
炭素不純物を含むプラズマと固体壁との相互作用シミュレーション,
平成14年度核融合科学研究所汎用計算機利用共同研究, 日本, 2003年3月.

科学研究費補助金 (KAKEN Grants Database @ NII.ac.jp)

  • 熱アシスト大気圧酸素プラズマ処理した酸化チタンナノ粒子の光触媒反応性 (研究課題/領域番号: 20K03917 )
  • ワイドギャップ半導体のプラズマエッチングプロセスにおけるUV照射効果の解明 (研究課題/領域番号: 26390066 )
  • ITERのプラズマ対向壁材としてのタングステンの可能性に関する研究 (研究課題/領域番号: 17760667 )
  • 研究者番号(30314842)による検索